一種無腐蝕抗氧化的機(jī)械設(shè)備拋光液的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種無腐蝕抗氧化的機(jī)械設(shè)備拋光液，其特征在于，包括下列重量份數(shù)的物質(zhì)：水楊酸鈉2-6份，醋酸鈉20-35份，草酸鈉8-10份，苯甲酸鈉2-8份，EDTA1-5份，除油劑3-8份，除油粉7-12份，表調(diào)劑11-15份，硫酸鉀7-16份，無水硫酸鈉10-16份，氨水7-13份，氫氧化鋁7-13份，空心玻璃微珠9-13份，山梨醇11-18份，聚丙烯7-10份，硼酸鈉2-4份，片層結(jié)構(gòu)的云母粉2-3份，空心玻璃微珠1-2份。本發(fā)明的化學(xué)機(jī)械拋光液可抑制低介電材料的拋光速率，而對銅和二氧化硅的去除速率影響不大，同時可減少被拋光材料的表面污染物。
【專利說明】一種無腐蝕抗氧化的機(jī)械設(shè)備拋光液

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種無腐蝕抗氧化的機(jī)械設(shè)備拋光液。

【背景技術(shù)】
[0002]傳統(tǒng)介電層材料由于具有較高的介電常數(shù)，會導(dǎo)致傳導(dǎo)層之間電容增大，從而影響集成電路的速度，使效率降低，隨著集成電路的復(fù)雜化和精細(xì)化，這種基底材料越發(fā)不能滿足更先進(jìn)制程的技術(shù)要求，在襯底中引入低介電材料是集成電路技術(shù)發(fā)展的必然趨勢，隨之產(chǎn)生了許多用于低介電材料的拋光衆(zhòng)液。但目前現(xiàn)有技術(shù)中的低介電材料拋光液都沒有達(dá)到制造成本和技術(shù)表現(xiàn)的完美結(jié)合。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種無腐蝕抗氧化的機(jī)械設(shè)備拋光液。
[0004]為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的技術(shù)方案是:
一種無腐蝕抗氧化的機(jī)械設(shè)備拋光液，其特征在于，包括下列重量份數(shù)的物質(zhì):水楊酸鈉2-6份，醋酸鈉20-35份，草酸鈉8-10份，苯甲酸鈉2-8份，EDTA1-5份，除油劑3-8份，除油粉7-12份，表調(diào)劑11-15份，硫酸鉀7-16份，無水硫酸鈉10-16份，氨水7-13份，氫氧化鋁7-13份，空心玻璃微珠9-13份，山梨醇11-18份，聚丙烯7-10份，硼酸鈉2-4份，片層結(jié)構(gòu)的云母粉2-3份，空心玻璃微珠1-2份。
[0005]本發(fā)明的化學(xué)機(jī)械拋光液可抑制低介電材料的拋光速率，而對銅和二氧化娃的去除速率影響不大，同時可減少被拋光材料的表面污染物。

【具體實(shí)施方式】
[0006]實(shí)施例1
一種無腐蝕抗氧化的機(jī)械設(shè)備拋光液，其特征在于，包括下列重量份數(shù)的物質(zhì):水楊酸鈉2-6份，醋酸鈉20-35份，草酸鈉8-10份，苯甲酸鈉2-8份，EDTA1-5份，除油劑3-8份，除油粉7-12份，表調(diào)劑11-15份，硫酸鉀7-16份，無水硫酸鈉10-16份，氨水7-13份，氫氧化鋁7-13份，空心玻璃微珠9-13份，山梨醇11-18份，聚丙烯7-10份，硼酸鈉2-4份，片層結(jié)構(gòu)的云母粉2-3份，空心玻璃微珠1-2份。
【權(quán)利要求】
1.一種無腐蝕抗氧化的機(jī)械設(shè)備拋光液，其特征在于，包括下列重量份數(shù)的物質(zhì):水楊酸鈉2-6份，醋酸鈉20-35份，草酸鈉8-10份，苯甲酸鈉2-8份，EDTA1-5份，除油劑3-8份，除油粉7-12份，表調(diào)劑11-15份，硫酸鉀7-16份，無水硫酸鈉10-16份，氨水7-13份，氫氧化鋁7-13份，空心玻璃微珠9-13份，山梨醇11-18份，聚丙烯7-10份，硼酸鈉2-4份，片層結(jié)構(gòu)的云母粉2-3份， 空心玻璃微珠1-2份。
【文檔編號】C09G1/02GK104046266SQ201410292039
【公開日】2014年9月17日 申請日期:2014年6月26日 優(yōu)先權(quán)日:2014年6月26日
【發(fā)明者】范向奎 申請人:青島寶泰新能源科技有限公司