專利名稱：用于精細玻璃基板鍍膜前處理的拋光組合物的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種精細玻璃基板鍍膜前處理用組合物，具體地說，涉及一種鍍膜前 處理工藝中的拋光組合物。
背景技術：
隨著科學技術的發(fā)展進步，各種光學儀器如航空攝影，紫外與紅外光譜儀器、數(shù)碼 相機、太陽能薄膜技術發(fā)展對光學玻璃的性能提出了更高的要求。真空鍍膜已經(jīng)成為材料 表面改性的一個極其重要的方面，是玻璃深加工的主要手段之一。通過在精細玻璃基板上 完成各種金屬、介質材料的鍍膜，以及對膜層設計工藝過程等可以賦予玻璃不同的用途，如 用做平板電視、顯示器等終端顯示設備，移動通訊領域的觸摸屏等。由于各種新品種光學玻璃在加工或使用性能上或多或少地存在著缺陷，因此在研 究擴展光學玻璃領域的同時，還針對改善各種新品種光學玻璃的物理和物理化學性質，以 及生產(chǎn)工藝進行了許多工作。在玻璃基片上沉積大面積各種功能的膜層已經(jīng)形成巨大的產(chǎn) 業(yè)化規(guī)模，但是，我國鍍膜玻璃的膜層質量與進口產(chǎn)品相比有著一定的差距，尤其在膜層的 附著力方面。針孔是影響膜層附著力的主要因素之一，針孔產(chǎn)生的原因有(1)在帶鍍的基片 上存在粉塵顆粒，顆粒的存在阻擋了膜材的沉積；( 在基片上存在油漬或其他嚴重影響 膜層與基片結合力的污漬。為了避免上述情況，同時提高膜層的附著力，玻璃鍍膜前要進行一系列的前處理 的工作。根據(jù)不同的用途，先用氧化鈰拋光液對玻璃基板進行拋光，然后超聲清洗。但是拋 光過程中氧化鈰顆粒會嵌入到玻璃基板上，在后續(xù)清洗中不能完全去除，嚴重影響鍍膜玻 璃的質量。另外，目前鍍膜玻璃都要用一個月以內(nèi)的新鮮玻璃，這是因為玻璃在存放的過程 中，表面由于環(huán)境濕度大等原因，產(chǎn)生不同程度的霉變，俗稱“白斑”，這也成為玻璃鍍膜工 藝的一個障礙。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是克服現(xiàn)有技術的不足之處，提供一種用于精細玻璃基板鍍膜前處 理的拋光組合物。本發(fā)明的用于精細玻璃基板鍍膜前處理的拋光組合物，按照重量百分比包括 二氧化硅磨料30-40wt %、有機堿0. 01-5wt %、復合表面活性劑0. 01 -0. 5wt %、切水劑 0. 01-0. 5wt%，余量為去離子水；其中，所說的磨料為粒徑100-180nm、濃度為30_50wt%的二氧化硅溶膠；所說的有機堿性選自季銨強堿、二胺堿和醇胺堿中的一種或多種；所說的復合表面活性選自十二烷基二甲基胺乙內(nèi)酯、失水山梨醇聚氧乙烯醚酯或 嵌段聚氧乙烯-聚氧丙烯醚中的一種或多種；
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所說的切水劑選自3-甲氧基-3甲基-1-丁醇、3-甲氧基-2甲基戊醇、二乙 二醇丁醚、二乙二醇單甲醚中的一種或多種。優(yōu)選地，所說的復合表面活性選自十二烷基二甲基胺乙內(nèi)酯和失水山梨醇聚氧乙烯醚酯， 兩者重量百分比為1 1。所說的復合表面活性選自十二烷基二甲基胺乙內(nèi)酯和失水山梨醇聚氧乙烯醚酯， 兩者重量百分比為1 2.5。所說的復合表面活性選自十二烷基二甲基胺乙內(nèi)酯和嵌段聚氧乙烯-聚氧丙烯 醚，兩者重量百分比為1 5。所說的復合表面活性選自十二烷基二甲基胺乙內(nèi)酯和嵌段聚氧乙烯-聚氧丙烯 醚，兩者重量百分比為1 2。所說的的去離子水的電導率為5-lOuc/cm。本發(fā)明的拋光組合物可針對精細玻璃的不同用途，拋光時可將上述拋光組合物按 照不同的稀釋比例，在不同的拋光參數(shù)條件下對精細玻璃基板進行拋光當拋光組合物稀 釋后硅溶膠濃度在10%以下時，采用較大拋光轉速和較大流量進行拋光，拋光5-lOmin， 然后用去離子水拋光anin，拋光組合物稀釋后硅溶膠濃度在15-20%時，采用較小拋光 轉速和較小流量進行拋光，拋光時間為10-15min，然后用去離子水拋光aiiin。在較大拋 光轉速為60-80rpm，較大流量為100-150ml/min ；較小拋光轉速為30_60rpm，較小流量為 80-100ml/min。