用于配料和涂覆的方法及裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種敷抹器設(shè)備，所述敷抹器設(shè)備包括底座支承設(shè)備、用于供給涂覆液/漿料的供給單元、敷抹器裝置以及計(jì)量裝置，其中所述供給單元包括分配管，所述分配管借助支撐設(shè)備支承在所述支承體上，所述支撐設(shè)備布置成使所述分配管能夠沿軸向膨脹和收縮。
【專利說(shuō)明】用于配料和涂覆的方法及裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種敷抹器設(shè)備(applicator arrangement),該敷抹器設(shè)備包括底座 支承設(shè)備、用于供給涂覆液/漿料的供給單元、敷抹器裝置以及計(jì)量裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]所謂的刮刀涂覆技術(shù)是用于涂覆運(yùn)行著的幅片的現(xiàn)有技術(shù)方法。以多種形式存在 的這種技術(shù)基于的原理在于:涂覆介質(zhì)(例如，顏色、淀粉)過(guò)剩量會(huì)在最終配料計(jì)量部件 之前的位置處有盈余地供給至幅片。所述最終配料和計(jì)量部件可以由與薄的柔性刮刀、剛 性刮刀或桿所結(jié)合的結(jié)構(gòu)構(gòu)成，其類似于油灰接合，算出計(jì)量并施加大量的涂覆介質(zhì)，例如 參見(jiàn)在此引入作為參考的W02007/061378。配料和涂覆部件包括在敷抹器設(shè)備中，敷抹器設(shè) 備例如包括用于處理剩余的涂覆介質(zhì)的部件，剩余的涂覆介質(zhì)被返回以由該設(shè)備進(jìn)行循環(huán) 和再利用?，F(xiàn)有技術(shù)敷抹器設(shè)備呈現(xiàn)出若干缺點(diǎn)，例如具有體積大且比較復(fù)雜的結(jié)構(gòu)。
[0003]在US2001/0008118中，示出了一種涂覆裝置，用于直接或間接地將涂覆介質(zhì)施加 到運(yùn)行的紙幅或板幅上。該裝置包括噴嘴唇部，其中至少一個(gè)噴嘴唇部由刮刀元件形成。通 過(guò)施加彈性的噴嘴唇部，噴嘴間隙可以擴(kuò)大。涂覆裝置包括用于調(diào)節(jié)噴嘴間隙的高度的機(jī) 構(gòu)。該設(shè)計(jì)具有的缺點(diǎn)在于，它設(shè)計(jì)為單獨(dú)的單元，暗示出在實(shí)現(xiàn)整個(gè)施加設(shè)備的緊湊設(shè)計(jì) 中的困難。
[0004]配料和涂覆設(shè)備領(lǐng)域內(nèi)的相關(guān)問(wèn)題在于，與整個(gè)敷抹器設(shè)備相對(duì)較大一即在整 個(gè)橫跨機(jī)器寬度上延伸的事實(shí)相結(jié)合，涂覆介質(zhì)大多須在相對(duì)于環(huán)境溫度不同(通常更 高)的溫度下供給。結(jié)果，可能產(chǎn)生溫度梯度，導(dǎo)致敷抹器設(shè)備彎曲，這可能產(chǎn)生涂層重量 變化。根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)，例如EP0931878所示，這個(gè)問(wèn)題通常由昂貴和笨重的溫度控制結(jié)構(gòu) 來(lái)處理。該現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)描述了一種噴泉式涂覆敷抹器，提出了處理后一問(wèn)題的替代方式， 即:使受熱涂覆導(dǎo)致溫度梯度的傾向性通過(guò)將敷抹器頭從支承梁懸垂在臂上而抵消，溫度 控制流體循環(huán)通過(guò)該敷抹器頭。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的目的是克服或至少最小化上述缺陷和缺點(diǎn)中的至少一個(gè)，這借助根據(jù)所 附權(quán)利要求的設(shè)備和方法來(lái)實(shí)現(xiàn)。
