專利名稱：：堿性高錳酸鹽蝕刻液的再生方法及其所用單元的制作方法堿性高錳酸鹽蝕刻液的再生方法及其所用單元
背景技術(shù)：
：本發(fā)明涉及蝕刻液的再生和延長使用期的方法及其所用單元，其中所述蝕刻液使用了堿性高錳酸鹽蝕刻液或其廢液，具體而言，本發(fā)明涉及對堿性高錳酸鹽溶液或其廢液采用分批處理工藝以進行再生和延長使用期的方法及其所用單元。此外，本發(fā)明涉及堿性高錳酸鹽蝕刻液的再生方法，該方法使用了堿土氫氧化物(例如氫氧化鈣)，同時，本發(fā)明涉及生產(chǎn)和使用堿性高錳酸鹽溶液所需的堿金屬化合物(例如氫氧化鈉)的方法。迄今為止，人們已經(jīng)將堿性高錳酸鹽蝕刻液應(yīng)用于樹脂的蝕刻工藝，例如線路板的去鉆污工藝或粗化工藝。通常，當(dāng)為了建立電連續(xù)性而電鍍設(shè)置在線路板上的通孔時，會殘留切割碎屑(例如樹脂)，其會在形成通孔后干擾電連續(xù)性。所述去鉆污工藝是指通過該工藝在堿性高錳酸鹽蝕刻液中分解樹脂成分的工藝。此外，所述粗化工藝是指通過該工藝用堿性高錳酸鹽蝕刻液使樹脂絕緣層表面粗化的工藝。近來，人們采用了一種附加工藝，在該工藝中，將樹脂涂敷在內(nèi)層板的表面上，然后對樹脂直接進行電鍍，并在得到的表面上進行圖案蝕刻，從而制作出線路板。在這種附加工藝中，在進行電鍍工藝之前使絕緣層表面粗化，以增強樹脂絕緣層和鍍層之間的粘合作用。在使用堿性高錳酸鹽蝕刻液對樹脂進行蝕刻的工藝中，在堿性高錳酸鹽蝕刻液中，樹脂成分的碳(C)和堿性溶液中的氫氧根(OH—)與高錳酸發(fā)生下式U)所示的反應(yīng)，從而使樹脂成分分解。[式1]4Mn(V+40H-+C(有機樹月旨成分等)—4Mn042-+C02+2H20...(1)但是，在上述的現(xiàn)有技術(shù)中，當(dāng)持續(xù)使用堿性高錳酸鹽蝕刻液時，由樹脂中的碳產(chǎn)生的二氧化碳(co2)和空氣中存在的二氧化碳進入液體中發(fā)生如式(2)所示的反應(yīng)，從而使液體中的碳酸根離子增加。C02+20H-—C032-+H20...(2)結(jié)果，碳酸根離子在蝕刻液中積聚。另一方面，蝕刻所必需的氫氧根(OH—)的濃度降低。當(dāng)碳酸根離子在蝕刻液中積聚時，蝕刻液的使用期縮短。此外，當(dāng)蝕刻液中的氫氧根離子減少時，蝕刻能力降低。另外，通過中和滴定可以調(diào)控所述蝕刻液的堿度。然而，由于在中和滴定中不僅中和了氫氧根離子，還中和了碳酸根離子(C032—)，所以不能分析出精確的堿度，使得液體分析的精確度變差。這樣，當(dāng)堿性高錳酸鹽蝕刻液中的碳酸根離子濃度增加時，產(chǎn)生的問題在于蝕刻效率變差，并且很難分析出精確的氫氧根濃度。在使用堿性高錳酸鹽蝕刻液的蝕刻工藝中，可以引用以下的專利文獻作為與蝕刻液再生相關(guān)的
背景技術(shù)：
。專利文獻1(JP-ANo.06-6033)提出了一種工藝，該工藝可以保持蝕刻槽的穩(wěn)定性，抑制發(fā)生蝕刻缺陷，并且保持恒定的蝕刻速率。根據(jù)該方案，以預(yù)定的時間間隔從蝕刻槽以預(yù)定量對蝕刻液取樣，使用自動分析儀分析高錳酸鹽、氫氧化鈉和錳酸鹽的濃度，通過控制器計算上述分析值，并將用于將氫氧化鈉濃度控制在預(yù)定濃度的補充量轉(zhuǎn)移到氫氧化鈉定量泵中。此外，以恒定的時間間隔在蝕刻速率檢測池內(nèi)以預(yù)定量對蝕刻液取樣，在與所述被處理的物質(zhì)相同的體系中，通過循環(huán)泵使有機溶劑保持滴落，直到色度計測得的溶液顏色從紫紅色變?yōu)榫G色為止，由此在將蝕刻液中的高錳酸鹽的濃度保持在恒定范圍內(nèi)的同時，調(diào)控蝕刻槽內(nèi)的蝕刻速率。專利文獻2(JP-ANo.2000-13000)涉及高密度印刷電路板所需的樹脂的蝕刻工藝。