透明導(dǎo)電性膜的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供硬質(zhì)涂層的耐蝕刻性優(yōu)異、可穩(wěn)定地將透明導(dǎo)電層的圖案形狀不可見化、并且所得透明導(dǎo)電性膜的抗粘連性優(yōu)異的透明導(dǎo)電層形成用層合體和使用該層合體的透明導(dǎo)電性膜。所述透明導(dǎo)電層形成用層合體等是將硬質(zhì)涂層、基材膜和光學(xué)調(diào)整層依次進(jìn)行層合而成的，其中，硬質(zhì)涂層是將含有下列(A)~(B)成分的硬質(zhì)涂層形成用組合物進(jìn)行光固化而成的：(A)活性能量射線固化性樹脂100重量份，(B)二氧化硅微粒15~100重量份。
【專利說明】
透明導(dǎo)電性膜
技術(shù)領(lǐng)域
[0001] 本發(fā)明涉及透明導(dǎo)電層形成用層合體和透明導(dǎo)電性膜。
[0002] 特別是涉及硬質(zhì)涂層的耐蝕刻性優(yōu)異、可穩(wěn)定地將透明導(dǎo)電層的圖案形狀不可見 化、并且所得透明導(dǎo)電性膜的抗粘連性優(yōu)異的透明導(dǎo)電層形成用層合體和使用該層合體的 透明導(dǎo)電性膜。
【背景技術(shù)】
[0003] 以往，可通過直接觸摸圖像顯示部而輸入信息的觸控面板是將透光性的輸入裝置 配置于顯示器上而成的。
[0004] 作為這樣的觸控面板的代表性形式，存在下述的觸控面板:將2片透明電極基板以 使各自的透明電極層相對(duì)的方式，在設(shè)置空隙的同時(shí)進(jìn)行配置而成的電阻膜式觸控面板； 或利用在透明電極膜與手指之間產(chǎn)生的靜電容的變化的靜電容式觸控面板。
[0005] 其中，在靜電容式觸控面板中，作為用于檢測(cè)手指的觸控位置的傳感器，大致存 在:將透明導(dǎo)電層層合于玻璃基材上而成的玻璃傳感器和將透明導(dǎo)電層層合于透明塑料膜 基材上而成的膜傳感器。
[0006] 特別是在膜傳感器中，大多通過將2片具備圖案化為線狀的透明導(dǎo)電層的透明導(dǎo) 電性膜進(jìn)行配置，使得各自的圖案相互交叉，從而形成格子狀的圖案。
[0007] 但是，在這樣將透明導(dǎo)電層圖案化的情況下，發(fā)現(xiàn)了以下問題：圖案部與非圖案部 的交界部分變得容易辨識(shí)，使靜電容式觸控面板的美觀變差。
[0008] 因此，公開了用于解決這樣的問題的技術(shù)(例如參照專利文獻(xiàn)1)。
[0009] 即，在專利文獻(xiàn)1中公開了硬質(zhì)涂布基材，其是依次含有透明基材、易粘接層和折 射率調(diào)整層的硬質(zhì)涂布基材，其特征在于，折射率調(diào)整層在550nm波長(zhǎng)下的折射率為1.60~ 1.90，折射率調(diào)整層的厚度為0.3~5μπι，易粘接層在550nm波長(zhǎng)下的折射率為1.56~1.70。
[0010] 另外，記載了在透明基材的形成有折射率調(diào)整層的一側(cè)的相反側(cè)進(jìn)一步層合具有 抗粘連性的含有填充劑的功能層(機(jī)能付與層）。
[0011]現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn) 專利文獻(xiàn) 專利文獻(xiàn)1:日本特開2013-202844號(hào)公報(bào)(權(quán)利要求書）。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0012] 發(fā)明所要解決的課題 但是，在專利文獻(xiàn)1中公開的硬質(zhì)涂布基材發(fā)現(xiàn)了以下問題:在將透明導(dǎo)電層通過蝕刻 進(jìn)行圖案化時(shí)，含有填充劑的功能層容易被蝕刻液侵蝕，由此難以穩(wěn)定地將透明導(dǎo)電層的 圖案形狀不可見化。
[0013] 更具體而言，近年來，隨著智能電話等的生產(chǎn)增加，要求蝕刻處理的快速化，特別 是在作為蝕刻處理最終工序的用于除去殘留的光致抗蝕劑的堿處理中，例如有使用加熱為 40 °C的5重量%的氫氧化鈉水溶液的情況。
[0014] 在進(jìn)行這樣的苛刻的堿處理的情況下，在專利文獻(xiàn)1中公開的硬質(zhì)涂布基材中發(fā) 現(xiàn)了以下問題:功能層中的填充劑容易溶解或脫落，其結(jié)果，難以穩(wěn)定地將透明導(dǎo)電層的圖 案形狀不可見化。
[0015] 因此，本發(fā)明人等鑒于如上的情況而銳意努力時(shí)發(fā)現(xiàn)，在形成作為透明導(dǎo)電層形 成用層合體的最背面的硬質(zhì)涂層時(shí)，通過使用相對(duì)于活性能量射線固化性樹脂以規(guī)定的范 圍混合二氧化硅微粒而成的硬質(zhì)涂層形成用組合物，可解決上述的問題，從而完成了本發(fā) 明。