[0006]由于根據(jù)本發(fā)明的解決方案，提供了一種敷抹器設(shè)備，它非常緊湊并且不需要現(xiàn) 有技術(shù)所需的那么多的空間。投資成本會(huì)更小，并且設(shè)備的可達(dá)性使維護(hù)和賠償更容易、更 便宜。根據(jù)優(yōu)選實(shí)施方式，這通過(guò)一種敷抹器設(shè)備來(lái)實(shí)現(xiàn)，其中用于分配涂覆介質(zhì)和刮掉剩 余涂覆介質(zhì)的部件采用集成單元的形式。
[0007]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，根據(jù)本發(fā)明的敷抹器設(shè)備包括用于供給涂覆液/漿料的 供給單元、敷抹器裝置以及計(jì)量裝置，其中所述供給單元形成了對(duì)所述敷抹器裝置和/或 計(jì)量裝置中的至少一個(gè)的支承，并且其中所述敷抹器裝置和/或計(jì)量裝置中的至少一個(gè)直 接或間接地附接至所述供給單元。優(yōu)選地，所述供給單元包括分配管，所述分配管反過(guò)來(lái)借助支撐設(shè)備由支承體來(lái)支承，所述支撐設(shè)備布置成使所述分配管能夠沿軸向膨脹和收縮。
[0008]應(yīng)理解，所述供給單元形成用于所述敷抹器裝置和/或計(jì)量裝置的支承體，在這個(gè)意義上，它接收在操作時(shí)從所述敷抹器裝置和/或計(jì)量裝置傳遞的力。這意味著，根據(jù)本發(fā)明，在使用時(shí)從敷抹器裝置和/或計(jì)量裝置施加的至少大部分的力被布置為擴(kuò)散到并分配于構(gòu)成所述供給單元的主體內(nèi)。
[0009]由于根據(jù)本發(fā)明的敷抹器設(shè)備，協(xié)同作用的積極效果得以獲得，其中在供給單元和敷抹器裝置的口部之間獲得較短的流路，也就是說(shuō)，除了設(shè)備的緊湊性之外，沿徑向較短的流路也有助于獲取均勻的涂覆介質(zhì)流。
[0010]根據(jù)本發(fā)明的另一方面，敷抹器設(shè)備的敷抹器裝置包括噴嘴唇部，形成用于排出涂覆介質(zhì)的間隙。
[0011]根據(jù)本發(fā)明的又一方面，所述敷抹器裝置和所述計(jì)量裝置兩者均附接至所述供給單元，這提供了非常緊湊的且易于操縱的敷抹器設(shè)備。
[0012]根據(jù)本發(fā)明的再一方面，所述供給單元采用分配管或管件的形式，優(yōu)選地采用金屬非焊接設(shè)計(jì)的圓形管件的形式，更優(yōu)選地采用標(biāo)準(zhǔn)管件的形式，相比常規(guī)使用的供給容器，這提供了更具成本效益的壓力容器。
[0013]根據(jù)本發(fā)明的另一方面，所述供給單元由支承體支承，其中優(yōu)選地，所述支承體由比供給單元便宜得更多的材料制成，例如低合金鋼。據(jù)此，可以削減根據(jù)本發(fā)明的敷抹器設(shè)備的制造成本。
[0014]根據(jù)本發(fā)明的另一方面，所述供給單元借助支撐設(shè)備而支承在支承體上，所述支撐設(shè)備布置成使所述供給單元能夠沿軸向膨脹和收縮，從而不需要復(fù)雜的調(diào)和部件來(lái)避免主體的彎曲。
[0015]根據(jù)本發(fā)明的另一方面，所述供給單元布置成在不使用任何冷卻殼體的情況下起作用，否則將參與供給單元的膨脹/收縮，這使此設(shè)備明顯更便宜并更易于控制。
[0016]根據(jù)本發(fā)明的另一方面，所述支承體/底座支承設(shè)備采用管件的形式，優(yōu)選地由低成本的鋼材料制成，這進(jìn)一步導(dǎo)致成本效益提高。
[0017]根據(jù)本發(fā)明的另一方面，所述支承體布置成包含循環(huán)的調(diào)和液體(temperingliquid)。據(jù)此實(shí)現(xiàn)了保持整個(gè)支承體周圍以及沿著整個(gè)支承體的溫度均勻的非常有效的方式，導(dǎo)致在操作涂覆機(jī)時(shí)獲取優(yōu)良的精度。
[0018]根據(jù)本發(fā)明的另一方面，在支承體內(nèi)用于循環(huán)液體的空間借助定位于支承體內(nèi)部?jī)?nèi)的主體來(lái)界定，以在支承體的內(nèi)表面和內(nèi)部主體的外表面之間形成所述空間。據(jù)此,調(diào)和介質(zhì)所需的體積大大減少，從而總重量也大大減少。
