一種用于smt激光模板的納米溶液表面噴涂設(shè)備的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種用于SMT激光模板的納米溶液表面噴涂設(shè)備，用于對(duì)SMT激光模板的表面進(jìn)行納米溶液噴涂，包括氣動(dòng)噴槍機(jī)構(gòu)、第一方向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)、第二方向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)和控制裝置，控制裝置連接并控制氣動(dòng)噴槍機(jī)構(gòu)、第一方向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)、第二方向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)，氣動(dòng)噴槍機(jī)構(gòu)可對(duì)SMT激光模板的表面噴涂納米溶液；氣動(dòng)噴槍機(jī)構(gòu)設(shè)置在第一方向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)上并能夠在第一方向上往復(fù)運(yùn)動(dòng)；第一方向機(jī)構(gòu)連接在第二方向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)上并能夠在第二方向上往復(fù)運(yùn)動(dòng)；第一方向與第二方向形成的第一平面與SMT激光模板所在的第二平面互相平行。本實(shí)用新型的噴涂設(shè)備上的氣動(dòng)噴槍機(jī)構(gòu)通過第一方向和第二方向的不同運(yùn)動(dòng)方式組合，能夠?qū)崿F(xiàn)多種噴涂方法使噴涂表面均勻。
【專利說明】一種用于SMT激光模板的納米溶液表面噴涂設(shè)備

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及SMT激光模板的表面處理領(lǐng)域，尤其涉及一種對(duì)SMT激光模板的納米溶液表面噴涂設(shè)備。

【背景技術(shù)】
[0002]SMT技術(shù)又稱為表面封裝技術(shù)，目前的批量化電路印刷中都是使用激光切割技術(shù)進(jìn)行SMT印刷模板的加工，故對(duì)應(yīng)的印刷模板稱為SMT激光模板。
[0003]由于經(jīng)過激光切割方法所得到的印刷模板的孔壁上容易產(chǎn)生毛刺，所以比較粗糙，而為了使其光滑需要對(duì)模板表面進(jìn)行電拋光處理，這不僅增加了 SMT激光模板制造企業(yè)的成本，而且電拋光處理所使用的電解液中因?yàn)楹写罅康牧姿帷t酐等化合物而對(duì)環(huán)境造成污染。
[0004]此外，經(jīng)過以上的制作方法得到的SMT激光模板，其表面還不夠光亮，不僅不利于錫膏在模板表面的滾動(dòng)，而且不利于SMT激光模板脫模的順暢性,從而造成SMT激光模板脫模過程中錫膏的橋連、短路或錫膏不足等缺陷的發(fā)生，這嚴(yán)重影響了電子元器件的焊接可靠性。并且在印刷錫膏后錫膏較容易殘留在孔壁內(nèi)，這大大增加了 SMT激光模板的清洗頻率，從而降低了生產(chǎn)效率；同時(shí)，SMT激光模板清洗劑的大量使用極大地增加了企業(yè)的耗材成本，還增加了環(huán)境污染的壓力。
[0005]由于納米溶液具有疏水、疏油的特點(diǎn)，故將納米材料噴涂在SMT激光模板表面能夠增強(qiáng)SMT激光模板自身清潔的能力。而為了使納米溶液對(duì)SMT激光模板的輔助效果達(dá)到最佳，需要將其均勻的涂覆在SMT激光模板表面。
[0006]噴涂技術(shù)是一門涉及多學(xué)科綜合的應(yīng)用，在現(xiàn)代自動(dòng)化噴涂技術(shù)中，噴涂效果受到噴涂溶液自身特性、機(jī)械運(yùn)動(dòng)平穩(wěn)性及覆蓋度、噴槍氣壓與溶液霧化擴(kuò)散情況的綜合影響。這些因素的適當(dāng)組合才能產(chǎn)生最好的表面覆膜效果，目前的SMT激光模板納米溶液涂覆通常采用人工使用氣動(dòng)噴槍的方式進(jìn)行，采用人工進(jìn)行噴涂需要熟練的噴涂人員，而且難以保證每次產(chǎn)品的一致性，另外長(zhǎng)期的噴涂作業(yè)也會(huì)對(duì)人體產(chǎn)生一定危害。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0007]為了解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型提供一種用于SMT激光模板的納米溶液表面噴涂設(shè)備，可以對(duì)SMT激光模板表面進(jìn)行納米材料的均勻涂敷，保證SMT激光模板在使用時(shí)表面清潔且性能良好。
[0008]為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案:
[0009]本實(shí)用新型公開了一種用于SMT激光模板的納米溶液表面噴涂設(shè)備，用于對(duì)SMT激光模板的表面進(jìn)行納米溶液噴涂，包括氣動(dòng)噴槍機(jī)構(gòu)、第一方向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)、第二方向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)和控制裝置，所述控制裝置與所述氣動(dòng)噴槍機(jī)構(gòu)、所述第一方向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)、所述第二方向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)連接；其中:
[0010]所述控制裝置用于控制所述氣動(dòng)噴槍機(jī)構(gòu)、所述第一方向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)、所述第二方向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述氣動(dòng)噴槍機(jī)構(gòu)用于對(duì)所述SMT激光模板的表面噴涂納米溶液；
[0011]所述氣動(dòng)噴槍機(jī)構(gòu)設(shè)置在所述第一方向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)上,所述第一方向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)用于驅(qū)動(dòng)所述氣動(dòng)噴槍機(jī)構(gòu)在第一方向上往復(fù)運(yùn)動(dòng)；
[0012]所述第一方向機(jī)構(gòu)連接在所述第二方向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)上，所述第二方向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)用于驅(qū)動(dòng)所述第一方向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)在第二方向上往復(fù)運(yùn)動(dòng)；
[0013]所述第一方向與所述第二方向形成的第一平面與所述SMT激光模板所在的第二平面互相平行。
[0014]優(yōu)選地，所述納米溶液表面噴涂設(shè)備還包括轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)，用于控制所述SMT激光模板在所述第二平面內(nèi)轉(zhuǎn)動(dòng)，所述控制裝置與所述轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)連接，所述控制裝置還用于控制所述轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)。
[0015]優(yōu)選地，所述SMT激光模板是以所述SMT激光模板的中心為軸在所述第二平面內(nèi)轉(zhuǎn)動(dòng)。
[0016]優(yōu)選地，所述納米溶液表面噴涂設(shè)備還包括排氣機(jī)構(gòu)，用于將所述氣動(dòng)噴槍機(jī)構(gòu)噴涂的納米溶液形成的霧化溶液排出所述納米溶液表面噴涂設(shè)備。
[0017]優(yōu)選地，所述納米溶液表面噴涂設(shè)備還包括收集裝置，所述收集裝置設(shè)置在所述SMT激光模板的下方，用于收集所述氣動(dòng)噴槍機(jī)構(gòu)噴涂時(shí)未噴涂到所述SMT激光模板上的納米溶液。
[0018]優(yōu)選地，所述納米溶液表面噴涂設(shè)備還包括可移動(dòng)框架裝置，用于支撐所述納米溶液表面噴涂設(shè)備上的各個(gè)機(jī)構(gòu)和裝置，使所述納米溶液表面噴涂設(shè)備是可移動(dòng)設(shè)備。
[0019]優(yōu)選地，所述第一方向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)上還設(shè)有第一拖鏈機(jī)構(gòu)，用于保護(hù)所述第一方向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)上的電纜和/或所述氣動(dòng)噴槍機(jī)構(gòu)上的電纜及輸液管路。
[0020]優(yōu)選地，所述第二方向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)上還設(shè)有第二拖鏈機(jī)構(gòu)，用于保護(hù)所述第二方向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)上的電纜。
[0021 ] 優(yōu)選地，所述第一方向與所述第二方向相互垂直。