[0016] 即，本發(fā)明的目的在于:提供硬質(zhì)涂層的耐蝕刻性優(yōu)異、可穩(wěn)定地將透明導(dǎo)電層的 圖案形狀不可見化、并且所得透明導(dǎo)電性膜的抗粘連性優(yōu)異的透明導(dǎo)電層形成用層合體和 使用該層合體的透明導(dǎo)電性膜。
[0017] 用于解決課題的手段 根據(jù)本發(fā)明，提供透明導(dǎo)電層形成用層合體，其是將硬質(zhì)涂層、基材膜和光學(xué)調(diào)整層依 次進(jìn)行層合而成的透明導(dǎo)電層形成用層合體，其特征在于，硬質(zhì)涂層是將含有下列(A)~(B) 成分的硬質(zhì)涂層形成用組合物進(jìn)行光固化而成的，從而可解決上述的問題： (A) 活性能量射線固化性樹脂 100重量份， (B) 二氧化硅微粒 15~100重量份。
[0018] 即，若為本發(fā)明的透明導(dǎo)電層形成用層合體，由于在形成作為其最背面的硬質(zhì)涂 層時(shí)使用的硬質(zhì)涂層形成用組合物中相對(duì)于活性能量射線固化性樹脂以較少的范圍含有 二氧化硅微粒，所以即使是進(jìn)行含有苛刻的堿處理的蝕刻處理的情況，也可有效地抑制硬 質(zhì)涂層中的二氧化硅微粒溶解或脫落(以下，有將這樣的效果稱為"耐蝕刻性"的情況）。
[0019] 其結(jié)果，可抑制硬質(zhì)涂層的膜厚度和折射率發(fā)生變化，進(jìn)而可抑制硬質(zhì)涂層的光 學(xué)特性發(fā)生變化，因此可穩(wěn)定地將透明導(dǎo)電層的圖案形狀不可見化。
[0020] 另外，由于可有效地抑制硬質(zhì)涂層中的二氧化硅微粒溶解或脫落，所以可有效地 保持在硬質(zhì)涂層的表面因二氧化硅微粒形成的微小的表面凹凸。
[0021] 其結(jié)果，在將所得透明導(dǎo)電性膜卷取為卷狀時(shí)，可有效地抑制直接接觸的膜的正 反面發(fā)生粘連(以下，有將這樣的效果稱為"抗粘連性"的情況）。
[0022] 另外，在構(gòu)成本發(fā)明的透明導(dǎo)電層形成用層合體時(shí)，優(yōu)選將作為(B)成分的二氧化 硅微粒的體積平均粒徑(D50)設(shè)為10~lOOnm的范圍內(nèi)的值。
[0023] 通過這樣進(jìn)行構(gòu)成，可不降低硬質(zhì)涂層的透明性，而得到規(guī)定的抗粘連性。
[0024] 另外，在構(gòu)成本發(fā)明的透明導(dǎo)電層形成用層合體時(shí)，優(yōu)選作為(B)成分的二氧化硅 微粒為實(shí)心二氧化硅微粒。
[0025] 通過這樣進(jìn)行構(gòu)成，與中空二氧化硅微粒相比，可使粒徑小，因此盡管混合為了得 到抗粘連性所需要的量，仍可有效地保持硬質(zhì)涂層的透明性。
[0026] 另外，在構(gòu)成本發(fā)明的透明導(dǎo)電層形成用層合體時(shí)，優(yōu)選作為(B)成分的二氧化硅 微粒為反應(yīng)性二氧化硅微粒。
[0027] 通過這樣進(jìn)行構(gòu)成，可將二氧化硅微粒牢固地固定于硬質(zhì)涂層上，因此可更有效 地提尚耐蝕刻性。
[0028] 另外，在構(gòu)成本發(fā)明的透明導(dǎo)電層形成用層合體時(shí)，優(yōu)選硬質(zhì)涂層形成用組合物 含有作為(c)成分的氟類流平劑，而且，相對(duì)于100重量份的作為(A)成分的活性能量射線固 化性樹脂，將該氟類流平劑的混合量設(shè)為〇. 01~〇. 2重量份的范圍內(nèi)的值。
[0029] 通過這樣進(jìn)行構(gòu)成，可更有效地保護(hù)硬質(zhì)涂層中的二氧化硅微粒，因此可進(jìn)一步 有效地提尚耐蝕刻性。
[0030] 另外，在構(gòu)成本發(fā)明的透明導(dǎo)電層形成用層合體時(shí)，優(yōu)選將硬質(zhì)涂層的膜厚度設(shè) 為0.5~5μπι的范圍內(nèi)的值。
[0031] 通過這樣進(jìn)行構(gòu)成，可得到足夠的耐蝕刻性，而且，在實(shí)施退火處理時(shí)，可有效地 抑制透明導(dǎo)電層形成用層合體的卷曲的產(chǎn)生。
[0032] 需說明的是，"退火處理"是指為了提高透明導(dǎo)電性膜中的透明導(dǎo)電層的電導(dǎo)率， 而將層合于透明導(dǎo)電層形成用層合體上的狀態(tài)的透明導(dǎo)電層通過加熱處理進(jìn)行結(jié)晶化的 處理。
[0033] 另外，在構(gòu)成本發(fā)明的透明導(dǎo)電層形成用層合體時(shí)，在將硬質(zhì)涂層作為第1硬質(zhì)涂 層的情況下，優(yōu)選在基材膜與光學(xué)調(diào)整層之間具有第2硬質(zhì)涂層。
[0034] 通過這樣進(jìn)行構(gòu)成，不但可有效地抑制因從基材膜滲出的低聚物成分而污染光學(xué) 調(diào)整層，而且在實(shí)施退火處理時(shí)，可有效地抑制透明導(dǎo)電層形成用層合體的卷曲的產(chǎn)生。
[0035] 另外，在構(gòu)成本發(fā)明的透明導(dǎo)電層形成用層合體時(shí)，優(yōu)選第2硬質(zhì)涂層是將與第1 硬質(zhì)涂層相同的硬質(zhì)涂層形成用組合物進(jìn)行光固化而成的，而且，具有與第1硬質(zhì)涂層相同 的膜厚度。