在該蝕刻工藝中，當(dāng)為了用特定的處理液使作為反應(yīng)產(chǎn)物在溶液中積聚的碳酸根離子沉淀并將其除去以穩(wěn)定蝕刻液并延長其使用期時，當(dāng)蝕刻槽內(nèi)的堿性高錳酸鹽溶液是通過泵來循環(huán)時，將特定的溶液由管路中部注入，使作為反應(yīng)產(chǎn)物的碳酸根離子沉淀，并用過濾器過濾除去，使用自動分析儀檢測堿度以將其調(diào)節(jié)到預(yù)定的正常狀態(tài)，并用上述溶液對樹脂進行蝕刻。專利文獻3(JP-ANo.2001-156428)提出了一種在使用堿性高錳酸鹽蝕刻液的蝕刻工藝中提高蝕刻效率的方法。根據(jù)該方法，將堿性高錳酸鹽蝕刻液供入蝕刻槽內(nèi)，并在該蝕刻槽內(nèi)對待蝕刻的蝕刻物質(zhì)進行蝕刻。在反應(yīng)室內(nèi)，由加料箱加入氯化鋇，從而使其與碳酸根離子反應(yīng)生成作為難溶性鹽的碳酸鋇。使用超濾器使碳酸鋇與離子成分分離。JP-ANo.06-6033JP-ANo.2000-13000JP-ANo.2001-156428在屬于
背景技術(shù)：
文獻所述的蝕刻液的再生方法中，專利文獻l涉及使用堿性高錳酸鹽蝕刻液的蝕刻工藝。在這種再生方法中，需要采用諸如濃度分析、控制器計算和蝕刻速率測量之類的連續(xù)步驟，換言之，需要復(fù)雜的工藝來調(diào)控和處理蝕刻液。專利文獻2與專利文獻1的相同點在于使用堿性高錳酸鹽蝕刻液進行蝕刻。但是，該工藝是連續(xù)進行的，并且基本上使用諸如氯化鋇之類的鋇化合物。與上述相似，專利文獻3是使用堿性高錳酸鹽蝕刻液進行蝕刻的。該工藝過程連續(xù)進行，使用超濾器，并且基本上使用碳酸鋇?；诖朔矫妫景l(fā)明旨在提供堿性高錳酸鹽蝕刻液的再生方法，及其所用單元，該方法在使用堿性高錳酸鹽蝕刻液的蝕刻步驟中，可以簡單有效地再生蝕刻液，從而延長其使用期并減少有害廢液，以便抑制蝕刻效率變差。發(fā)明概述為了解決所述難題，本發(fā)明提供一種延長堿性高錳酸鹽蝕刻液的使用期的再生方法，該方法包括將用過的堿性高錳酸鹽蝕刻液供入反應(yīng)室內(nèi)，并將以氫氧化鈣為代表的堿土氫氧化物加入到反應(yīng)室內(nèi)；攪動所述反應(yīng)室內(nèi)部的液體；將所述液體從反應(yīng)室的側(cè)部或頂部通過過濾器排放；并從所述反應(yīng)室排出沉淀，該沉淀包括存積在所述反應(yīng)室底部的不能通過過濾器的難溶性或不溶性物質(zhì)。將氫氧化鈣或氫氧化鋇用作加入到所述反應(yīng)室內(nèi)的堿土氫氧化物。用刮板門(squeegeedoor)部分地刮掉附著在過濾器上的難溶性或不溶性物質(zhì)，所述刮板門是與液體排放部分的阻擋壁結(jié)合的。前述的堿性高錳酸鹽蝕刻液的再生方法還包括將從反應(yīng)室的液體排放部分排出的液體供入第二反應(yīng)室內(nèi)；沉淀出沉淀物，該沉淀物包括含于第二反應(yīng)室液體中的難溶性或不溶性物質(zhì)；從第二反應(yīng)室的側(cè)部或頂部通過第二過濾器排放所述液體；并從所述的第二反應(yīng)室排出沉淀，該沉淀包括存積在第二反應(yīng)室底部的不能通過第二過濾器的難溶性或不溶性物質(zhì)。用第二刮板門刮掉附著在第二過濾器上的難溶性或不溶性物質(zhì)，該第二刮板門是與第二液體排放部分的阻擋壁結(jié)合的。此外，本發(fā)明提供堿性高錳酸鹽蝕刻液的再生單元，該單元具有反應(yīng)室，用于接納用過的堿性高錳酸鹽蝕刻液，并向其中加入堿土氫氧化物；攪動元件，用于用泵攪動反應(yīng)室內(nèi)部的液體；液體排放部分，用于通過過濾器從反應(yīng)室的側(cè)部排放液體；以及沉淀排放部分，用于從反應(yīng)室內(nèi)排出沉淀，該沉淀包括存積在反應(yīng)室底部的不能通過過濾器的難溶性或不溶性物質(zhì)。堿性高錳酸鹽蝕刻液的再生單元還具有第二反應(yīng)室，用于接納由反應(yīng)室的液體排放部分排出的液體；第二液體排放部分，用于通過第二過濾器從第二反應(yīng)室的側(cè)部排放液體；以及第二沉淀排放部分，用于從第二反應(yīng)室內(nèi)排出沉淀，該沉淀包括存積在第二反應(yīng)室底部的不能通過第二過濾器的難溶性或不溶性物質(zhì)。