[0022]本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比的有益效果在于:本實(shí)用新型的納米溶液表面噴涂設(shè)備上的氣動(dòng)噴槍機(jī)構(gòu)能夠同時(shí)在第一方向和第二方向上往復(fù)運(yùn)動(dòng)，所以可以噴涂到SMT激光模板上的任何位置上；而通過第一方向和第二方向的不同運(yùn)動(dòng)方式進(jìn)行組合，能夠?qū)崿F(xiàn)多種噴涂方法使噴涂表面均勻。此外，本實(shí)用新型通過過自動(dòng)化控制整個(gè)噴涂過程，能夠保證多次工作的效果一致，本實(shí)用新型的納米溶液表面噴涂設(shè)備的使用，可以通過針對(duì)常用的SMT激光模板進(jìn)行噴涂測(cè)試，將最佳工作參數(shù)儲(chǔ)存在控制裝置中，根據(jù)實(shí)際需求直接調(diào)用而無(wú)需重復(fù)設(shè)定，優(yōu)化噴涂作業(yè)且更適合批量處理。
[0023]在優(yōu)選的方案中，本實(shí)用新型的納米溶液表面噴涂設(shè)備還包括能夠使SMT激光模板發(fā)生自轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)，在氣動(dòng)噴槍機(jī)構(gòu)對(duì)SMT激光模板噴涂作業(yè)時(shí)，不僅有第一方向和第二方向的往復(fù)運(yùn)動(dòng)結(jié)合，還結(jié)合SMT激光模板的自轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，使噴涂作業(yè)能夠更加靈活，也可以有更多方式使噴涂表面更加均勻。優(yōu)選地，本實(shí)用新型的納米溶液表面噴涂設(shè)備還包括排氣機(jī)構(gòu)，將氣動(dòng)噴槍機(jī)構(gòu)噴涂的納米溶液形成霧化溶液排出噴涂設(shè)備，防止了 SMT激光模板在納米覆膜時(shí)表面受到二次污染，從而進(jìn)一步保證SMT激光模板的噴涂質(zhì)量。更優(yōu)選地，第一方向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)和第二方向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)上可以設(shè)有用于保護(hù)電纜的拖鏈機(jī)構(gòu)，從而保證了噴涂設(shè)備的安全性；另外噴涂設(shè)備上的各個(gè)機(jī)構(gòu)和裝置可以安裝在可移動(dòng)框架裝置上，使噴涂設(shè)備可移動(dòng)，使用起來更加方便。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0024]圖1是本實(shí)用新型優(yōu)選實(shí)施例的納米溶液表面噴涂設(shè)備的俯視圖；
[0025]圖2是本實(shí)用新型優(yōu)選實(shí)施例的納米溶液表面噴涂設(shè)備的立體示意圖；
[0026]圖3是本實(shí)用新型優(yōu)選實(shí)施例的納米溶液表面噴涂設(shè)備的工作流程圖；
[0027]圖4是本實(shí)用新型優(yōu)選實(shí)施例的納米溶液表面噴涂設(shè)備的第一種運(yùn)動(dòng)方式的噴涂軌跡；
[0028]圖5是本實(shí)用新型優(yōu)選實(shí)施例的納米溶液表面噴涂設(shè)備的第二種運(yùn)動(dòng)方式的噴涂軌跡；
[0029]圖6是本實(shí)用新型優(yōu)選實(shí)施例的納米溶液表面噴涂設(shè)備的第三種運(yùn)動(dòng)方式的噴涂軌跡。

【具體實(shí)施方式】
[0030]下面對(duì)照附圖并結(jié)合優(yōu)選的實(shí)施方式對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明。
[0031]本實(shí)用新型公開了一種納米溶液表面噴涂設(shè)備，用于對(duì)SMT激光模板的表面進(jìn)行納米溶液噴涂，包括氣動(dòng)噴槍機(jī)構(gòu)、第一方向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)、第二方向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)和控制裝置，所述控制裝置與所述氣動(dòng)噴槍機(jī)構(gòu)、所述第一方向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)、所述第二方向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)連接；其中:所述控制裝置用于控制所述氣動(dòng)噴槍機(jī)構(gòu)、所述第一方向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)、所述第二方向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述氣動(dòng)噴槍機(jī)構(gòu)用于對(duì)所述SMT激光模板的表面噴涂納米溶液；所述氣動(dòng)噴槍機(jī)構(gòu)設(shè)置在所述第一方向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)上，所述第一方向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)用于驅(qū)動(dòng)所述氣動(dòng)噴槍機(jī)構(gòu)在第一方向上往復(fù)運(yùn)動(dòng)；所述第一方向機(jī)構(gòu)兩端連接在第二方向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)上，所述第二方向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)用于驅(qū)動(dòng)所述第一方向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)在第二方向上往復(fù)運(yùn)動(dòng)；所述第一方向與所述第二方向形成的第一平面與所述SMT激光模板所在的第二平面互相平行。