[0036] 通過這樣進(jìn)行構(gòu)成，第1和第2硬質(zhì)涂層的形成變得容易，而且，在實(shí)施退火處理 時(shí)，可更有效地抑制透明導(dǎo)電層形成用層合體的卷曲的產(chǎn)生。
[0037] 另外，本發(fā)明的另外的方式為透明導(dǎo)電性膜，其是將硬質(zhì)涂層、基材膜、光學(xué)調(diào)整 層和透明導(dǎo)電層依次進(jìn)行層合而成的透明導(dǎo)電性膜，其特征在于，硬質(zhì)涂層是將含有下列 (ΑΜΒ)成分的硬質(zhì)涂層形成用組合物進(jìn)行光固化而成的： (Α)活性能量射線固化性樹脂 100重量份， (Β)二氧化硅微粒 15~100重量份。
[0038] 即，若為本發(fā)明的透明導(dǎo)電性膜，由于使用規(guī)定的透明導(dǎo)電層形成用層合體，所以 硬質(zhì)涂層的耐蝕刻性優(yōu)異，可穩(wěn)定地將透明導(dǎo)電層的圖案形狀不可見化，并且可得到優(yōu)異 的抗粘連性。
[0039] 另外，在構(gòu)成本發(fā)明的透明導(dǎo)電性膜時(shí)，優(yōu)選通過蝕刻使透明導(dǎo)電層圖案化。
[0040] 即使是這樣進(jìn)行構(gòu)成的情況，由于硬質(zhì)涂層的耐蝕刻性優(yōu)異，所以也可穩(wěn)定地將 透明導(dǎo)電層的圖案形狀不可見化。
【附圖說明】
[0041] [圖1]圖l(aMb)是為了說明本發(fā)明的透明導(dǎo)電層形成用層合體的構(gòu)成而提供 的圖。
[0042] [圖2]圖2是為了說明二氧化硅微粒的混合量與硬質(zhì)涂層的耐蝕刻性和抗粘連性 的關(guān)系而提供的圖。
[0043] [圖3]圖3是為了說明本發(fā)明的透明導(dǎo)電性膜的構(gòu)成而提供的圖。
【具體實(shí)施方式】
[0044] [第1實(shí)施方式] 本發(fā)明的第1實(shí)施方式為透明導(dǎo)電層形成用層合體10,如圖1(a)所示，其是將硬質(zhì)涂層 3a、基材膜4和光學(xué)調(diào)整層2依次進(jìn)行層合而成的透明導(dǎo)電層形成用層合體10,其特征在于， 硬質(zhì)涂層3a是將含有下列(A)~(B)成分的硬質(zhì)涂層形成用組合物進(jìn)行光固化而成的： (A) 活性能量射線固化性樹脂 100重量份， (B) 二氧化硅微粒 15~100重量份。
[0045] 需說明的是，在圖1(a)中，以在基材膜4的兩面具有硬質(zhì)涂層3(3a、3b)的方式的透 明導(dǎo)電層形成用層合體10為一個(gè)實(shí)例進(jìn)行表示，但基材膜4與光學(xué)調(diào)整層2之間的硬質(zhì)涂層 3b可省略。
[0046] 另外，對(duì)于光學(xué)調(diào)整層2,也以由高折射率層2b和低折射率層2a這2層構(gòu)成的方式 為一個(gè)實(shí)例進(jìn)行表示，但也可是由1層構(gòu)成的方式或由3層以上構(gòu)成的方式的光學(xué)調(diào)整層2。
[0047] 另外，在圖1(a)中，各層中的粒子表示二氧化硅微粒或金屬氧化物粒子。
[0048] 以下，適宜參照附圖，具體地說明本發(fā)明的第1實(shí)施方式。
[0049] 1.基材膜 (1)種類 作為基材膜的種類，無特殊限制，可使用作為光學(xué)用基材而公知的基材膜。
[0050] 例如，可優(yōu)選列舉出：聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚對(duì)苯二甲酸丁二醇酯、聚萘 二甲酸乙二醇酯(PEN)等聚酯膜，聚乙烯膜，聚丙烯膜，玻璃紙，二醋酸纖維素膜，三醋酸纖 維素膜，醋酸丁酸纖維素膜，聚氯乙烯膜，聚偏氯乙烯膜，聚乙烯醇膜，乙烯-醋酸乙烯共聚 物膜，聚苯乙烯膜，聚碳酸酯膜，聚甲基戊烯膜，聚砜膜，聚醚醚酮膜，聚醚砜膜，聚醚酰亞胺 膜，聚酰亞胺膜，氟樹脂膜，聚酰胺膜，丙烯酸樹脂膜，降冰片烯類樹脂膜，環(huán)烯烴樹脂膜等 塑料膜。
[0051] 另外，在它們之中，從耐熱性的觀點(diǎn)出發(fā)，更優(yōu)選為聚酯膜、聚碳酸酯膜、聚酰亞胺 膜、降冰片烯類樹脂膜、環(huán)烯烴樹脂膜。
[0052] 另外，從透明性和膜強(qiáng)度與柔軟性并存的觀點(diǎn)出發(fā)，特別優(yōu)選為PET膜。
[0053] (2)膜厚度 另外，優(yōu)選將基材膜的膜厚度設(shè)為20~200μπι的范圍內(nèi)的值。
[0054]其原因在于:若基材膜的膜厚度為低于20μπι的值，則由于基材膜的強(qiáng)度降低，有無 法有效地抑制在光學(xué)調(diào)整層中的透明導(dǎo)電層的存在部分與非存在部分的退火處理時(shí)的變 形的產(chǎn)生的情況。另一方面，其原因在于:若基材膜的膜厚度為超過200μπι的值，則有基材膜 的透明性等光學(xué)特性變差的情況。