所述過濾器由耐堿性高錳酸鹽蝕刻液和堿土氫氧化物的材料(例如不銹材料或四氟乙烯三聚物(tdtetrafluoroethylene))制成，并且其孔徑大體上為O.lpm到100pm。附圖簡要說明圖1是示出根據(jù)本發(fā)明的堿性高錳酸鹽蝕刻液的再生系統(tǒng)的示意圖。圖2是示出氫氧化物濃度和碳酸根濃度之間的關(guān)系的圖。發(fā)明詳述以下將參照附圖詳細說明本發(fā)明的實施方案。圖1為用于說明根據(jù)本發(fā)明的堿性高錳酸鹽蝕刻液的再生方法及其所用單元的示意性的系統(tǒng)圖。蝕刻槽10的內(nèi)部裝有堿性高錳酸鹽蝕刻液12，并且如上所述進行蝕刻工藝，例如對樹脂(例如線路板)的去鉆污工藝或粗化工藝。使用自動分析儀13分析蝕刻槽10內(nèi)堿性高錳酸鹽蝕刻液12中的錳(Mn)濃度和氫氧化鈉(NaOH)濃度，然后對這些值進行自動調(diào)節(jié)。如上所述，在對樹脂進行蝕刻的過程中，蝕刻槽10內(nèi)堿性高猛酸鹽蝕刻液12中的碳酸根離子濃度增加，從而使蝕刻效率變差。因此，在預(yù)定時間段之后，為了再生蝕刻液以延長其使用期，通過與蝕刻槽IO底部連通的管路15，使用閥VI和泵Pl將堿性高錳酸鹽蝕刻液12供入反應(yīng)室20內(nèi)。在反應(yīng)室20上設(shè)有自動加料器22，用于將諸如氫氧化鈣或氫氧化鋇之類的堿土氫氧化物自動加入到反應(yīng)室20內(nèi)，并且在所述實施方案中，將氫氧化鈣14的粉末或其水溶液自動加入到反應(yīng)室20內(nèi)用過的堿性高錳酸鹽蝕刻液12中。用與反應(yīng)室20側(cè)部連接的泵P2攪動反應(yīng)室20內(nèi)的液體24，其中，堿性高錳酸鹽蝕刻液12內(nèi)已加入氫氧化鈣14的粉末或其水溶液。反應(yīng)室20內(nèi)液體24中的沉淀26在反應(yīng)室20內(nèi)沉積，從而積聚在底部。在反應(yīng)室20排放側(cè)的側(cè)壁部位或上部的位置上，將用于通過過濾器28排放反應(yīng)室20內(nèi)的液體的排放口30和32設(shè)置在上下兩個位置處。過濾器28設(shè)有與排放口30和32的阻擋壁結(jié)合的刮板門34。當(dāng)液體24經(jīng)過過濾器28時，刮板門34可以按照箭頭標志A所示上下移動，以打開排放口30和32并刮掉附著在過濾器28上的沉淀26(含有難溶性物質(zhì)或不溶性物質(zhì))。排放口30和32通過各自的閥9200710107923.7說明書第5/14頁意圖。200710107923.7說明書第5/14頁意圖。圖2是示出氫氧化物濃度和碳酸根濃度之間的關(guān)系的圖。發(fā)明詳述以下將參照附圖詳細說明本發(fā)明的實施方案。圖1為用于說明根據(jù)本發(fā)明的堿性高錳酸鹽蝕刻液的再生方法及其所用單元的示意性的系統(tǒng)圖。蝕刻槽10的內(nèi)部裝有堿性高錳酸鹽蝕刻液12，并且如上所述進行蝕刻工藝，例如對樹脂(例如線路板)的去鉆污工藝或粗化工藝。使用自動分析儀13分析蝕刻槽10內(nèi)堿性高錳酸鹽蝕刻液12中的錳(Mn)濃度和氫氧化鈉(NaOH)濃度，然后對這些值進行自動調(diào)節(jié)。如上所述，在對樹脂進行蝕刻的過程中，蝕刻槽10內(nèi)堿性高猛酸鹽蝕刻液12中的碳酸根離子濃度增加，從而使蝕刻效率變差。因此，在預(yù)定時間段之后，為了再生蝕刻液以延長其使用期，通過與蝕刻槽IO底部連通的管路15，使用閥VI和泵Pl將堿性高錳酸鹽蝕刻液12供入反應(yīng)室20內(nèi)。在反應(yīng)室20上設(shè)有自動加料器22，用于將諸如氫氧化鈣或氫氧化鋇之類的堿土氫氧化物自動加入到反應(yīng)室20內(nèi)，并且在所述實施方案中，將氫氧化鈣14的粉末或其水溶液自動加入到反應(yīng)室20內(nèi)用過的堿性高錳酸鹽蝕刻液12中。