[0019]根據(jù)本發(fā)明的另一方面，所述被界定的空間設(shè)置有能夠?qū)崿F(xiàn)螺旋式循環(huán)的密封構(gòu)件，這改善了支承體內(nèi)的調(diào)和。
[0020]根據(jù)本發(fā)明的另一方面，所述底座支承件包括樞轉(zhuǎn)臂，所述樞轉(zhuǎn)臂布置成能夠在敷抹器設(shè)備的活動(dòng)位置和無(wú)效位置之間樞轉(zhuǎn)，并且其中所述樞轉(zhuǎn)臂的活動(dòng)樞轉(zhuǎn)軸定位在由固定有敷抹器設(shè)備的輥的垂直切線所限定的區(qū)域內(nèi)，這提高了緊湊性。
[0021]根據(jù)本發(fā)明的又一方面，由于根據(jù)本發(fā)明的緊湊和節(jié)省空間的布置，兩個(gè)敷抹器設(shè)備可直接在彼此之后定位在一個(gè)相同的輥的周界處。這樣的結(jié)果就是，可實(shí)現(xiàn)在運(yùn)行幅片的表面的非常良好覆蓋的涂覆。【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0022]當(dāng)結(jié)合附圖時(shí)通過(guò)參考以下詳細(xì)描述，本發(fā)明的上述各方面和許多附帶優(yōu)點(diǎn)將變得更易于了解，同時(shí)變得更好理解，其中:
圖1示出了通常已知的現(xiàn)有技術(shù)敷抹器設(shè)備的側(cè)視圖，`圖2示出了根據(jù)本發(fā)明的用于一側(cè)施加的敷抹器設(shè)備的優(yōu)選實(shí)施方式的側(cè)視圖， 圖3A-B示出從圖2中敷抹器設(shè)備右手側(cè)的根據(jù)一個(gè)實(shí)施方式的敷抹器設(shè)備，
圖4示出了根據(jù)本發(fā)明的敷抹器設(shè)備的實(shí)施方式的橫截面橫向視圖，還設(shè)置有冷
圖5示出了借助傳送輥在雙側(cè)施加中使用的如圖2和3所示的敷抹器設(shè)備的側(cè)視
圖6示出了借助凹版輥在雙側(cè)施加中使用的如圖2和3所示的敷抹器設(shè)備的側(cè)視
圖7示出了根據(jù)本發(fā)明的敷抹器設(shè)備的第二實(shí)施方式的橫截面橫向視圖，以及圖8示出了根據(jù)本發(fā)明的敷抹器設(shè)備的第三實(shí)施方式的橫截面橫向視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0031]僅僅為了描述和說(shuō)明本發(fā)明的某些實(shí)施方式而提供了以下詳細(xì)描述以及其中包含的示例，而不期望以任何方式限制本發(fā)明的范圍。
[0032]在圖1中，示意性地示出了現(xiàn)有技術(shù)敷抹器設(shè)備的側(cè)視圖。在圖2中，示出了根據(jù)本發(fā)明的敷抹器設(shè)備的相應(yīng)側(cè)視圖，其中相同的附圖標(biāo)記用于相應(yīng)的部分/元件。如可以看出的，與現(xiàn)有技術(shù)設(shè)備相比，由于其有益的設(shè)計(jì)，圖2所示的根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備占據(jù)的空間大幅減少，這將在下面更詳細(xì)地解釋。
[0033]現(xiàn)在將主要參照?qǐng)D2-6來(lái)描述敷抹器設(shè)備。根據(jù)一個(gè)實(shí)施方式，根據(jù)本發(fā)明的敷抹器設(shè)備I包括底座支承設(shè)備8、9、用于供給涂覆液/漿料4的供給單元6、敷抹器裝置5 和計(jì)量裝置7。所述供給單元6包括分配管62，其形成了對(duì)敷抹器裝置5和計(jì)量裝置7的支承，這是由于所述敷抹器裝置5和/或計(jì)量裝置7中的至少一個(gè)直接或間接地附接至所述分配管62，使得在操作涂覆機(jī)時(shí)，至少有50%的來(lái)自敷抹器裝置5和/或計(jì)量裝置7的力由分配管62的主體接收。