[0055]因此，更優(yōu)選將基材膜的膜厚度設(shè)為30~180μπι的范圍內(nèi)的值，進(jìn)一步優(yōu)選設(shè)為50~ 150μπι的范圍內(nèi)的值。
[0056]需說明的是，"退火處理"是指為了提高透明導(dǎo)電性膜中的透明導(dǎo)電層的電導(dǎo)率， 而將層合于透明導(dǎo)電層形成用層合體上的狀態(tài)的透明導(dǎo)電層通過加熱處理進(jìn)行結(jié)晶化的 處理。
[0057] 2.硬質(zhì)涂層 如圖1(a)所示，在構(gòu)成本發(fā)明的透明導(dǎo)電層形成用層合體10時(shí)，其特征在于，至少在與 基材膜4中的層合有光學(xué)調(diào)整層2的一側(cè)的相反側(cè)的面設(shè)置硬質(zhì)涂層3a。
[0058] 其原因在于：通過設(shè)置這樣的硬質(zhì)涂層，在透明導(dǎo)電層形成用層合體的制備工序 中，可對(duì)基材膜賦予耐擦傷性，并防止光學(xué)特性降低，除此之外，在將基材膜卷取為卷狀的 情況下可抑制基材膜彼此粘附的現(xiàn)象產(chǎn)生（以下，有將這樣的效果稱為"抗粘連性"的情 況)。
[0059] 另外，如圖1(a)所示，在將硬質(zhì)涂層3a作為第1硬質(zhì)涂層的情況下，優(yōu)選在基材膜4 與光學(xué)調(diào)整層2之間具有第2硬質(zhì)涂層3b。
[0060] 其原因在于:通過具有這樣的第2硬質(zhì)涂層，不但可有效地抑制因從基材膜滲出的 低聚物成分而污染光學(xué)調(diào)整層，而且可有效地抑制透明導(dǎo)電層形成用層合體的卷曲的產(chǎn) 生。
[0061] 另外，優(yōu)選第2硬質(zhì)涂層是將與第1硬質(zhì)涂層相同的硬質(zhì)涂層形成用組合物進(jìn)行光 固化而成的，而且，具有與第1硬質(zhì)涂層相同的膜厚度。
[0062] 其原因在于:通過這樣構(gòu)成第2硬質(zhì)涂層，第1和第2硬質(zhì)涂層的形成變得容易，而 且，可有效地抑制在實(shí)施退火處理的情況下透明導(dǎo)電層形成用層合體的卷曲的產(chǎn)生。
[0063] 因此，以下的說明為第1硬質(zhì)涂層和第2硬質(zhì)涂層這兩方通用的內(nèi)容。
[0064] (1)原料 另外，本發(fā)明的硬質(zhì)涂層的特征在于:是將含有作為原料的下列(A)~(B)成分的硬質(zhì)涂 層形成用組合物進(jìn)行光固化而成的： (A) 活性能量射線固化性樹脂 100重量份， (B) 二氧化硅微粒 15~100重量份。
[0065] 其原因在于:在形成硬質(zhì)涂層時(shí)使用的硬質(zhì)涂層形成用組合物中相對(duì)于活性能量 射線固化性樹脂以較少的范圍含有二氧化硅微粒，由此即使是進(jìn)行含有苛刻的堿處理的蝕 刻處理的情況，也可有效地抑制硬質(zhì)涂層中的二氧化硅微粒溶解或脫落。
[0066] 更具體而言，如圖1(a)所示，在硬質(zhì)涂層3a中的二氧化硅微粒的混合量少的情況 下，由樹脂構(gòu)成的基質(zhì)部分的存在比例變多，因此即使是進(jìn)行苛刻的堿處理的情況，二氧化 硅微粒仍在基質(zhì)部分得到有效地保護(hù)，可有效地抑制溶解或脫落。
[0067] 其結(jié)果，可抑制硬質(zhì)涂層的膜厚度和折射率發(fā)生變化，進(jìn)而可抑制硬質(zhì)涂層的光 學(xué)特性發(fā)生變化。
[0068]另一方面，如圖1(b)所示，在硬質(zhì)涂層3a'中的二氧化硅微粒的混合量多的情況 下，由樹脂構(gòu)成的基質(zhì)部分的存在比例變少，因此在進(jìn)行苛刻的堿處理的情況下，二氧化硅 微粒未通過基質(zhì)部分得到充分地保護(hù)，變得容易溶解或脫落。
[0069] 因此，如圖1(a)所示，若為硬質(zhì)涂層3a中的二氧化硅微粒的混合量少的本發(fā)明的 透明導(dǎo)電層形成用層合體10,則可穩(wěn)定地將在光學(xué)調(diào)整層2上形成的透明導(dǎo)電層的圖案形 狀不可見化。
[0070] 另外，由于可有效地抑制硬質(zhì)涂層中的二氧化硅微粒溶解或脫落，所以可有效地 保持在硬質(zhì)涂層的表面因二氧化硅微粒形成的微小的表面凹凸。
[0071]因此，在將所得透明導(dǎo)電性膜卷取為卷狀時(shí)，可有效地抑制直接接觸的膜的正反 面發(fā)生粘連。
[0072]以下，對(duì)每種成分進(jìn)行說明。
[0073] (1)_1 (A)成分:活性能量射線固化性樹脂 (A) 成分為活性能量射線固化性樹脂。
[0074] 作為這樣的(A)成分的活性能量射線固化性樹脂是指通過在電磁波或荷電粒子束 中照射具有能量量子的射線（即紫外線或電子束等)而進(jìn)行交聯(lián)、固化的聚合性化合物，例 如可列舉出:光聚合性預(yù)聚物或光聚合性單體。
[0075] 另外，在上述光聚合性預(yù)聚物中，有自由基聚合型和陽離子聚合型，作為自由基聚 合型的光聚合性預(yù)聚物，可列舉出：聚酯丙烯酸酯類、環(huán)氧丙烯酸酯類、氨基甲酸酯丙烯酸 酯類、多元醇丙烯酸酯類等。