用與反應(yīng)室20側(cè)部連接的泵P2攪動反應(yīng)室20內(nèi)的液體24，其中，堿性高錳酸鹽蝕刻液12內(nèi)已加入氫氧化V2和V3與第二反應(yīng)室40連通。通過泵P3將反應(yīng)室20內(nèi)的液體轉(zhuǎn)移到第二反應(yīng)室40內(nèi)。將用于通過過濾器42排放第二反應(yīng)室40內(nèi)的液體24的排放口44設(shè)置在第二反應(yīng)室40排放側(cè)的側(cè)壁部位或上部的位置上。過濾器42同樣設(shè)有與排放口44的阻擋壁結(jié)合的刮板門46。當(dāng)液體24經(jīng)過過濾器42時，刮板門46同樣可以按照箭頭標志B所示上下移動，以打開排放口44并刮掉附著在過濾器42上的沉淀26(含有難溶性物質(zhì)或不溶性物質(zhì))。排放口44設(shè)有泵P4，并且泵P4將第二反應(yīng)室40內(nèi)的液體24釋放到電解再生槽50內(nèi)。電解再生槽50設(shè)有電極52，并將六價錳氧化為七價錳(電解氧化)。使用泵P5使再生的蝕刻液12(其中諸如碳酸鹽之類的難溶或不溶物質(zhì)被除去，并且該溶液經(jīng)過電解氧化)通過再生液供應(yīng)通路54返回到蝕刻槽10中。用自動分析儀13(圖中未示出)再次分析并自動調(diào)節(jié)錳(Mn)和氫氧化鈉的濃度。將蝕刻槽10內(nèi)再生的堿性高錳酸鹽蝕刻液12用于蝕刻工藝(例如對樹脂(如線路板)的去鉆污工藝或粗化工藝)中。在反應(yīng)室20和第二反應(yīng)室40的底部分別設(shè)有門36和48，用于向下排出含有積聚的難溶性或不溶性物質(zhì)的沉淀26。在門36和48的底部設(shè)有沉淀26的排放槽56，該排放槽56的底壁57傾斜，從而使落下的沉淀26沿傾斜的底壁57下降，并從排放口58排出。在本發(fā)明的實施方案中，通過分批處理工藝使堿性高錳酸鹽蝕刻液12得到再生。換言之，在使用一段固定的時間之后，通過打開闊VI并操作泵Pl將蝕刻槽10內(nèi)的堿性高錳酸鹽蝕刻液供入反應(yīng)室20中。使用自動加料器22向供入反應(yīng)室20內(nèi)的堿性高錳酸鹽蝕刻液12中加入氫氧化鈣14的粉末或水溶液，然后用泵P2攪動。在攪動的過程中，反應(yīng)室20內(nèi)液體24中的沉淀26在反應(yīng)室20內(nèi)沉積，并積聚在反應(yīng)室20的底部。此后，當(dāng)刮板門34移動到高于上排放口30的部位從而打開上排放口30時，上閥門V2被打開并且泵P3被操作，反應(yīng)室20上部的液體24就會通過過濾器28和排放口30從反應(yīng)室20流入第二反應(yīng)室40內(nèi)。當(dāng)刮板門34上下移動時，附著在過濾器28上的含有難溶性或不溶性固體物質(zhì)的沉淀26被刮去。當(dāng)反應(yīng)室20內(nèi)的液體被排放達到上排放口30的位置時，刮板門34降到堵塞上排放口30的位置處，然后通過刮板門34打開下排放口32，此后再關(guān)閉上閥門V2并打開下閥門V3。因此，反應(yīng)室20的中部或下部的液體24通過過濾器28和排除口32從反應(yīng)室20流入第二反應(yīng)室40內(nèi)。相似地，當(dāng)刮板門34上下移動時，附著在過濾器28上的含有難溶性或不溶性固體物質(zhì)的沉淀26被刮去。當(dāng)反應(yīng)室20內(nèi)的液體被排放達到下排放口32的位置時，留在反應(yīng)室20底部附近的液體24主要含有沉淀26(該沉淀含有難溶性或不溶性固體物質(zhì))，并成為廢液。當(dāng)打開反應(yīng)室20底部的門36時，所述廢液落入下部的排放槽56中，沿斜壁57移到排放口58，并被排出。在第二反應(yīng)室40內(nèi)，將含有難溶性或不溶性固體物質(zhì)的殘余沉淀26從供入第二反應(yīng)室40內(nèi)的液體24中除去。