1.一種自修復(fù)抗輻射涂層涂料，其特征在于：該自修復(fù)抗輻射涂層涂料包括質(zhì)量比為1：(0.5-1.5)的組分a與組分b，組分a包括8-40份氨基聚硅氧烷、8-40份填料、0-5份潤濕分散劑，組分b為改性環(huán)氧樹脂；
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種自修復(fù)抗輻射涂層涂料，其特征在于：所述硅烷偶聯(lián)劑為八甲基環(huán)四硅氧烷、甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、正丙基三甲氧基硅烷、正丙基三乙氧基硅烷、二甲基二氯硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷中的任一種或兩種及以上任意比例的混合。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種自修復(fù)抗輻射涂層涂料，其特征在于：所述氨基硅烷為γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、n-β(氨乙基)-γ-丙基三甲氧基硅烷、n-β(氨乙基)-γ-氨丙基甲基二甲氧基硅烷、n-β-(氨乙基)-γ-氨丙基三乙氧基硅烷、n-β(氨乙基)-γ-氨丙基甲基二乙氧基硅烷、氨乙基氨丙基三甲氧基硅烷中的任一種或兩種及以上任意比例的混合。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種自修復(fù)抗輻射涂層涂料，其特征在于：所述催化劑為氫氧化鉀、氫氧化鈉、氨水、乙醇鈉、甲醇鈉中的任一種。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種自修復(fù)抗輻射涂層涂料，其特征在于：所述填料為金紅石型二氧化鈦、石英粉、滑石粉、碳酸鈣中的任一種或兩種及以上任意比例的混合。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種自修復(fù)抗輻射涂層涂料，其特征在于：所述杯芳烴為杯[4]芳烴、4-磺酰杯[4]芳烴、4-叔丁基杯[4]芳烴中的任一種或兩種及以上任意比例的混合；所述環(huán)氧樹脂為多官能度環(huán)氧樹脂。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種自修復(fù)抗輻射涂層涂料，其特征在于：所述改性環(huán)氧樹脂還包括稀釋劑，所述稀釋劑為異丙醇、正丁醇、丙二醇甲醚、二甲苯中的任一種或兩種及以上任意比例的混合；稀釋劑用量為5-20份。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種自修復(fù)抗輻射涂層涂料，其特征在于：所述氨基聚硅氧烷制備過程的反應(yīng)溫度為120-150℃，反應(yīng)時間為5-10h；所述改性環(huán)氧樹脂制備過程的反應(yīng)溫度為100-150℃，反應(yīng)時間為4-6h。
9.一種抗輻射涂層，其特征在于：所述抗輻射涂層的原料包括如權(quán)利要求1-8中任一項所述的自修復(fù)抗輻射涂層涂料。
10.權(quán)利要求9所述的一種抗輻射涂層的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：