[0034]此外，分配管62借助支撐設(shè)備31由支承體3支承，支撐設(shè)備31布置成能夠使所述分配管62沿軸向膨脹和收縮。支承體3安裝在保持支架上，保持支架包括樞轉(zhuǎn)軸81的樞轉(zhuǎn)臂8，樞轉(zhuǎn)臂8繞樞轉(zhuǎn)軸80可樞轉(zhuǎn)地布置，由此所述供給單元6可朝向或遠(yuǎn)離支持輥2 移動(dòng)。氣缸9布置成使保持支架8可動(dòng)。所述保持支架8和所述氣缸9一起形成所述底座支承設(shè)備8、9。氣缸9可以以許多不同的方式固定。樞轉(zhuǎn)臂8布置成能夠在敷抹器設(shè)備I 的活動(dòng)位置和無(wú)效位置之間樞轉(zhuǎn)，并且所述樞轉(zhuǎn)臂8的活動(dòng)樞轉(zhuǎn)軸80定位在由輥(敷抹器設(shè)備I固定在其上)的垂直切線所限定的區(qū)域內(nèi)。由于將支架8的樞轉(zhuǎn)軸80布置在優(yōu)選地位于輥2下面的地帶中，桿設(shè)備和整個(gè)可移動(dòng)單元的占用空間變得更小。
[0035]在圖2的示例中，支持輥2支承著運(yùn)行幅片W的背側(cè)。優(yōu)選地，支持輥2的長(zhǎng)度至少對(duì)應(yīng)于運(yùn)行幅片W的寬度，優(yōu)選地長(zhǎng)于所述運(yùn)行幅片W的長(zhǎng)度。相鄰支持輥2布置有根據(jù)本發(fā)明的供給單元6和敷抹器裝置5。在橫跨機(jī)器方向延伸支持輥2整個(gè)寬度的所述供給單元6經(jīng)由供給和分配管62為運(yùn)行幅片W提供涂覆介質(zhì)膜4，這將在稍后更詳細(xì)地描述。未保留在幅片上的所施加涂料可以收集在涂料盤設(shè)備35中，并且例如經(jīng)由出口管36再循環(huán)。
[0036]在圖3A-B中，從右手側(cè)示出涂覆機(jī)，涂覆機(jī)包括如圖2所示的供給單元6，以將涂覆介質(zhì)直接施加到運(yùn)行幅片W上。圖3A示出了涂覆機(jī)的配備有涂料盤設(shè)備35和出口管36的端部；而在圖3B中，顯示了在底座支承設(shè)備3和供給單元6之間布置的支撐件31。供給單元6包括分配管62,涂覆介質(zhì)4通過(guò)分配管62進(jìn)行供給和分配,其中涂覆介質(zhì)經(jīng)由包括噴嘴唇部54、56 (另請(qǐng)參見(jiàn)圖4)的敷抹器裝置5從管62分配到例如幅片W，噴嘴唇部54、56形成用于排出涂覆介質(zhì)4的間隙55。
[0037]支承分配管62的支承體3連同分配管62 —起形成了固定的穩(wěn)定結(jié)構(gòu),這意味著沒(méi)必要存在溫度控制設(shè)備來(lái)消除因溫度變化導(dǎo)致的不希望的張緊(否則這可以導(dǎo)致彎曲=不均勻的涂覆)。例如取決于是否希望使從噴嘴間隙55噴出的涂料的脫落最小化(這通過(guò)使涂料4在高壓下供給而實(shí)現(xiàn))，由于因極致要求必需的本身極為昂貴的材料，可能無(wú)法通過(guò)使分配管62 “自支持”而去除支承結(jié)構(gòu)3。然而，由于此新穎性構(gòu)思，支承體可以以任何合適的材料/形式制成，其滿足所希望的對(duì)提供穩(wěn)定支承的需要，例如標(biāo)準(zhǔn)的低合金鋼管，這有利于低成本生產(chǎn)。低合金鋼可定義為具有的總合金元素例如鎳、鉻和錳低于10%，優(yōu)選地低于8%且更優(yōu)選地低于5%的鋼。
[0038]根據(jù)一個(gè)實(shí)施方式，例如通過(guò)使支承底座30設(shè)置有支撐件31，分配管62相對(duì)于支承結(jié)構(gòu)3可滑動(dòng)地布置，該支撐件31布置有在支承底座30上布置的第一低摩擦接口 310以及位于供給管件62底部的相配合的第二低摩擦接口 311，以允許分配管62因熱膨脹/收縮而自由滑動(dòng)，從而以容易的、成本效益和安全的方式保障供給管件62無(wú)張緊，即消除了對(duì)冷卻設(shè)備的需要，并且消除了復(fù)雜的支承結(jié)構(gòu)3。
