專利名稱：一種拋光打磨組件的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種噴涂組件設(shè)備，尤其是涉及一種拋光打磨組件。
背景技術(shù)：
目前，國(guó)內(nèi)高光噴涂應(yīng)用技術(shù)的一次合格率只有50%或更低，報(bào)廢率高，導(dǎo)致原材 料浪費(fèi)多和設(shè)備利用率低。另外，噴涂工藝會(huì)有危廢排放，生產(chǎn)效率低直接導(dǎo)致污染排放 多，造成環(huán)境維護(hù)重?fù)?dān)。

發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的就是為了克服上述現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷而提供一種提高合格
率、節(jié)約原料、降低環(huán)境負(fù)擔(dān)的拋光打磨組件。 本實(shí)用新型的目的可以通過以下技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn) —種拋光打磨組件，其特征在于，該組件包括正常噴漆流程后檢測(cè)組件，分選打磨
組件及拋光組件，所述的檢測(cè)組件一邊連接分選打磨組件，另一邊連接拋光組件。 所述的檢測(cè)組件包括目檢系統(tǒng)。 與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型具有以下優(yōu)點(diǎn) (1)提高了產(chǎn)品的合格率； (2)節(jié)約了原材料及設(shè)備能力； (3)降低了環(huán)境負(fù)擔(dān)。

圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖2為使用本裝置的流程圖。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。 實(shí)施例 高光噴漆拋光打磨組件，其結(jié)構(gòu)如圖l所示，該組件包括正常噴漆流程后檢測(cè)組 件，分選打磨組件及拋光組件，檢測(cè)組件一邊連接分選打磨組件，另一邊連接拋光組件，該 檢測(cè)組件為目檢系統(tǒng)。 使用該組件的流程圖如圖2所示，檢測(cè)組件連接在正常噴涂流程之后，通過檢測(cè) 組件挑選出合格品，小顆粒不合格產(chǎn)品經(jīng)拋光組件拋光，然后再通過檢測(cè)組件檢測(cè)，不合格 品經(jīng)過分選打磨組件進(jìn)行打磨，除去樣品上的第二層面漆，然后再次進(jìn)入噴漆工藝流程，經(jīng) 檢測(cè)組件檢測(cè)得到合格產(chǎn)品，不合格產(chǎn)品經(jīng)過拋光組件及檢測(cè)組件進(jìn)行檢樣合格，通過上 述3個(gè)步驟，使樣品外觀品質(zhì)達(dá)到要求。 經(jīng)檢測(cè)組件進(jìn)行第一步檢測(cè)出的其他大顆粒不合格樣品經(jīng)過分選打磨組件進(jìn)行打磨，除去樣品上的第二層面漆，然后再次經(jīng)檢測(cè)組件檢測(cè)得到合格產(chǎn)品，不合格產(chǎn)品經(jīng)過 拋光組件及檢測(cè)組件進(jìn)行檢樣合格，通過上述2個(gè)步驟，使樣品外觀品質(zhì)達(dá)到要求。
權(quán)利要求一種拋光打磨組件，其特征在于，該組件包括正常噴漆流程后的檢測(cè)組件，分選打磨組件及拋光組件，所述的檢測(cè)組件一邊連接分選打磨組件，另一邊連接拋光組件。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種拋光打磨組件，其特征在于，所述的檢測(cè)組件包括目檢 系統(tǒng)。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種拋光打磨組件，該組件包括噴漆部件檢測(cè)、噴漆不良品打磨及噴漆部件的拋光三個(gè)部分，與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型大幅提高了產(chǎn)品的合格率，節(jié)約了原材料及設(shè)備能力，降低了環(huán)境負(fù)擔(dān)。
文檔編號(hào)B05C21/00GK201537581SQ20092021433
公開日2010年8月4日 申請(qǐng)日期2009年11月27日 優(yōu)先權(quán)日2009年11月27日
發(fā)明者劉朋偉, 李汝嘉, 菲迪克, 裴民 申請(qǐng)人:德爾福電子(蘇州)有限公司