[0076] 另外，作為聚酯丙烯酸酯類預(yù)聚物，例如可列舉出通過以下方法得到的化合物：用 (甲基)丙烯酸將通過多元羧酸與多元醇的縮合而得到的在雙末端具有羥基的聚酯低聚物 的羥基進(jìn)行酯化，或用（甲基)丙烯酸將氧化烯與多元羧酸加成而得到的低聚物的末端的羥 基進(jìn)彳丁酯化。
[0077] 另外，作為環(huán)氧丙烯酸酯類預(yù)聚物，例如可列舉出通過以下方法得到的化合物:對(duì) 于較低分子量的雙酚型環(huán)氧樹脂或酚醛型環(huán)氧樹脂的環(huán)氧乙烷環(huán)，用（甲基)丙烯酸進(jìn)行酯 化。
[0078] 另外，作為氨基甲酸酯丙烯酸酯類預(yù)聚物，例如可列舉出通過以下方法得到的化 合物:用（甲基)丙烯酸將通過聚醚多元醇或聚酯多元醇與聚異氰酸酯的反應(yīng)而得到的聚氨 基甲酸酯低聚物進(jìn)行酯化。
[0079] 此外，作為多元醇丙烯酸酯類預(yù)聚物，可列舉出：通過用（甲基)丙烯酸將聚醚多元 醇的羥基進(jìn)行酯化而得到的化合物。
[0080] 需說明的是，這些聚合性預(yù)聚物可單獨(dú)使用1種或?qū)?種以上組合使用。
[0081] 另一方面，作為陽離子聚合型的光聚合性預(yù)聚物，通常使用環(huán)氧類樹脂。
[0082] 作為這樣的環(huán)氧樹脂，例如可列舉出：用表氯醇等對(duì)雙酚樹脂或酚醛樹脂等多元 酚類進(jìn)行環(huán)氧化而得到的化合物、用過氧化物等將直鏈狀烯烴化合物或環(huán)狀烯烴化合物進(jìn) 行氧化而得到的化合物等。
[0083] 另外，作為光聚合性單體，例如可列舉出：二（甲基)丙烯酸-1，4-丁二醇酯、二（甲 基)丙烯酸-1，6-己二醇酯、二（甲基)丙烯酸新戊二醇酯、二（甲基)丙烯酸聚乙二醇酯、新戊 二醇己二酸二（甲基)丙烯酸酯、羥基特戊酸新戊二醇二（甲基)丙烯酸酯、二（甲基)丙烯酸 二環(huán)戊烯基酯、己內(nèi)酯改性二（甲基）丙烯酸二環(huán)戊烯基酯、氧化乙烯改性磷酸二（甲基）丙 烯酸酯、烯丙基化二（甲基)丙烯酸環(huán)己酯、異氰尿酸二（甲基)丙烯酸酯、丙酸改性二季戊四 醇三（甲基）丙烯酸酯、季戊四醇三（甲基）丙烯酸酯、氧化丙烯改性三羥甲基丙烷三（甲基） 丙烯酸酯、三(丙烯酰氧基乙基)異氰尿酸酯、丙酸改性二季戊四醇五（甲基)丙烯酸酯、二季 戊四醇六（甲基)丙烯酸酯、己內(nèi)酯改性二季戊四醇六（甲基)丙烯酸酯等多官能丙烯酸酯。
[0084] 需說明的是，這些光聚合性單體可單獨(dú)使用1種或?qū)?種以上組合使用。
[0085] (1)-2 (B)成分:二氧化硅微粒 (B) 成分為二氧化硅微粒。
[0086]作為這樣的二氧化娃微粒的種類，無特殊限制，但優(yōu)選使用實(shí)心二氧化娃微粒。 [0087]其原因在于:若為實(shí)心二氧化硅微粒，則與體積平均粒徑為20nm以上的中空二氧 化硅微粒相比，可使粒徑小，因此盡管混合為了得到抗粘連性所需要的量，仍可有效地保持 硬質(zhì)涂層的透明性。
[0088] 另外，與高價(jià)的中空二氧化硅微粒相比，在經(jīng)濟(jì)上也有利。
[0089] 需說明的是，"實(shí)心二氧化硅微粒"是指在粒子的內(nèi)部不具有空洞的二氧化硅微 粒。
[0090] 另外，優(yōu)選二氧化硅微粒為反應(yīng)性二氧化硅微粒。
[0091] 其原因在于:若為反應(yīng)性二氧化硅微粒，則可將二氧化硅微粒牢固地固定于硬質(zhì) 涂層上，因此可更有效地提高耐蝕刻性。
[0092] 需說明的是，"反應(yīng)性二氧化硅微粒"是指鍵合有含聚合性不飽和基的有機(jī)化合物 的二氧化硅微粒，可通過使含聚合性不飽和基的有機(jī)化合物與二氧化硅微粒表面的硅烷醇 基反應(yīng)而得到，所述含聚合性不飽和基的有機(jī)化合物具有能夠與該硅烷醇基反應(yīng)的官能 團(tuán)。
[0093] 另外，作為上述聚合性不飽和基，例如可列舉出：自由基聚合性的丙烯?；蚣谆?丙烯酰基等。
[0094]另外，優(yōu)選將二氧化硅微粒的體積平均粒徑(D50)設(shè)為10~1 OOnm的范圍內(nèi)的值。 [0095]其原因在于:通過將二氧化硅微粒的體積平均粒徑(D50)設(shè)為這樣的范圍內(nèi)的值， 可不降低硬質(zhì)涂層的透明性，而得到規(guī)定的抗粘連性。
[0096] 即，其原因在于:若二氧化硅微粒的體積平均粒徑(D50)為低于10nm的值，則硬質(zhì) 涂層表面的表面凹凸過度地變小，從而有難以有效地呈現(xiàn)抗粘連性的情況。另一方面，其原 因在于:若二氧化硅微粒的體積平均粒徑(D50)為超過1 OOnm的值，則容易產(chǎn)生光的散射，從 而有硬質(zhì)涂層的透明性容易降低的情況。
[0097]因此，更優(yōu)選將二氧化硅微粒的體積平均粒徑(D50)設(shè)為12~60nm的范圍內(nèi)的值， 進(jìn)一步優(yōu)選設(shè)為14~30nm的范圍內(nèi)的值。