換言之，將第二反應(yīng)室40內(nèi)的液體24停留預(yù)定的時間段，使殘余的沉淀26沉淀下來。在經(jīng)過預(yù)定的時間段后，打開刮板門42并操作泵P4，將第二反應(yīng)室40內(nèi)的液體24供入電解再生槽50內(nèi)。同時，刮板門46按照箭頭標志B所示上下移動，以刮掉沉淀26，該沉淀含有附著在過濾器42上的難溶性或不溶性固體物質(zhì)。當(dāng)?shù)诙磻?yīng)室40內(nèi)的液體24被排放達到排放口44的位置時，留在第二反應(yīng)室40底部附近的液體24成為含有沉淀26的廢液。當(dāng)打開第二反應(yīng)室40底部的門48時，所述廢液落入下部的排放槽56中，沿斜壁57下降，并從排放口58排出。也可以向第二反應(yīng)室40內(nèi)的液體24中再次加入氫氧化鈣14粉末，并且也可以再次加入其它沉淀劑。這樣，在本發(fā)明的實施方案中，從反應(yīng)室20或第二反應(yīng)室40的底層部位排出了不能通過過濾器28和42的含沉淀(即，難溶的碳酸鹽類)廢液。使用與阻擋壁結(jié)合的刮板門34和46刮掉部分附著在過濾器28和42上并在其上積聚的難溶性或不溶性物質(zhì)，并且使這些物質(zhì)向下沉落。如上所述，在涉及本發(fā)明實施方案的用于再生堿性高錳酸鹽蝕刻液并延長其使用期的方法及單元中，除去含有碳酸根的沉淀的操作不是通過連續(xù)處理進行的，而是通過將用過的蝕刻液轉(zhuǎn)移到分離的處理室(即，反應(yīng)室20或第二反應(yīng)室40)內(nèi)進行的，從而使廢液重新回到完全可用的狀態(tài)，即再生狀態(tài)。換言之，各單元分批處理廢液。[實施例1]實施例1示出在堿性高錳酸鹽蝕刻液中的碳酸根濃度較低的情況(其中，碳酸根(為Na2C03)的濃度二27.6g/L，并加入相對于Na2C03為1當(dāng)量的Ca(OH)2)。然后，將碳酸根濃度為27.6g/L的100mL高錳酸溶液取樣并置于燒杯中，向其中加入2.190g氫氧化鈣(95+%)，然后用磁力攪拌器(被稱為攪拌子)在室溫下攪動l小時，再在室溫下放置2小時。此后，將留在燒杯底部的沉淀用G4玻璃過濾器抽濾。分離出的沉淀重為68.9g(包括水)，并且FT-IR分析(使用傅立葉變換的紅外吸收分析)的結(jié)果發(fā)現(xiàn)幾乎全部的沉淀都是碳酸鹽。濾液中碳酸根的濃度降到8.5g/L，pH為13.5，七價錳離子的濃度為40.6g/L，而六價錳離子的濃度為10.5g/L。這些值與處理前的溶液的值基本相同。以上表明，通過加入氫氧化鈣可以除去去鉆污性能變差的高錳酸溶液中的超過70%到80%的碳酸根。下式(3)示出了化學(xué)反應(yīng)式。[式3]Na2C03+Ca(OH)2—CaC03I+2NaOH…(3)下表1示出了當(dāng)氫氧化鈣濃度相對于處理前的碳酸根濃度變化時得到的結(jié)果。表1碳酸根濃度為27.6g/L的處理液所得到的結(jié)果<table>tableseeoriginaldocumentpage13</column></row><table>在使用氫氧化鈣進行處理的情況下，當(dāng)兩次加入0.5當(dāng)量的氫氧化鈣時，雖然碳酸根基本上減少70%，但是Ca濃度卻升高到基本上為10ppm。另一方面，當(dāng)一次加入1當(dāng)量的氫氧化鈣時，碳酸根基本上減少70%到80%，并且Ca濃度可被限制在基本上為7ppm這樣低。在碳酸鹽的濃度較低的情況下，當(dāng)施加1到1.5當(dāng)量的氫氧化鈣進行分批處理工藝時，碳酸根可以減少70%到80%，并且Ca濃度可以保持在基本上為10ppm或更低。此外，當(dāng)一次性加入2當(dāng)量的氫氧化鈣時，雖然碳酸根可以被大量減少，但是Ca濃度卻高達15ppm或更高。因此，作為最佳工藝，當(dāng)使用濃度為1到1.5當(dāng)量的氫氧化鈣進行一次性分批處理工藝時，碳酸根可減少70%到80%。在這種情況下，成為雜質(zhì)的Ca的濃度可以被抑制在基本上為7ppm到13ppm的這樣少的水平。