[0032]優(yōu)選地，第一方向和第二方向米用X軸和Y軸方向。
[0033]如圖1和2所示，本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例的用于對(duì)SMT激光模板4的表面噴涂納米溶液的噴涂設(shè)備包括:氣動(dòng)噴涂機(jī)構(gòu)1、X向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)2、Y向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)3、控制裝置5、收集裝置6、可移動(dòng)框架裝置7、轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)8、第一拖鏈機(jī)構(gòu)9、第二拖鏈機(jī)構(gòu)10和排氣機(jī)構(gòu)(圖中未示)。其中控制裝置5采用PLC自動(dòng)化控制系統(tǒng)進(jìn)行控制，控制裝置5分別與X向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)2、Y向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)3、轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)8的步進(jìn)電機(jī)連接，同時(shí)還控制連接氣源的電磁閥以驅(qū)動(dòng)氣動(dòng)噴槍機(jī)構(gòu)I工作。
[0034]其中:氣動(dòng)噴涂機(jī)構(gòu)I安裝在X向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)2上，X向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)2的步進(jìn)電機(jī)驅(qū)動(dòng)氣動(dòng)噴涂機(jī)構(gòu)I可以在X向上往復(fù)運(yùn)動(dòng)。X向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)2的兩端連接在Y向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)3上，Y向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)3的步進(jìn)電機(jī)驅(qū)動(dòng)氣動(dòng)噴槍機(jī)構(gòu)I和X向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)2可以在Y向上往復(fù)運(yùn)動(dòng)。SMT激光模板4設(shè)置在X向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)2和Y向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)3組成的平面的下方，讓氣動(dòng)噴涂機(jī)構(gòu)I可以對(duì)SMT激光模板4上噴涂納米溶液。轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)8上設(shè)有托盤，SMT激光模板4放置在托盤上，SMT激光模板4連接轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)8，轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)8控制SMT激光模板4在平面內(nèi)發(fā)生自轉(zhuǎn)。收集裝置6設(shè)置在SMT激光模板4的下方，能夠收集氣動(dòng)噴槍機(jī)構(gòu)噴涂SMT激光模板4時(shí)未噴涂到SMT激光模板4上的納米溶液，防止浪費(fèi)?？梢苿?dòng)框架裝置7支撐著噴涂設(shè)備的各個(gè)機(jī)構(gòu)和裝置，使噴涂設(shè)備可移動(dòng)。排氣機(jī)構(gòu)(圖中未示)可以采用現(xiàn)有常用的排氣設(shè)備安裝在噴涂設(shè)備的頂部的中央，在納米溶液霧化噴涂結(jié)束時(shí)將設(shè)備操作區(qū)域內(nèi)的霧化溶液排出該區(qū)域，防止SMT激光模板4表面納米覆膜時(shí)受到二次污染，從而保證SMT激光模板4的噴涂質(zhì)量。另外,在X向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)2和Y向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)3分別設(shè)有第一拖鏈機(jī)構(gòu)9和第二拖鏈機(jī)構(gòu)10，用于保護(hù)連接步進(jìn)電機(jī)的電纜和/或氣動(dòng)噴槍機(jī)構(gòu)上的電纜及輸液管路。