[0098]需說明的是，二氧化硅微粒的體積平均粒徑(D50)例如可通過Zeta電位測(cè)定法來 求得，除此之外，也可使用激光衍射散射式粒度分布測(cè)定裝置求得，此外還可基于SEM圖像 求得。
[0099]另外，其特征在于，相對(duì)于100重量份的作為(A)成分的活性能量射線固化性樹脂， 將二氧化硅微粒的混合量設(shè)為15~100重量份的范圍內(nèi)的值。
[0100]其原因在于:若二氧化硅微粒的混合量為低于15重量份的值，則硬質(zhì)涂層的硬度 變得不足，或者難以在硬質(zhì)涂層表面形成足夠的表面凹凸，從而有難以得到抗粘連性或?qū)?于粘結(jié)劑層等的粘附性的情況。另一方面，其原因在于：若二氧化硅微粒的混合量為超過 100重量份的值，則在進(jìn)行含有苛刻的堿處理的蝕刻處理的情況下，有硬質(zhì)涂層中的二氧化 硅微粒容易溶解或脫落的情況。
[0101] 因此，更優(yōu)選相對(duì)于100重量份的作為(A)成分的活性能量射線固化性樹脂，將二 氧化硅微粒的混合量設(shè)為20~70重量份的范圍內(nèi)的值，進(jìn)一步優(yōu)選設(shè)為30~50重量份的范圍 內(nèi)的值。
[0102] 接著，使用圖2,說明二氧化硅微粒的混合量與硬質(zhì)涂層的耐蝕刻性和抗粘連性的 關(guān)系。
[0103] 即，在圖2中示出橫軸采用二氧化硅微粒的混合量(重量份），且左縱軸采用透明導(dǎo) 電層形成用層合體的堿處理前后的反射率變化量(％)的特性曲線A和右縱軸采用抗粘連性 (相對(duì)值)的特性曲線B。
[0104] 需說明的是，對(duì)于透明導(dǎo)電層形成用層合體的堿處理前后的反射率變化量和抗粘 連性的具體的測(cè)定方法，在實(shí)施例中進(jìn)行記載。
[0105] 另外，硬質(zhì)涂層的膜厚度或折射率或這兩方因堿處理而發(fā)生變化，由此硬質(zhì)涂層 的反射率發(fā)生變化，因此透明導(dǎo)電層形成用層合體的堿處理前后的反射率變化量(％)為硬 質(zhì)涂層的耐蝕刻性的指標(biāo)，反射率變化量越小，表示耐蝕刻性越優(yōu)異，若為0.5%以下的值， 則可判斷在實(shí)際使用上具有優(yōu)異的耐蝕刻性。
[0106] 另外，抗粘連性的相對(duì)值為依據(jù)下列標(biāo)準(zhǔn)將如實(shí)施例所記載那樣進(jìn)行評(píng)價(jià)的抗粘 連性相對(duì)值化而得到的值。
[0107] 4:層表面彼此未粘附 1:層表面彼此粘附而不移動(dòng) 首先，如根據(jù)特性曲線A所理解那樣，反射率變化量有隨著二氧化硅微粒的混合量增加 而急劇增加的趨勢(shì)。
[0108] 更具體而言，可理解:若二氧化硅微粒的混合量為100重量份以下的范圍，則可穩(wěn) 定地使反射率變化量為〇. 5%以下的值，但若二氧化硅微粒的混合量超過100重量份，則反射 率變化量急劇地增加，會(huì)超過〇. 5%。
[0109] 可推測(cè):這種急劇的反射率變化量的增加源于硬質(zhì)涂層的表面或?qū)颖旧硪驂A處理 而損壞。
[0110] 另外，如根據(jù)特性曲線B所理解那樣，抗粘連性的值有隨著二氧化硅微粒的混合量 增加而急劇增加的趨勢(shì)。
[0111] 更具體而言，可理解:若二氧化硅微粒的混合量為低于15重量份的范圍，則抗粘連 性的值低，但若為15重量份以上，則會(huì)得到在實(shí)際使用上所要求的規(guī)定的抗粘連性，若為40 重量份以上，則會(huì)穩(wěn)定地得到優(yōu)異的抗粘連性。
[0112]因此，根據(jù)特性曲線A和B可理解:為了使耐蝕刻性與抗粘連性并存，應(yīng)將二氧化硅 微粒的混合量設(shè)為15~100重量份的范圍內(nèi)的值。
[0113] (1)-3 (C)成分:氟類流平劑 優(yōu)選進(jìn)一步含有氟類流平劑作為(C)成分。
[0114] 其原因在于:通過含有氟類流平劑，可更有效地保護(hù)硬質(zhì)涂層中的二氧化硅微粒， 因此可更有效地提高耐蝕刻性。
[0115] 更具體而言，其原因在于：由于氟類流平劑所具有的防水性，可有效地保護(hù)硬質(zhì)涂 層中的二氧化硅微粒不被堿處理中使用的堿成分破壞。
[0116]需說明的是，作為氟類流平劑的種類，可使用以往公知的物質(zhì)，但由于與直鏈的氟 類流平劑相比，揮發(fā)性低且熱穩(wěn)定性優(yōu)異，所以優(yōu)選含有支鏈和雙鍵的剛直的分子結(jié)構(gòu)的 氟類流平劑，作為這樣的氟類流平劑，例如可列舉出:Neos (株)制、Ftergent 7602A等。 [0117]另外，優(yōu)選相對(duì)于100重量份的作為(A)成分的活性能量射線固化性樹脂，將氟類 流平劑的混合量設(shè)為〇. 01~〇. 2重量份的范圍內(nèi)的值。
[0118]其原因在于:若氟類流平劑的混合量為低于0.01重量份的值，則難以有效地保護(hù) 硬質(zhì)涂層中的二氧化硅微粒，進(jìn)而有難以提高耐蝕刻性的情況。另一方面，其原因在于:若 氟類流平劑的混合量為超過0.2重量份的值，則硬質(zhì)涂層的表面自由能會(huì)變?yōu)檫^低的值，有 難以得到硬質(zhì)涂層所要求的對(duì)于粘結(jié)劑層等的規(guī)定粘附性的情況。