[0039]如圖3所示，也稱為“計(jì)量元件”的細(xì)長(zhǎng)的計(jì)量裝置7附接至所述供給單元6，其中計(jì)量元件7的長(zhǎng)度優(yōu)選地至少對(duì)應(yīng)于運(yùn)行幅片W的寬度。所述計(jì)量元件7的結(jié)構(gòu)及其功能將在稍后更詳細(xì)地描述(例如參見(jiàn)圖4和圖7-8)。優(yōu)選地，分配管62形成對(duì)計(jì)量元件7的支承，并且計(jì)量元件7直接或間接地附接至供給單元6。在一個(gè)實(shí)施方式中，計(jì)量元件7附接至敷抹器裝置5的一部分并由該部分保持，它反過(guò)來(lái)固定到分配管62上。據(jù)此，將計(jì)量元件7定位得非常接近間隙55 (參見(jiàn)圖4)，間隙55由敷抹器裝置5限定并由噴嘴唇部54、56形成，涂覆介質(zhì)/漿料4從管62供給通過(guò)間隙55，導(dǎo)致可以借助一個(gè)集成單元(即，敷抹器裝置5和計(jì)量元件7)進(jìn)行過(guò)量漿料的涂覆和計(jì)量，由此可以實(shí)現(xiàn)有益的對(duì)敷抹器設(shè)備的緊湊化。
[0040]所述敷抹器裝置5和/或計(jì)量元件7直接或間接地附接至供給單元6，這意味著在計(jì)量元件7接觸到下層運(yùn)行表面時(shí)產(chǎn)生的力的至少主要部分被傳遞到和分散于分配管62的主體內(nèi)。這導(dǎo)致承受所施加應(yīng)力的能力得以提高，從而還導(dǎo)致裝備的壽命時(shí)間延長(zhǎng)。
[0041]圖4示出了根據(jù)本發(fā)明的供給單元6的第一實(shí)施方式的橫截面橫向視圖。供給單元6包括優(yōu)選地由金屬制成的分配管62，其具有內(nèi)部腔室60。所述管62沿輥2平行地延伸，并在布置有流入物的至少一側(cè)進(jìn)一步延續(xù)。涂覆介質(zhì)4從所述管62的一端(或兩端)供給到管62的內(nèi)部空腔60中，并流過(guò)位于分配管62的壁中的多個(gè)徑向通孔61。在管件62的外側(cè)，通孔61定位成排,其中一個(gè)通孔61在分配管62的軸向方向上,將介質(zhì)4從內(nèi)部空 腔60引導(dǎo)到均衡腔室53中。所述均衡腔室53在一側(cè)由形成固定的噴嘴唇部54的基本固 體元件界定，它由螺釘542牢固地安裝到分配管62上。在另一側(cè)，腔室53由保持體56界 定。固定的噴嘴唇部54和保持體56—起形成使涂覆介質(zhì)4供給通過(guò)的間隙55。在本示 例性描述中，所述固定的噴嘴唇部54、保持體56、均衡腔室53和間隙55限定出敷抹器裝置
5。當(dāng)從管62供給到下層運(yùn)行表面(例如，幅片W或輥2)上時(shí)，通過(guò)敷抹器裝置5施加涂 覆介質(zhì)4。保持體56設(shè)置有腳部59，腳部59裝入到位于分配管62表面處的一匹配的凹槽 63中。保持體56借助柔性壓力管件57牢固地附著到分配管62上。該設(shè)備提供了快速更 換所述保持體56的方式，這是有利的，因?yàn)檫@樣的更換往往需要進(jìn)行得相當(dāng)頻繁，而各部 分的迅速替換意味著停機(jī)時(shí)間減少。
[0042]附接保持體56的其它方式也是可以的，例如借助固定地布置在管62上的互連構(gòu) 件(未示出)，這反過(guò)來(lái)提供了對(duì)所述腳部59的緊固定位。這樣的互連構(gòu)件例如可借助螺 旋連接而附接到管62上，從而取代了生產(chǎn)所述凹槽63的需要。
[0043]涂覆介質(zhì)4經(jīng)由間隙55離開均衡腔室53，并被施加于幅片W或傳送輥或凹版輥 22 (將稍后描述)的表面上。噴嘴唇部54、56形成間隙55，用于排出涂覆介質(zhì)。借助柔性 壓力構(gòu)件561和鉸鏈部560，可連續(xù)地控制間隙55的大小。根據(jù)一個(gè)實(shí)施方式，保持體56 制成一件，并且由彈性材料制成，這導(dǎo)致例如借助所述柔性壓力構(gòu)件561將它制成可以繞 鉸鏈部560朝向或遠(yuǎn)離下層表面而彎曲。