[0035]利用本實(shí)施例的噴涂設(shè)備，可以固定不同尺寸的SMT激光模板4，SMT激光模板4能夠在轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)8、X向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)2和Y向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)3的帶動(dòng)下使SMT激光模板4上的納米溶液均勻涂覆，使SMT激光模板4表面的疏水性、疏油型及自清潔能力保持在相同的水平，保證SMT激光模板4在使用時(shí)表面清潔且性能近似。
[0036]本實(shí)施例的噴涂設(shè)備通過自動(dòng)化控制整個(gè)工作過程，能夠保證多次工作的效果一致，同時(shí)還可以使用觸摸屏控制，增加控制環(huán)節(jié)的可視效果，通過針對(duì)常用的幾款常用的SMT激光模板進(jìn)行噴涂測(cè)試，將最佳工作參數(shù)作為工作配方儲(chǔ)存在觸摸屏中，根據(jù)實(shí)際需求直接調(diào)用而無(wú)需重復(fù)設(shè)定，優(yōu)化噴涂作業(yè)且更適合于批量處理。
[0037]本實(shí)施例的噴涂設(shè)備通過PLC自動(dòng)化控制系統(tǒng)將三組步進(jìn)電機(jī)與氣動(dòng)噴槍機(jī)構(gòu)I控制結(jié)合在一起，X向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)2和Y向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)3的步進(jìn)電機(jī)通過帶傳動(dòng)驅(qū)動(dòng)滑軌上的滑塊運(yùn)動(dòng)，氣動(dòng)噴槍機(jī)構(gòu)I固定在X向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)2的滑塊上，由于噴涂無(wú)需高精度定位，且小型氣動(dòng)噴槍重量較輕，本實(shí)用新型優(yōu)選實(shí)施例采用小功率步進(jìn)電機(jī)即可滿足運(yùn)動(dòng)要求。
[0038]由于納米溶液的覆膜效果受到噴槍噴涂扇形面積及溶液霧化效果的影響，需要調(diào)節(jié)氣動(dòng)噴槍機(jī)構(gòu)I的壓縮空氣氣壓來控制噴涂的扇形面積及霧化效果；而考慮到噴涂扇形面積，故一般情況下使X向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)2和Y向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)3的往復(fù)運(yùn)動(dòng)位置較SMT激光模板邊緣應(yīng)偏出略大于扇形底部投影面半徑的距離。
[0039]本實(shí)施例的噴涂設(shè)備采用全自動(dòng)控制，在噴涂設(shè)備調(diào)試階段完成各個(gè)機(jī)構(gòu)與裝置的校準(zhǔn)與工藝測(cè)試后，便可以通過系統(tǒng)配置全自動(dòng)工作模式進(jìn)行噴涂作業(yè)。如圖3所示是本實(shí)用新型優(yōu)選實(shí)施例的噴涂設(shè)備的工作流程圖，具體步驟為:首先對(duì)噴涂設(shè)備的系統(tǒng)進(jìn)行初始化，導(dǎo)入各運(yùn)動(dòng)部件的參數(shù)，實(shí)現(xiàn)氣動(dòng)噴槍機(jī)構(gòu)的原點(diǎn)復(fù)位檢測(cè)，并檢測(cè)保護(hù)電路的開啟情況；然后對(duì)氣動(dòng)噴槍機(jī)構(gòu)進(jìn)行設(shè)定；再選擇噴涂方式:X向噴涂、Y向噴涂或XY向交替噴涂；調(diào)用系統(tǒng)作業(yè)配方的參數(shù)(速度、時(shí)間等)；最后工作結(jié)束后將氣動(dòng)噴槍機(jī)構(gòu)的原點(diǎn)復(fù)位。