[0119] 因此，更優(yōu)選相對(duì)于100重量份的作為(A)成分的活性能量射線固化性樹脂，將氟 類流平劑的混合量設(shè)為0.03~0.18重量份的范圍內(nèi)的值，進(jìn)一步優(yōu)選設(shè)為0.05~0.15重量份 的范圍內(nèi)的值。
[0120] (1)-4 (D)成分:光聚合引發(fā)劑 另外，由于可通過活性能量射線、特別是紫外線而有效地將活性能量射線固化性樹脂 固化，所以也優(yōu)選根據(jù)需要并用作為(D)成分的光聚合引發(fā)劑。
[0121] 作為這樣的光聚合引發(fā)劑，對(duì)于自由基聚合型的光聚合性預(yù)聚物或光聚合性單 體，例如可列舉出：安息香、安息香甲基醚、安息香乙基醚、安息香異丙基醚、安息香正丁基 醚、安息香異丁基醚、苯乙酮、二甲基氨基苯乙酮、2,2_二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2,2_二乙 氧基-2-苯基苯乙酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1-羥基環(huán)己基苯基酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎啉代-丙烷-1-酮、4-(2-羥基乙氧基）苯基_2(羥基-2-丙基）酮、二 苯甲酮、對(duì)苯基二苯甲酮、4,4'_二乙基氨基二苯甲酮、二氯二苯甲酮、2-甲基蒽醌、2-乙基 蒽醌、2-叔丁基蒽醌、2-氨基蒽醌、2-甲基噻噸酮、2-乙基噻噸酮、2-氯噻噸酮、2,4_二甲基 噻噸酮、2,4_二乙基噻噸酮、芐基二甲基縮酮、苯乙酮二甲基縮酮、對(duì)二甲基胺苯甲酸酯等。
[0122] 另外，作為對(duì)于陽離子聚合型的光聚合性預(yù)聚物的光聚合引發(fā)劑，例如可列舉出： 由芳族锍離子、芳族氧代锍離子、芳族碘鑰離子等鑰和四氟硼酸根、六氟磷酸根、六氟銻酸 根、六氟砷酸根等陰離子構(gòu)成的化合物等。
[0123] 需說明的是，它們可單獨(dú)使用1種或?qū)?種以上組合使用。
[0124] 另外，作為光聚合引發(fā)劑的混合量，相對(duì)于100重量份的作為上述(A)成分的活性 能量射線固化性樹脂，優(yōu)選設(shè)為0.2~10重量份的范圍內(nèi)的值，更優(yōu)選設(shè)為1~5重量份的范圍 內(nèi)的值。
[0125] (2)硬質(zhì)涂層形成用組合物 另外，硬質(zhì)涂層優(yōu)選預(yù)先制備硬質(zhì)涂層形成用組合物，如下所述通過進(jìn)行涂布、干燥并 固化來形成。
[0126] 該組合物可通過以下方法來制備:根據(jù)需要，在適當(dāng)?shù)娜軇┲蟹謩e以規(guī)定的比例 加入活性能量射線固化性樹脂、光聚合引發(fā)劑、二氧化硅微粒和根據(jù)需要使用的各種添加 成分，進(jìn)行溶解或分散。
[0127] 需說明的是，作為各種添加成分，例如可列舉出：抗氧化劑、紫外線吸收劑、（近)紅 外線吸收劑、硅烷類偶聯(lián)劑、光穩(wěn)定劑、流平劑、抗靜電劑、消泡劑等。
[0128] 另外，作為所使用的溶劑，例如可列舉出：己烷、庚烷等脂族烴，甲苯、二甲苯等芳 族烴，二氯甲烷、二氯乙烷等鹵代烴，甲醇、乙醇、丙醇、丁醇等醇，丙酮、甲乙酮、2-戊酮、異 佛爾酮、環(huán)己酮等酮，醋酸乙酯、醋酸丁酯等酯，乙基溶纖劑等溶纖劑類溶劑等。
[0129] 作為這樣制備的硬質(zhì)涂層形成用組合物的濃度、粘度，只要為可進(jìn)行涂布的濃度、 粘度即可，無特殊限定，可根據(jù)情況適宜選擇。
[0130] 因此，通常從容易將所得硬質(zhì)涂層形成用組合物的膜厚度調(diào)節(jié)為規(guī)定的范圍的觀 點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選進(jìn)行稀釋使得固體成分濃度為〇. 05~30重量％，更優(yōu)選進(jìn)行稀釋使得固體成分 濃度為0.1~25重量％。
[0131] (3)膜厚度 另外，優(yōu)選將硬質(zhì)涂層的膜厚度設(shè)為〇. 5~5μπι的范圍內(nèi)的值。
[0132] 其原因在于:若硬質(zhì)涂層的膜厚度為低于0.5μπι的值，則不僅由于樹脂的固化性降 低而難以得到足夠的耐蝕刻性，而且對(duì)于因退火處理而導(dǎo)致的基材膜的熱收縮的保持功能 也變得不足，有無法抑制卷曲的產(chǎn)生的情況。另一方面，其原因在于:若硬質(zhì)涂層的膜厚度 為超過5μπι的值，則有變得容易因退火處理而從硬質(zhì)涂層產(chǎn)生排氣的情況。
[0133] 因此，更優(yōu)選將硬質(zhì)涂層的膜厚度設(shè)為0.8~4μπι的范圍內(nèi)的值，進(jìn)一步優(yōu)選設(shè)為1~ 3μπι的范圍內(nèi)的值。