[0044]保持體56設(shè)置有在所述保持體56的上部上布置的計(jì)量元件7 (參見(jiàn) W02007/061378，其中描述了計(jì)量元件7的應(yīng)用)。所述計(jì)量元件7包括繞其長(zhǎng)度軸線可樞 轉(zhuǎn)地布置的環(huán)狀體。計(jì)量元件7還設(shè)置有脊?fàn)畹挠?jì)量部70，其具有第一匯合側(cè)71和后側(cè) 73，所述匯合側(cè)71是連續(xù)彎曲的，后側(cè)73包括直立的邊緣，從而在匯合側(cè)71和后側(cè)73之 間形成邊緣72。
[0045]在使用這種計(jì)量元件7的設(shè)備中,此優(yōu)點(diǎn)在計(jì)量元件7與轉(zhuǎn)動(dòng)計(jì)量元件7的幅片 或輥之間不需要接觸時(shí)得以獲得，使得計(jì)量部70與幅片或輥I之間的接觸不再存在。這意 味著，可將供給單元6整體上保持就位。
[0046]圖4所示的實(shí)施方式包括冷卻設(shè)備，其中分配管62的圓周區(qū)域由設(shè)置有下降邊緣 666的板662圍繞。所述板662繞分配管62的周界延伸約270°。間距663布置在板662 和分配管62之間，其繞分配管62周界的延伸量與板662的延伸量大致對(duì)應(yīng)。該間距可填 充冷卻介質(zhì)，例如冷卻水。為了避免冷卻介質(zhì)泄漏出間距663，所述間距663的每端設(shè)置有 緊縮材料65、66。
[0047]在圖5中，示出了涂覆機(jī)的透視圖，該涂覆機(jī)包括根據(jù)本發(fā)明的供給單元6，用于 將涂覆介質(zhì)間接施加到運(yùn)行幅片W上。傳送輥21放置在運(yùn)行幅片W的每一側(cè)。相鄰于傳 送輥21，布置有所述供給單元6，為傳送輥21提供涂覆介質(zhì)膜4，該膜以所謂的涂覆介質(zhì)4 向運(yùn)行幅片W上的間接施加工序而施加到運(yùn)行幅片W上。本文中還示出了位于支承結(jié)構(gòu)3 和分配管62之間的支撐件31，所述支撐件31包括布置在支承底座30上的第一低摩擦接口 310以及位于供給管件62底部上的相配合的第二低摩擦接口 311。借助支撐件31，所述分 配管62相對(duì)于支承結(jié)構(gòu)3可滑動(dòng)地布置。
[0048]支承結(jié)構(gòu)3借助主體32 (例如，內(nèi)管件構(gòu)件)而界定，主體32定位在支承底座30的內(nèi)部，以在支承底座管件30的內(nèi)表面和內(nèi)部主體32的外表面之間形成空間38，所述空間38用于提供調(diào)和液體流，以沿支承底座30并在支承底座30周圍獲取均勻的溫度。在一個(gè)實(shí)施方式中，所述被界定的空間38可設(shè)置有密封構(gòu)件37，在支承體3內(nèi)能夠?qū)崿F(xiàn)螺旋式循環(huán)，這進(jìn)一步有助于在沒(méi)有任何溫度梯度的情況下獲得均勻的溫度。例如，密封構(gòu)件37可在支承底座管件30的內(nèi)表面和內(nèi)部主體32的外表面之間形成一用來(lái)引導(dǎo)調(diào)和液體流通過(guò)被界定的空間38的結(jié)構(gòu)。例如，這樣的結(jié)構(gòu)可以采用沿支承底座30表面延伸的螺旋的形式，布置為能夠?qū)崿F(xiàn)所述螺旋式循環(huán)。根據(jù)一個(gè)實(shí)施方式，密封構(gòu)件37包括O形環(huán)構(gòu)件，所述O形環(huán)構(gòu)件布置在支承底座管件30的圓周內(nèi)表面周圍，以形成所述螺旋表面結(jié)構(gòu)，導(dǎo)致通過(guò)的調(diào)和介質(zhì)流將促使在管件30周圍循環(huán)同時(shí)通過(guò)支承單元3。
[0049]另外，在圖6中，示出了使用根據(jù)本發(fā)明的敷抹器設(shè)備的間接施加過(guò)程的示例。本文中凹版輥22沿傳送輥21定位，使得各輥的縱軸分別大致相互平行。凹版輥22的長(zhǎng)度對(duì)應(yīng)于傳送輥21的長(zhǎng)度，各輥的所述長(zhǎng)度至少長(zhǎng)達(dá)運(yùn)行幅片W的寬度，優(yōu)選地長(zhǎng)于所述運(yùn)行幅片W的長(zhǎng)度。相鄰凹版輥22處布置有所述供給單元6。在橫跨機(jī)器方向上延伸凹版輥22整個(gè)寬度的所述供給單元6為凹版輥22提供涂覆介質(zhì)膜4，所述膜4施加到傳送輥21，最終進(jìn)一步施加到運(yùn)行幅片W。