[實施例2]實施例2示出了堿性高錳酸鹽蝕刻液中的碳酸根濃度較髙的情況(其中，碳酸根濃度418.7g/L，并加入1當(dāng)量的Ca(OH)2)。首先，將碳酸根濃度為118.7g/L的lOOmL高錳酸溶液取樣并置于燒杯中，向其中加入8.793g氫氧化鈣(95+%)，然后用攪拌子在室溫下攪動l小時，再在室溫下放置2小時。此后，將留在燒杯底部的沉淀用G4玻璃過濾器抽濾。采用與實施例1相同的方法分析的結(jié)果表明分離出的沉淀重為34.8g(包括水)，并且?guī)缀跞康某恋矶际翘妓猁}。濾液中碳酸根的濃度降到23.3g/L，pH為13.7，七價錳離子的濃度為65.3g/L，而六價錳離子的濃度為18.7g/L。這些值與處理前的溶液的值基本相同。下表2示出了當(dāng)氫氧化鈣濃度相對于處理前的碳酸根濃度變化時得到的結(jié)果。<table>tableseeoriginaldocumentpage15</column></row><table>在使用氫氧化鈣進行處理的情況下，當(dāng)兩次加入0.5當(dāng)量的氫氧化鈣時，雖然碳酸根基本上減少了70%，但是Ca濃度卻升高到15ppm。此外，當(dāng)一次加入1當(dāng)量的氫氧化鈣時，碳酸根基本上減少了80%，并且Ca濃度被限制在基本上為4ppm這樣低。在碳酸鹽的濃度也高達最大值的情況下，當(dāng)使用1到1.5當(dāng)量的氫氧化鈣進行分批處理工藝時，碳酸根可以基本上減少80%，并且Ca濃度可以保持在基本上為10卯m或更低。實施例3示出了堿性高錳酸鹽蝕刻液中碳酸鹽濃度為中等程度并且使用八水氫氧化鋇進行處理的情況(碳酸根-40g/L，并且兩次使用0.5當(dāng)量的八水氫氧化鋇)。首先，將碳酸根濃度為40g/L的100mL高錳酸溶液取樣并置于燒杯中，向其中加入9.268g八水氫氧化鋇，然后用攪拌子在室溫下攪動10分鐘，再放置過夜。次日，將留在燒杯底部的沉淀用G4玻璃過濾器抽濾。當(dāng)用FT-IR分析分離出的沉淀時，發(fā)現(xiàn)其為碳酸鹽。濾液中碳酸根的濃度降為31.8g/L，溶液的pH為13.5，七價錳離子的濃度為65.5g/L，而六價錳離子的濃度為5.2g/L。上述值在處理前的碳酸根濃度為40g/L的高錳酸溶液中為pH為13.8，七價錳離子的濃度為67.8g/L，六價錳離子的濃度為12.2g/L。換言之，除了六價錳離子的濃度外的所有值都基本相同。此外，相似地，再將4.634g八水氫氧化鋇加入到50mL經(jīng)過一次處理的高錳酸溶液中，然后在室溫下同樣攪動IO分鐘，再放置過夜，然后仍用G4玻璃過濾器抽濾。濾液的pH為13.6，七價錳離子的濃度為62.3g/L，而六價錳離子的濃度為4.6g/L。這些值表明，雖然與處理前的高錳酸溶液相比，錳的濃度稍微降低，但是，pH卻幾乎沒變。濾液中的碳酸根濃度降為25.4g/L。當(dāng)使用氫氧化鋇進行處理時，第一次處理時溶液中的Ba濃度為0.56ppm，第二次處理時溶液中的Ba濃度為0.67ppm，即，Ba離子幾乎都溶解在溶液中。在實施例3中，在使用八水氫氧化鋇進行處理的情況下，化學(xué)反應(yīng)式如下式(4)所示。Na2C03+Ba(OH)2.8H20—BaC03I+2NaOH+8H20...(4)[實施例4]實施例4示出了堿性高猛酸鹽蝕刻液中碳酸根濃度為中等程度并且使用氫氧化鈣進行處理的情況(碳酸根-40g/L，并兩次使用0.5當(dāng)量的氫氧化鈣)。首先，將碳酸根濃度為40g/L的lOOmL高錳酸溶液取樣并置于燒杯中，向其中加入2.174g氫氧化鈣，然后用攪拌子在室溫下攪動IO分鐘，再放置過夜。次日，將留在燒杯底部的沉淀用G4玻璃過濾器抽濾。當(dāng)用FT-IR分析分離出的沉淀時，發(fā)現(xiàn)其為碳酸鹽。濾液中碳酸根的濃度降為23.3g/L，溶液的pH為13.6，七價錳離子的濃度為66.3g/L，而六價錳離子的濃度為11.1g/L。