填充顏料的制作方法
【專利說明】填充顏料
[00011 本申請是申請?zhí)枮?00810185942.6、申請日為2008年12月16日、發(fā)明名稱為"填充 顏料"的中國專利申請的分案申請。
[0002] 本發(fā)明涉及基于由含有硫酸鋇和至少兩種金屬氧化物和/或金屬氫氧化物層涂覆 的片狀基材的填充顏料。這些填充顏料非常適合于化妝品應用。
[0003] 已知使用薄片的粉末，例如云母、例如白云母或絹云母，或粘土材料、如高嶺土或 滑石，因為這些物質是用于制備在化妝品中尤其有用的填充劑粉末的起始材料。對于在不 同種類的化妝品如撲面粉，美容品(make-ups)等中的應用而言，這些填充粉末本身不具有 所需要性能，即粘附力和延展性。因此，它們通常與添加劑，如二氧化鈦、金屬皂和/或碳酸 鈣混合。
[0004] EP0 142 695B1公開了基于涂覆有硫酸鋇的云母的顏料。由于這些顏料的觸覺 和光學性能，它們適合用于如撲面粉等的粉底中。然而這些填充顏料具有特殊的缺點如光 敏性和發(fā)白的外觀。
[0005] 本發(fā)明的目的在于提供一種基于片狀基材的不顯示光澤、具有良好的皮膚感覺和 自然外表的光穩(wěn)定的填充顏料。
[0006] 令人驚訝地，現(xiàn)在已經發(fā)現(xiàn)了光敏性較小或非光敏性的填充顏料，其除了格外輕 柔的皮膚觸覺外，還在應用中有好的展開性以及使皮膚呈現(xiàn)自然狀態(tài)的隱藏特性。因此本 發(fā)明涉及填充顏料，其特征在于片狀基材涂敷有硫酸鋇和至少兩種金屬氧化物和/或金屬 氫氧化物。
[0007] 本發(fā)明還涉及一種薄片狀填充顏料的制備方法。由于優(yōu)良的性能，根據(jù)本發(fā)明的 填充顏料廣泛適用于許多不同的應用。因此本發(fā)明還涉及這些填充顏料在化妝品、油漆、涂 料、塑料、膜、自由流動的制劑和如顆粒、丸粒等干制劑中的應用。
[0008] 同樣地本發(fā)明涉及化妝品配制劑，如，例如美容品、粉餅、散粉、口紅等，其包含根 據(jù)本發(fā)明的填充顏料。該填充顏料非常適合作為光擴散顏料，所述光擴散顏料的意思是它 具有透明度、散射和反射的平衡關系。因為它散射光以使皺紋的可見度最小化，該填充顏 料對于美容品，抗皺紋產品和皮膚修護劑(skincorrector)是非常有用的。
[0009] 根據(jù)本發(fā)明的填充顏料基于薄片狀基材。合適的基材為天然或合成云母、層狀硅 酸鹽、二氧化娃、二氧化錫、二氧化錯、玻璃、氧化鋁、二氧化鈦、氟化鎂和/或氧化鐵或其混 合物的薄片。根據(jù)本發(fā)明的填充顏料的基材優(yōu)選由云母(合成的和天然的)薄片、Al2〇3薄片、 玻璃薄片、滑石、高嶺土、Si〇2薄片構成，最優(yōu)選由云母構成。
[0010] 優(yōu)選的Si〇2薄片具有均勻的層厚，優(yōu)選根據(jù)國際專利申請W0 93/08237在傳動皮 帶上通過水玻璃溶液的固化和水解而制備。在這里"均勻層厚"指的是層厚度偏差為顆?？?干層厚的3至10%，優(yōu)選3至6%。薄片狀二氧化硅顆粒通常是無定形的。
[0011] 由于玻璃薄片的表面平滑和高透明度，因此優(yōu)選的基礎基材為玻璃薄片?；A基 材的大小本身不是關鍵的，且可以與特定的應用相配。尤其優(yōu)選平均厚度<2μπι的玻璃薄片。 更厚的薄片通常不能用于普通印刷工藝和要求面漆(paintfinishes)中。薄玻璃薄片與厚 度>1μπι的厚薄片相比皮膚觸覺更好。因此玻璃薄片優(yōu)選厚度〈Ιμπι，尤其<0.9μπι，非常優(yōu)選〈 Ο· 7μπι。特別優(yōu)選厚度為Ο· 25μπι-0 · 7μπι的玻璃薄片。玻璃薄片的直徑優(yōu)選為20-200μπι，尤其 優(yōu)選10-60μπι，最優(yōu)選< 40μπι。具有這些尺寸的玻璃薄片可商購和/或可以通過已知方法如 例如管吹法（tubeblowingprocess)(NipponSheetGlass)、紡絲法（GlassflakeLtd.) 制備。