[0050]圖7描繪了本發(fā)明的供給單兀6的另一實(shí)施方式,其中壓力管件561由多個(gè)分布式壓力波紋管569替換。所述壓力波紋管569以合適的間距定位，以便或者在保持體56的包封面上施加均勻的壓力，或者施加在某些情況下所希望的沿包封面變化的壓力。
[0051]圖8示出了根據(jù)本發(fā)明的供給單元6的優(yōu)選實(shí)施方式的橫截面橫向視圖，其中不使用冷卻設(shè)備。類似于之前描述的實(shí)施方式，包括固定的噴嘴唇部54和保持體56的敷抹器裝置5以分配管62的形式被附接到供給單元6上。涂覆介質(zhì)4布置為流過(guò)分配管62，并經(jīng)過(guò)位于分配管62的壁中的通孔61，以進(jìn)一步在固定的噴嘴唇部54和敷抹器裝置5的保持體56之間通過(guò)，此后，經(jīng)由間隙55供給到運(yùn)行輥2上。
[0052]在圖8所示的實(shí)施方式中，固定的噴嘴唇部54與彈性刮刀540共同作用，彈性刮刀540在固定的噴嘴唇部54 —側(cè)附接到在固定的噴嘴唇部54旁邊的分配管62上，其面向用于涂覆介質(zhì)和間隙55的通道。
[0053]優(yōu)選地，分配管62壁的厚度t在管圓周的周圍是均勻的，優(yōu)選地介于5_30mm之間，甚至更優(yōu)選地介于10-20_之間。在優(yōu)選實(shí)施方式中，壁厚t至少足夠大，以允許所述保持體56的緊固，如之前所述，保持體56可借助位于分配管62的表面處的凹槽63而附接到供給單元6上。
[0054]涂覆介質(zhì)
[0055]精細(xì)板狀礦物的混合物，典型的是粘土或顆粒狀碳酸鈣；著色劑，典型的是用于白色片材的二氧化鈦；以及粘合劑，可以是有機(jī)類型的或合成的組合物。另一類型的涂覆介質(zhì)可以是水溶液，其包括例如在膠料應(yīng)用中使用的淀粉。
[0056]如本領(lǐng)域技術(shù)人員將要理解的，在不脫離如所附權(quán)利要求中所限定的范圍的情況下，對(duì)于本發(fā)明的上述和其它實(shí)施方式可做出各種變更和修改。例如，計(jì)量桿可以用來(lái)代替計(jì)量元件7。
[0057]應(yīng)理解，通過(guò)詳細(xì)描述顯而易見(jiàn)，本發(fā)明在上面闡述的各目的應(yīng)被解釋為說(shuō)明性的而不具有限制意義。在以下權(quán)利要求的范圍內(nèi)，本發(fā)明的各種改變的構(gòu)建是可能的，例如，所述保持體56例如借助螺旋連接可經(jīng)由互連構(gòu)件(未示出)而附接到供給單元6上， 互連構(gòu)件可附接到分配管62表面上。此外，對(duì)本領(lǐng)域技術(shù)人員顯而易見(jiàn)的是，例如，采用常 規(guī)的梁的形式，例如，工字鋼等，以及通過(guò)使用其它材料，例如碳素鋼(帶或不帶內(nèi)襯)、聚 合材料(例如，帶有加固)、混凝土(例如，帶有鋼筋)等，許多其它形式(除了管狀)和材 料(除了低合金鋼)可用于設(shè)計(jì)支承體3。
【權(quán)利要求】
1.敷抹器設(shè)備，包括用于供給涂覆液/漿料的供給單元(6)、敷抹器裝置(5)以及計(jì)量裝置(7)，其特征在于，所述供給單元(6)包括分配管(62)，所述分配管(62)借助支撐設(shè)備(31)由支承體(3)來(lái)支承，所述支撐設(shè)備布置成使所述分配管(62)能夠沿軸向膨脹和收縮。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的敷抹器設(shè)備，其特征在于，所述分配管(62)至少具有使其外表面暴露于環(huán)境空氣的基本部分，優(yōu)選地具有使其外表面暴露于環(huán)境空氣的主要部分。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的敷抹器設(shè)備，其特征在于，所述分配管(62)布置成在沒(méi)有任何冷卻結(jié)構(gòu)相連時(shí)起作用。