上述值在處理前的碳酸根濃度為40g/L的高錳酸鹽溶液中為pH為13.8，七價錳離子的濃度為67.8g/L，六價錳離子的濃度為12.2g/L。換言之，所有值在處理前和處理后都基本相同。此外，相似地，進一步將1.104g氫氧化鈣加入到50mL經(jīng)過一次處理的高錳酸溶液中，然后在室溫下同樣攪動10分鐘并放置過夜，然后再用G4玻璃過濾器抽濾。濾液的pH為13.6，七價錳離子的濃度為66.9g/L，而六價錳離子的濃度為11.7g/L。這些值表明，雖然與處理前的高錳酸溶液相比，錳的濃度稍微降低，但是，pH等值卻幾乎沒變。濾液中的碳酸根濃度降為8.5g/L。當(dāng)使用氫氧化鈣進行處理時，第一次處理時溶液中的Ca濃度為3.64卯m，第二次處理時溶液中的Ca濃度為5.64ppm，艮卩，Ca離子幾乎不溶解在溶液中。如上所述，無論是何種廢液(其中蝕刻液的碳酸鹽濃度為低濃度水平)，當(dāng)用氫氧化鈣進行處理時，只要使其為中濃度水平或高濃度水平，就可獲得優(yōu)良的結(jié)果。在使用氫氧化鈣進行處理的情況下，當(dāng)兩次加入0.5當(dāng)量的氫氧化鈣時，雖然碳酸根基本上減少了70%到80%，但是Ca濃度卻升高到基本上為15ppm。另一方面，當(dāng)一次加入1當(dāng)量的氫氧化鈣時，碳酸根基本上減少了70%到80%，并且Ca濃度被限制在比進行兩次處理得到的Ca濃度低的水平。在最佳條件下，當(dāng)將1到1.5當(dāng)量的氫氧化鈣一次性加入到碳酸根為中等濃度水平的堿性高錳酸鹽蝕刻液中以進行分批工藝時，碳酸根可以減少70%到80%，并且Ca濃度保持在基本為10ppm或更低。還發(fā)現(xiàn)，當(dāng)用氫氧化鈣進行處理時，可以比使用八水氫氧化鋇進行處理時的情況更有效地除去碳酸根。此外，由于氫氧化轉(zhuǎn)比八水氫氧化鋇的化學(xué)價格更低，所以還可以降低成本。圖2示出了沉淀劑加入量(氫氧化物濃度)與碳酸根量(碳酸根濃度)的關(guān)系。從環(huán)境和毒性的角度而言，認為所希望的是通常使用鈣化合物，更具體而言，鈣的氫氧化物被優(yōu)選加入，以除去堿性高錳酸鹽蝕刻液中的碳酸根。此外，如式(3)所示，在用氫氧化物除去碳酸根的方法中，可以產(chǎn)生堿性高錳酸鹽蝕刻液所必需的堿金屬氫氧化物作為副產(chǎn)物。因此，當(dāng)再生所述堿性高錳酸鹽蝕刻液時，可以減少加入的堿的量。除此之外，雖然將氫氧化鈣用于上述實施方案的工藝中，但是，本發(fā)明也可以使用堿土氫氧化物、堿土鹵化物、或堿土氧化物等。參考附圖對本發(fā)明的實施方案進行了說明。但是，本發(fā)明不局限于所述的實施方案，在不脫離本發(fā)明的實質(zhì)和范圍的條件下，可以對本發(fā)明進行各種變化、修改或更改。如上所述，根據(jù)本發(fā)明，在使用堿性高錳酸鹽蝕刻液的蝕刻工藝中，可以有效地再生蝕刻液，并且其結(jié)果為提高了蝕刻效率。因此，優(yōu)選的是，可將本發(fā)明用于對線路板所用的樹脂進行的去鉆污工藝或粗化工藝中。也就是說，可在較寬的領(lǐng)域方便地利用本發(fā)明，所述領(lǐng)域例如有樹脂半導(dǎo)體封裝、印刷線路板、陶瓷/樹脂導(dǎo)體(混雜樹脂)基材、互連導(dǎo)電物、汽車部件以及裝飾件。權(quán)利要求1.一種堿性高錳酸鹽蝕刻液的再生方法，該方法包括以下步驟將用過的堿性高錳酸鹽蝕刻液供入反應(yīng)室內(nèi)，并將堿土氫氧化物加入到該反應(yīng)室內(nèi)；攪動所述反應(yīng)室內(nèi)的液體；從所述反應(yīng)室的側(cè)部或頂部通過過濾器排放所述液體；以及從所述反應(yīng)室排出沉淀，該沉淀包括存積在所述反應(yīng)室底部的不能通過所述過濾器的難溶性或不溶性物質(zhì)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蝕刻液的再生方法，其中，將氫氧化鈣或氫氧化鋇用作加入到所述反應(yīng)室內(nèi)的堿土氫氧化物。