[0040]其中:X向噴涂時(shí)的噴涂軌跡如圖4所示，此時(shí)X向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)實(shí)現(xiàn)噴涂作用，Y向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)實(shí)現(xiàn)氣動(dòng)噴槍機(jī)構(gòu)的運(yùn)動(dòng)進(jìn)給，SMT激光模板間歇性自轉(zhuǎn)。Y向噴涂時(shí)的噴涂軌跡如圖5所示，此時(shí)Y向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)實(shí)現(xiàn)噴涂作用，X向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)實(shí)現(xiàn)氣動(dòng)噴槍機(jī)構(gòu)的運(yùn)動(dòng)進(jìn)給，SMT激光模板間歇性自轉(zhuǎn)。XY向交替噴涂時(shí)的噴涂軌跡如圖6所示，此時(shí)X向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)和Y向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)交替實(shí)現(xiàn)噴涂作用，且交替實(shí)現(xiàn)氣動(dòng)噴槍機(jī)構(gòu)的運(yùn)動(dòng)進(jìn)給，SMT激光模板以預(yù)定的速度自轉(zhuǎn)。
[0041]以下結(jié)合具體實(shí)施例中使用本實(shí)用新型的噴涂設(shè)備對(duì)SMT激光模板噴涂納米材料，并檢測(cè)其均勻性。對(duì)尺寸為550 X 550mm的SMT激光模板進(jìn)行納米溶液噴涂時(shí)，進(jìn)行如下設(shè)定:(I)X向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)的速度0.48m/s ； (2) X向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)的速度0.41m/s: (3) X向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)的進(jìn)給量103mm ； (4) Y向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)的進(jìn)給量172mm ； (5) SMT激光模板自轉(zhuǎn)的速度1.56r/s ；(6)X向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)的前限位50mm ； (7) X向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)的后限位750mm ； (8) Y向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)的前限位50mm ； (9) Y向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)的后限位750mm ； (10)噴涂氣壓0.49MPa。本具體實(shí)施例采用XY向交替噴涂，經(jīng)檢測(cè)，在該配方參數(shù)的操作下，SMT激光模板表面的納米溶液涂覆均勻，且覆膜厚度適中，利于納米溶液發(fā)揮作用。
[0042]本實(shí)用新型的噴涂設(shè)備可以用于對(duì)多種尺寸的SMT激光模板噴涂納米材料，轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)的托盤設(shè)置為600 X 600mm，能夠滿足目前SMT激光模板的絕大部分要求，同時(shí)在系統(tǒng)中將根據(jù)SMT激光模板尺寸的變化選擇不同的配方，優(yōu)化各運(yùn)動(dòng)組的運(yùn)動(dòng)距離。另外通過為噴涂設(shè)備添加配方預(yù)設(shè)機(jī)制，使得在作業(yè)前期測(cè)試多種SMT激光模板噴涂的最優(yōu)配方，儲(chǔ)存在控制裝置內(nèi)，當(dāng)實(shí)際工作時(shí)，便可直接調(diào)用SMT激光模板現(xiàn)有的加工參數(shù)，實(shí)現(xiàn)納米溶液噴涂的快速、一致性。
[0043]以上內(nèi)容是結(jié)合具體的優(yōu)選實(shí)施方式對(duì)本實(shí)用新型所作的進(jìn)一步詳細(xì)說明，不能認(rèn)定本實(shí)用新型的具體實(shí)施只局限于這些說明。對(duì)于本實(shí)用新型所屬【技術(shù)領(lǐng)域】的技術(shù)人員來說，在不脫離本實(shí)用新型構(gòu)思的前提下，還可以做出若干等同替代或明顯變型，而且性能或用途相同，都應(yīng)當(dāng)視為屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種用于SMT激光模板的納米溶液表面噴涂設(shè)備,用于對(duì)SMT激光模板的表面進(jìn)行納米溶液噴涂，其特征在于，包括氣動(dòng)噴槍機(jī)構(gòu)、第一方向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)、第二方向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)和控制裝置，所述控制裝置與所述氣動(dòng)噴槍機(jī)構(gòu)、所述第一方向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)、所述第二方向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)連接；其中: 