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的敷抹器設(shè)備，其特征在于，所述支承體(3)采用管件的形式，優(yōu)選地由低合金鋼材料制成。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的敷抹器設(shè)備，其特征在于，所述支承體(3)布置成包含循環(huán)的調(diào)和液體。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的敷抹器設(shè)備，其特征在于，在支承體(3)內(nèi)用于循環(huán)液體的空間(38)借助定位于支承體(3)內(nèi)部?jī)?nèi)的主體(32)來(lái)界定，以在支承體(3)的內(nèi)表面和內(nèi)部主體(32)的外表面之間形成所述空間(38)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的敷抹器設(shè)備，其特征在于，所述被界定的空間(38)設(shè)置有能夠在支承體(3)內(nèi)實(shí)現(xiàn)螺旋式 循環(huán)的密封構(gòu)件(37)。
8.根據(jù)任一項(xiàng)前述權(quán)利要求所述的敷抹器設(shè)備，其特征在于，所述支承體(3)由低合金鋼材料或另一種提供類似屬性的材料制成，優(yōu)選地具有管狀形式。
9.根據(jù)任一項(xiàng)前述權(quán)利要求所述的敷抹器設(shè)備，其特征在于，所述分配管(62)形成用于計(jì)量裝置(7)的支承體，其中計(jì)量裝置(7)直接或間接地附接至所述分配管(62)。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的敷抹器設(shè)備，其特征在于，所述計(jì)量裝置(7)經(jīng)由互連構(gòu)件間接地附接至所述分配管(62)。
11.根據(jù)權(quán)利要求9或10所述的敷抹器設(shè)備，其特征在于，所述敷抹器裝置(5)和所述計(jì)量裝置(7)兩者均附接至所述分配管(62)。
12.根據(jù)權(quán)利要求9-11中任一項(xiàng)所述的敷抹器設(shè)備，其特征在于，所述分配管(62)采用管件(62)的形式，優(yōu)選地采用金屬非焊接設(shè)計(jì)的圓形管件的形式，更優(yōu)選地采用標(biāo)準(zhǔn)管件的形式。
13.根據(jù)權(quán)利要求9-12中任一項(xiàng)所述的敷抹器設(shè)備，其特征在于，包括底座支承設(shè)備(8、9)，所述底座支承設(shè)備包括布置成能夠在敷抹器設(shè)備(I)的活動(dòng)位置和無(wú)效位置之間樞轉(zhuǎn)的樞轉(zhuǎn)臂(8)，并且其中所述樞轉(zhuǎn)臂的活動(dòng)樞轉(zhuǎn)軸(80)定位在由固定有敷抹器設(shè)備(I)的輥的垂直切線所限定的區(qū)域內(nèi)。
14.根據(jù)權(quán)利要求9-13中任一項(xiàng)所述的敷抹器設(shè)備，其特征在于，所述分配管(62)的厚度⑴介于5_30mm之間，優(yōu)選地介于10_20mm之間。
15.一種用于將涂覆液/漿料供給到運(yùn)行表面上的方法，包括提供一種敷抹器設(shè)備(I)，所述敷抹器設(shè)備包括:底座支承設(shè)備(8、9);供給單元(6)，所述供給單元包括用于供給涂覆液/漿料的分配管出2);敷抹器裝置(5);以及計(jì)量裝置(7)，并且所述方法包括布置分配管(62)，使得所述分配管借助支撐設(shè)備(31)支承在所述支承體(3)上，所述支撐設(shè)備布置成使所述分配管(62)能夠沿軸向膨脹和收縮。
【文檔編號(hào)】B05C1/08GK103501920SQ201280020729
【公開日】2014年1月8日 申請(qǐng)日期:2012年3月2日 優(yōu)先權(quán)日:2011年3月3日
【發(fā)明者】K.哈坎 申請(qǐng)人:馬特森烏德瓦拉有限責(zé)任公司