[0012] 尤其優(yōu)選摻雜或不摻雜的Al2〇3薄片。合適的Al2〇3薄片是例如在JP3242561B中 所公開的那些。
[0013] 基材的直徑通常為100μπι以下，優(yōu)選50μηι以下且最優(yōu)選< 40μηι。厚度為50-2000nm， 優(yōu)選50-1000nm且尤其優(yōu)選50-500nm。
[0014] 薄片狀基材的平均長徑比、即平均長度測定值，其在此與平均直徑相對應，與平均 厚度測定值的比值，通常為2至2000,優(yōu)選2至1000,且尤其優(yōu)選2到200。
[0015] 在基材上施涂硫酸鋇和/或金屬氧化物層以前，也可以任選沉積1.4〈n〈2.7(n= 折射率)的薄介電層。如玻璃薄片上的這種類型的涂層，可以由例如Si02層或ZnO層構成，優(yōu) 選由厚度為2_20nm的Si02層構成。
[0016] 根據(jù)本發(fā)明的填充顏含有基于基材的5_200wt%、優(yōu)選5-lOOwt%且最優(yōu)選10-50wt%的硫酸鋇。
[0017]硫酸鋇層與至少兩種金屬氧化物組合。硫酸鋇和金屬氧化物的重量比可以從1:10 至5:1變化，這取決于所希望的性能，例如填充粉末的遮蓋力和顏色。
[0018]在硫酸鋇層含有二氧化鈦的情況下，該二氧化鈦可以為銳鈦礦或金紅石改性。金 紅石是優(yōu)選的改性。該金紅石層可以根據(jù)EP0 271 767中所述的方法制備。
[0019]優(yōu)選的金屬氧化物 / 氫氧化物選自Ti〇2、Sn02、ZnO、Fe2〇3、Fe3〇4、Si02、Al2〇3、Zr02 和 相應的氫氧化物以及它們的組合。
[0020] 另外硫酸鋇層還可以摻雜有炭黑和/或有機或無機著色劑，其中摻雜比例不應超 過基于BaS〇4層的10重量％。
[0021]在優(yōu)選實施方案中，填充顏料可以另外地涂敷有選自以下的著色劑:胭脂紅，普魯 士藍，靛蒽醌bri11iantrosa，1，4-二酮-吡略并吡略衍生物，硫靛-、靛-、三苯基甲燒-、偶 氮-、蒽醌(anthrachinone)-、酞菁-衍生物或靛蒽醌，F(xiàn)e2〇3，Cr2〇3，BiV〇4，CoAl2〇4SFe3〇4〇
[0022] 如果Ti02層主要由金紅石構成，優(yōu)選在涂敷Ti02之前進行Sn02核的全部或部分涂 敷。該非常薄的Sn〇2層最大厚度為20nm，優(yōu)選< 10nm，最優(yōu)選< 5nm。該Sn〇2層還可以作為簡 單的點分布在表面或基材上。
[0023] 填充顏料的光穩(wěn)定性隨著最終填充顏料表面上的Si02層而增加。這些顏料具有它 們顯示不與或較少地與自曬黑化妝品中所常用的二羥基丙酮(DHA)反應的進一步優(yōu)點。
[0024] 基礎基材可以涂敷有含有硫酸鋇和至少兩種金屬氧化物的混合層。此外，可以在 基礎基材上先施涂金屬氧化物層然后施涂硫酸鋇層，或在基礎基材上先施涂硫酸鋇層再施 涂金屬氧化物層。金屬氧化物層由至少一種金屬氧化物構成。該金屬氧化物層可以是由至 少兩種不同的金屬氧化物或兩不同的金屬氧化物層構成的混合金屬氧化物層。通常，氧化 物層和硫酸鋇層的任何順序都是可以的。
[0025] 優(yōu)選的填充顏料具有下列層結構：
[0026] 金屬氧化物1和金屬氧化物2可以相同或不同。在優(yōu)選實施方案中，金屬氧化物1和 金屬氧化物2是不同的。
[0027] 基材
[0028] 第1層：BaS〇4
[0029] 第2層:金屬氧化物1
[0030] 第3層:金屬氧化物2或 [0031 ] 基材
[0032]第1層:金屬氧化物1
[0033] 第 2層:BaS〇4
[0034] 第3層:金屬氧化物2或
[0035] 基材
[0036] 第1層:金屬氧化物1 [0037]第2層:金屬氧化物2 [0038]第3層:BaS〇4 或
[0039] 基材
[0040] 第1層:BaS〇4+金屬氧化物