所述控制裝置用于控制所述氣動(dòng)噴槍機(jī)構(gòu)、所述第一方向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)、所述第二方向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述氣動(dòng)噴槍機(jī)構(gòu)用于對(duì)所述SMT激光模板的表面噴涂納米溶液； 所述氣動(dòng)噴槍機(jī)構(gòu)設(shè)置在所述第一方向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)上，所述第一方向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)用于驅(qū)動(dòng)所述氣動(dòng)噴槍機(jī)構(gòu)在第一方向上往復(fù)運(yùn)動(dòng)； 所述第一方向機(jī)構(gòu)連接在所述第二方向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)上，所述第二方向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)用于驅(qū)動(dòng)所述第一方向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)在第二方向上往復(fù)運(yùn)動(dòng)； 所述第一方向與所述第二方向形成的第一平面與所述SMT激光模板所在的第二平面互相平行。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米溶液表面噴涂設(shè)備，其特征在于，還包括轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)，用于控制所述SMT激光模板在所述第二平面內(nèi)轉(zhuǎn)動(dòng)，所述控制裝置與所述轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)連接，所述控制裝置還用于控制所述轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的納米溶液表面噴涂設(shè)備，其特征在于，所述SMT激光模板是以所述SMT激光模板的中心為軸在所述第二平面內(nèi)轉(zhuǎn)動(dòng)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米溶液表面噴涂設(shè)備，其特征在于，還包括排氣機(jī)構(gòu)，用于將所述氣動(dòng)噴槍機(jī)構(gòu)噴涂的納米溶液形成的霧化溶液排出所述納米溶液表面噴涂設(shè)備。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米溶液表面噴涂設(shè)備，其特征在于，還包括收集裝置，所述收集裝置設(shè)置在所述SMT激光模板的下方，用于收集所述氣動(dòng)噴槍機(jī)構(gòu)噴涂時(shí)未噴涂到所述SMT激光模板上的納米溶液。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米溶液表面噴涂設(shè)備，其特征在于，還包括可移動(dòng)框架裝置，用于支撐所述納米溶液表面噴涂設(shè)備上的各個(gè)機(jī)構(gòu)和裝置，使所述納米溶液表面噴涂設(shè)備是可移動(dòng)設(shè)備。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米溶液表面噴涂設(shè)備，其特征在于，所述第一方向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)上還設(shè)有第一拖鏈機(jī)構(gòu)，用于保護(hù)所述第一方向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)上的電纜和/或所述氣動(dòng)噴槍機(jī)構(gòu)上的電纜及輸液管路。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米溶液表面噴涂設(shè)備，其特征在于，所述第二方向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)上還設(shè)有第二拖鏈機(jī)構(gòu)，用于保護(hù)所述第二方向運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)上的電纜。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至8任一項(xiàng)所述的納米溶液表面噴涂設(shè)備，其特征在于，所述第一方向與所述第二方向相互垂直。
【文檔編號(hào)】B05B15/06GK204159492SQ201420501030
【公開日】2015年2月18日 申請(qǐng)日期:2014年9月1日 優(yōu)先權(quán)日:2014年9月1日
【發(fā)明者】蔡志祥, 侯若洪, 王浩 申請(qǐng)人:深圳光韻達(dá)光電科技股份有限公司