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蝕刻液的再生方法，其中，用刮板門部分地刮掉附著在所述過濾器上的所述難溶性或不溶性物質(zhì)，所述刮板門是與液體排放部分的阻擋壁結(jié)合的。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蝕刻液的再生方法，該方法還包括以下步驟將從所述反應(yīng)室的液體排放部分排出的液體供入第二反應(yīng)室內(nèi)；沉淀出沉淀物，該沉淀物包括含于所述第二反應(yīng)室液體中的難溶性或不溶性物質(zhì)；從所述第二反應(yīng)室的側(cè)部通過第二過濾器排放液體；以及從所述第二反應(yīng)室排出沉淀，該沉淀包括存積在所述第二反應(yīng)室底部的不能通過所述第二過濾器的難溶性或不溶性物質(zhì)。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的蝕刻液的再生方法，其中，用第二刮板門刮掉附著在所述第二過濾器上的難溶性或不溶性物質(zhì)，所述第二刮板門是與第二液體排放部分的阻擋壁結(jié)合的。6.—種堿性高錳酸鹽蝕刻液的再生單元，其具有反應(yīng)室，用于接納用過的堿性高錳酸鹽蝕刻液，并向其中加入堿土氫氧化物；攪動元件，用于攪動所述反應(yīng)室內(nèi)的液體；液體排放部分，用于從所述反應(yīng)室的側(cè)部或頂部通過過濾器排放液體；以及沉淀排放部分，用于從所述反應(yīng)室內(nèi)排出沉淀，該沉淀包括存積在所述反應(yīng)室底部的不能通過所述過濾器的難溶性或不溶性物質(zhì)。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的蝕刻液的再生單元，其還具有刮板門，用于部分地刮掉附著在所述過濾器上的難溶性或不溶性物質(zhì)，并且該刮板門是與所述液體排放部分的阻擋壁結(jié)合的。8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的蝕刻液的再生單元，其還具有第二反應(yīng)室，用于接納從所述反應(yīng)室的液體排放部分排出的液體；第二液體排放部分，用于從所述第二反應(yīng)室的側(cè)部或頂部通過第二過濾器排放液體；以及第二沉淀排放部分，用于從所述第二反應(yīng)室內(nèi)排出沉淀，該沉淀包括存積在所述第二反應(yīng)室底部的不能通過所述第二過濾器的難溶性或不溶性物質(zhì)。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的蝕刻液的再生單元，其還具有第二刮板門，用于刮掉附著在所述第二過濾器上的難溶性或不溶性物質(zhì)，并且該第二刮板門是與所述第二液體排放部分的阻擋壁結(jié)合的。10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的蝕刻液的再生單元，其中，所述過濾器由耐堿性高錳酸鹽蝕刻液和堿土氫氧化物的、諸如不銹材料或含氟樹脂之類的材料制成，并且其孔徑大體上為O.lpm到lOO)nm，其中所述的含氟樹脂為例如四氟乙烯三聚物。全文摘要將用過的堿性高錳酸鹽蝕刻液(12)供入反應(yīng)室(20)內(nèi)，并將諸如氫氧化鈣之類的堿土氫氧化物(14)加入到反應(yīng)室中，攪動反應(yīng)室內(nèi)部的液體，從反應(yīng)室的側(cè)部或頂部通過過濾器(28)排放液體，刮掉附著在所述過濾器上的沉淀(26)，并從反應(yīng)室排出沉淀，該沉淀含有不能通過過濾器的并積聚在反應(yīng)室底部的難溶性或不溶性物質(zhì)。文檔編號C09K13/04GK101186826SQ20071010792公開日2008年5月28日申請日期2007年5月15日優(yōu)先權(quán)日2006年11月24日發(fā)明者中村紀和,中澤昌夫,宮本秀一,宮澤賢二,齊藤學(xué)申請人:新光電氣工業(yè)株式會社