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      增印玻璃保護膜的制作方法

      文檔序號:11125302閱讀:637來源:國知局
      增印玻璃保護膜的制造方法與工藝

      本發(fā)明涉及一種保護膜,特別涉及一種增印玻璃保護膜。



      背景技術:

      薄膜面板例如手機觸摸按鍵,薄膜開關等產品在搬運和使用過程中,其表面容易受到接觸性污染或磨痕劃傷,通常采用保護膜覆蓋在其表面使之免受損傷和污染。保護膜一般由基材層和涂覆在該基材層上的膠粘劑層構成。當保護膜用來保護各種薄膜面板例如手機觸摸按鍵,薄膜開關等產品的表面時,需要在保護膜上印刷文字、圖案等,傳統(tǒng)的保護膜一般都沒有經過耐磨增印處理,因此很難在保護膜上進行印刷作業(yè);其次,增印保護膜中離型紙與涂覆有高粘度粘合劑的貼膜貼附時,容易導致離型紙上的離型劑涂層被粘附力更大的粘合劑帶走,從而在貼膜的局部表面形成難以清理掉的離型劑涂層區(qū)域,破壞了貼膜整體的純凈、一致性。



      技術實現(xiàn)要素:

      本發(fā)明提供一種增印玻璃保護膜,該增印玻璃保護膜使得有機硅膠面霧度效果好,使得膠面達到低反光效果;且提高了與離型劑涂層接觸的霧面涂層表面粗糙度均勻性,解決離型紙的淋膜層與離型劑涂層結合力不穩(wěn)定的技術問題,有利于剝離以及避免殘留壓敏膠和將離型劑殘留于壓敏膠層上。

      為達到上述目的,本發(fā)明采用的技術方案是:一種增印玻璃保護膜,包括一基材層,此基材層上面涂覆一用于印刷油墨的增印涂層,此基材層下表面通過有機硅壓敏膠層與一霧面離型紙粘合連接,所述霧面離型紙由第一淋膜層、離型紙原紙層、第二淋膜層、霧面涂層和離型劑涂層依次層疊構成,所述霧面涂層朝向所述離型劑涂層的表面的表面粗糙度為2.821um~3.324um;所述制備工藝主要由下列步驟組成:

      第一步:在離型紙原紙的兩側表面,用淋膜機各淋膜一層淋膜層,然后冷卻;

      第二步:在任意一淋膜層上涂覆一層厚度為0.2~2微米的霧面涂層劑,該霧面涂層劑進一步通過以下工藝獲得:

      步驟1. 將0.5份納米SiO2粉體、0.45份納米Al2O3粉體和0.35份硅烷偶聯(lián)劑加入8~10份甲苯中進行超聲波處理獲得預分散液;

      步驟2. 將100份乙烯基硅氧烷、0.3份含氫硅氧烷加入120份丁酮中進行機械攪拌獲得聚合物溶液;

      步驟3. 將步驟1的預分散液、步驟2的聚合物溶液混合并依次進行機械攪拌和超聲波攪拌,從而獲得調制后的聚合物溶液;

      步驟4. 在所述調制后的聚合物溶液加入0.2~0.5份鉑金并依次進行機械攪拌和超聲波攪拌獲得所述霧面離型溶劑;

      第三步:將離型紙的霧面涂層劑通過烘烤進行聚合反應得到霧面涂層;

      第四步:在所述霧面涂層的表面涂覆一層離型劑涂層。

      上述技術方案中進一步改進的技術方案如下:

      1. 上述方案中,所述納米SiO2粉體的直徑范圍為10~15nm,所述納米Al2O3粉體的直徑范圍為25~35nm。

      2. 上述方案中,所述第一、第二淋膜層的材質為聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚丙烯、聚乙烯或者聚氯乙烯。

      由于上述技術方案運用,本發(fā)明與現(xiàn)有技術相比具有下列優(yōu)點和效果:

      本發(fā)明增印玻璃保護膜,其特定直徑和含量的納米SiO2粉體、納米Al2O3粉體在溶劑下與硅烷偶聯(lián)劑經超聲波共同作用,且機械攪拌和超聲波攪拌組合,有利于納米SiO2粉體、Al2O3粉體呈均勻分布,特定的聚合物溶液和預分散液采用不同的溶劑,降低納米SiO2粉體、Al2O3顆粒的表面能,進一步利于粉體顆粒在溶劑中的分散,提高了與離型劑涂層接觸的霧面涂層表面粗糙度均勻性,解決離型紙的淋膜層與離型劑涂層結合力不穩(wěn)定的技術問題,有利于剝離以及避免殘留壓敏膠和將離型劑殘留于壓敏膠層上。

      附圖說明

      附圖1為本發(fā)明增印玻璃保護膜結構示意圖;

      附圖2a為現(xiàn)有增印保護膜中霧面涂層微觀形貌SEM測試圖;

      附圖2b為本發(fā)明增印玻璃保護膜中霧面涂層微觀形貌SEM測試圖;

      附圖3為附圖1的局部結構示意圖。

      以上附圖中:1、基材層;2、增印涂層;3、有機硅壓敏膠層;4、霧面離型紙;5、第一淋膜層;6、離型紙原紙層;7、第二淋膜層;8、霧面涂層;9、離型劑涂層。

      具體實施方式

      下面結合附圖及實施例對本發(fā)明作進一步描述:

      實施例:一種增印玻璃保護膜,包括一基材層1,此基材層1上面涂覆一用于印刷油墨的增印涂層2,此基材層1下表面通過有機硅壓敏膠層3與一霧面離型紙4粘合連接,所述霧面離型紙4由第一淋膜層5、離型紙原紙層6、第二淋膜層7、霧面涂層8和離型劑涂層9依次層疊構成,所述霧面涂層朝向離型劑涂層的表面的表面粗糙度為2.821μm ~3.324μm;所述制備工藝主要由下列步驟組成:

      第一步:在離型紙原紙的兩側表面,用淋膜機各淋膜一層淋膜層,然后冷卻;

      第二步:在任意一淋膜層上涂覆一層厚度為0.2~2微米的霧面涂層劑,該霧面涂層劑進一步通過以下工藝獲得:

      步驟1. 將0.5份納米SiO2粉體、0.45份納米Al2O3粉體和0.35份硅烷偶聯(lián)劑加入8~10份甲苯中進行超聲波處理獲得預分散液;

      步驟2. 將100份乙烯基硅氧烷、0.3份含氫硅氧烷加入120份丁酮中進行機械攪拌獲得聚合物溶液;

      步驟3. 將步驟1的預分散液、步驟2的聚合物溶液混合并依次進行機械攪拌和超聲波攪拌,從而獲得調制后的聚合物溶液;

      步驟4. 在所述調制后的聚合物溶液加入0.2~0.5份鉑金并依次進行機械攪拌和超聲波攪拌獲得所述霧面離型溶劑;

      第三步:將離型紙的霧面涂層劑通過烘烤進行聚合反應得到霧面涂層;

      第四步:在所述霧面涂層的表面涂覆一層離型劑涂層。

      上述納米SiO2粉體的直徑范圍為12nm,所述納米Al2O3粉體的直徑范圍為30nm。

      上述實施例1中第一、第二淋膜層的材質分別為聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚丙烯。

      上述實施例只為說明本發(fā)明的技術構思及特點,其目的在于讓熟悉此項技術的人士能夠了解本發(fā)明的內容并據以實施,并不能以此限制本發(fā)明的保護范圍。凡根據本發(fā)明精神實質所作的等效變化或修飾,都應涵蓋在本發(fā)明的保護范圍之內。

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