本發(fā)明具有如下技術效果1)傳統(tǒng)氧化鈰拋光時，由于磨料棱角的存在而在壓力作用下嵌入到玻璃中，難以 去除，而本發(fā)明的拋光組合物中使用了外形規(guī)整(球形或近似球形)的大粒徑硅溶膠粒子， 沒有棱角，這樣拋光時便不會嵌入到玻璃基板表面；同時由于硅溶膠粒子表面吸附的“雙電 層”，避免了磨料在玻璃基板表面的吸附，拋光結束時能使拋光液等雜質快速脫離精細玻璃 基板表面，形成干凈清潔的表面，可直接用于玻璃鍍膜工藝中，提高了生產(chǎn)效率；2)拋光液中的有機堿結合水中的H+，釋放出的0H—，直接對玻璃表面的Si-O鍵親核 進攻，拋光時在一定的轉速和壓力下，可去除被灰塵、油漬污染玻璃表層，故可有效去除精 細玻璃基板表面吸附的灰塵、油漬等，露出干凈表面，同時賦予玻璃基板表面合適粗糙度， 有利于提高膜層與玻璃基板之間的附著力，提高膜層質量，經(jīng)檢測膜層的附著力，臨界載荷 為10N，附著力較好，可與外國進料玻璃相媲美。3)拋光液中的表面活性劑和切水劑可有效降低玻璃基板的表面張力，在拋光作用 下，可消除玻璃不同程度的“霉變”，陽離子表面活性劑具有一定的防腐殺菌能力，可改變細 菌細胞膜的透過性，破壞細菌吸收養(yǎng)料的途徑，從而起到殺菌效果；切水劑具有的生物降解 性能，拋光液使用后可自行降解，環(huán)境友好。


圖1為用實施例1制備的拋光液拋光后玻璃表面放大倍數(shù)60倍的顯微鏡圖；圖2為用實施例2制備的拋光液拋光后玻璃表面放大倍數(shù)60倍的顯微鏡圖；圖3為用實施例3制備的拋光后玻璃表面放大倍數(shù)60倍的顯微鏡圖。
具體實施例方式下面結合具體實施方式
和附圖來對本發(fā)明作進一步地詳細說明。實施例1配置IOOOg用于精細玻璃基板鍍膜前處理的拋光組合物，組分和重量百分比如 下
權利要求
1.用于精細玻璃基板鍍膜前處理的拋光組合物，其特征在于，按照重量百分比包 括二氧化硅磨料30-40wt%、有機堿0. 01-5wt%、復合表面活性劑0. 01-0. 5wt%、切水劑 0. 01-0. 5wt%，余量為去離子水；其中，所說的磨料為粒徑100-180nm、濃度為30_50wt%的二氧化硅溶膠；所說的有機堿性選自季銨強堿、二胺堿和醇胺堿中的一種或多種；所說的復合表面活性選自十二烷基二甲基胺乙內(nèi)酯、失水山梨醇聚氧乙烯醚酯或嵌段 聚氧乙烯-聚氧丙烯醚中的一種或多種；所說的切水劑選自3-甲氧基-3甲基-1-丁醇、3-甲氧基-2甲基-1-戊醇、二乙二醇 丁醚、二乙二醇單甲醚中的一種或多種。
2.根據(jù)權利要求1所述的用于精細玻璃基板鍍膜前處理的拋光組合物，其特征在于， 所說的復合表面活性選自十二烷基二甲基胺乙內(nèi)酯和失水山梨醇聚氧乙烯醚酯，兩者重量 百分比為1 :1。
3.根據(jù)權利要求1所述的用于精細玻璃基板鍍膜前處理的拋光組合物，其特征在于， 所說的復合表面活性選自十二烷基二甲基胺乙內(nèi)酯和失水山梨醇聚氧乙烯醚酯，兩者重量 百分比為1 2. 5。
4.根據(jù)權利要求1所述的用于精細玻璃基板鍍膜前處理的拋光組合物，其特征在于， 所說的復合表面活性選自十二烷基二甲基胺乙內(nèi)酯和嵌段聚氧乙烯-聚氧丙烯醚，兩者重 量百分比為1:5。
5.根據(jù)權利要求1所述的用于精細玻璃基板鍍膜前處理的拋光組合物，其特征在于， 所說的復合表面活性選自十二烷基二甲基胺乙內(nèi)酯和嵌段聚氧乙烯-聚氧丙烯醚，兩者重 量百分比為1:2。
6.根據(jù)權利要求1所述的用于精細玻璃基板鍍膜前處理的拋光組合物，其特征在于， 所說的去離子水的電導率為5-lOuc/cm。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種用于精細玻璃基板鍍膜前處理的拋光組合物，其特征在于，按照重量百分比包括二氧化硅磨料30-40wt%、有機堿0.01-5wt%、復合表面活性劑0.01-0.5wt%、切水劑0.01-0.5wt%，余量為去離子水。本發(fā)明具有如下技術效果在不同的拋光參數(shù)條件下對精細玻璃基板進行拋光可有效去除精細玻璃基板表面吸附的灰塵、油漬等，避免了傳統(tǒng)氧化鈰拋光后磨料粒子的殘留給后期玻璃鍍膜工藝中造成的膜層附著力不好的影響，拋光組合物中的磨料及拋光產(chǎn)物可快速脫離精細玻璃基板表面,形成潔凈表面，可直接用于鍍膜，提高了生產(chǎn)效率，經(jīng)檢測膜層的附著力，臨界載荷為10N以上，附著力較好。
文檔編號C09G1/02GK102061133SQ20101057640
公開日2011年5月18日 申請日期2011年1月25日 優(yōu)先權日2011年1月25日
發(fā)明者仲躋和, 李薇薇 申請人:江蘇海迅實業(yè)集團股份有限公司