[0134] 3.光學(xué)調(diào)整層 如圖1(a)所示，光學(xué)調(diào)整層2優(yōu)選是從基材膜4側(cè)將折射率相對(duì)高的高折射率層2b和折 射率相對(duì)低的低折射率層2a依次進(jìn)行層合而成的。
[0135] 其原因在于：通過將光學(xué)調(diào)整層設(shè)為這樣的層合結(jié)構(gòu)，可有效地抑制因透明導(dǎo)電 層的折射率與基材膜4的折射率之差而變得容易辨識(shí)透明導(dǎo)電層的圖案形狀。
[0136] (1)高折射率層 (1)-1折射率 優(yōu)選將高折射率層的折射率設(shè)為1.6以上的值。
[0137] 其原因在于:若高折射率層的折射率為低于1.6的值，則無法得到與低折射率層的 顯著的折射率差，有變得容易辨識(shí)透明導(dǎo)電層的圖案形狀的情況。另一方面，其原因在于： 若高折射率層的折射率為過大的值，則有高折射率層的膜變脆的情況。
[0138] 因此，更優(yōu)選將高折射率層的折射率設(shè)為1.61~2的范圍內(nèi)的值，進(jìn)一步優(yōu)選設(shè)為 1.63~1.8的范圍內(nèi)的值。
[0139] (1)-2 原料 另外，高折射率層優(yōu)選由含有作為原料的金屬氧化物微粒和活性能量射線固化性樹脂 的組合物的固化物構(gòu)成。
[0140]其原因在于:通過含有金屬氧化物微粒和活性能量射線固化性樹脂，使高折射率 層的折射率的調(diào)整變得容易。
[0141] 另外，金屬氧化物的種類可優(yōu)選列舉出：氧化鉭、氧化鋅、氧化銦、氧化鉿、氧化鈰、 氧化錫、氧化鈮、銦錫氧化物（I T0 )、銻錫氧化物(ΑΤ0)等。
[0142] 另外，從不降低透明性而實(shí)現(xiàn)高折射率化的觀點(diǎn)出發(fā)，特別優(yōu)選為選自氧化鈦和 氧化鋯的至少1種。
[0143] 需說明的是，這些金屬氧化物可單獨(dú)使用1種或?qū)?種以上并用。
[0144] 另外，金屬氧化物微粒的體積平均粒徑(D50)優(yōu)選設(shè)為0.005μηι~Ιμπι的范圍內(nèi)的 值。
[0145] 需說明的是，金屬氧化物微粒的體積平均粒徑(D50)例如可通過使用Zeta電位測(cè) 定法的測(cè)定法來求得，除此之外，也可使用激光衍射散射式粒度分布測(cè)定裝置求得，此外還 可基于SEM圖像求得。
[0146] 另外，作為高折射率層中使用的活性能量射線固化性樹脂和光聚合引發(fā)劑，可適 宜使用在硬質(zhì)涂層的說明中列舉的化合物。
[0147] 另外，作為金屬氧化物微粒的混合量，相對(duì)于100重量份的活性能量射線固化性樹 月旨，優(yōu)選為20~2000重量份，更優(yōu)選為80~1000重量份，進(jìn)一步優(yōu)選為150~400重量份。
[0148] (1)-3高折射率層形成用組合物 另外，高折射率層優(yōu)選預(yù)先制備高折射率層形成用的組合物，如下所述通過進(jìn)行涂布、 干燥并固化來形成。
[0149] 該組合物可通過以下方法來制備:根據(jù)需要，在適當(dāng)?shù)娜軇┲蟹謩e以規(guī)定的比例 加入活性能量射線固化性樹脂、光聚合引發(fā)劑、金屬氧化物微粒和根據(jù)需要使用的各種添 加成分，進(jìn)行溶解或分散。
[0150] 需說明的是，對(duì)于各種添加成分、溶劑、高折射率層形成用的組合物的濃度、粘度 等，與硬質(zhì)涂層的說明中的內(nèi)容相同。
[0151] (1)-4 膜厚度 另外，優(yōu)選將高折射率層的膜厚度設(shè)為20~130nm。
[0152] 其原因在于:若高折射率層的膜厚度為低于20nm的值，則高折射率層的膜變脆，有 無法維持層的形狀的情況。另一方面，其原因在于:若高折射率層的膜厚度為超過130nm的 值，則有變得容易辨識(shí)透明導(dǎo)電層的圖案形狀的情況。
[0153] 因此，更優(yōu)選將高折射率層的膜厚度設(shè)為23~120nm，進(jìn)一步優(yōu)選設(shè)為30~110nm〇
[0154] (2)低折射率層 (2)-1折射率 優(yōu)選將低折射率層的折射率設(shè)為1.45以下的值。
[0155] 其原因在于:若低折射率層的折射率為超過1.45的值，則無法得到與高折射率層 的顯著的折射率差，有容易辨識(shí)透明導(dǎo)電層的圖案形狀的情況。另一方面，其原因在于:若 低折射率層的折射率為過小的值，則有低折射率層的膜變脆的情況。
[0156] 因此，更優(yōu)選將低折射率層的折射率設(shè)為1.3~1.44的范圍內(nèi)的值，進(jìn)一步優(yōu)選設(shè) 為1.35~1.43的范圍內(nèi)的值。
[0157] (2)_2 原料 另外，本發(fā)明的低折射率層優(yōu)選是將含有作為原料的下列(a)~(b)成分的低折射率層 形成用組合物進(jìn)行光固化而成的： (a) 活性能量射線固化性樹脂 100重量份， (b) 二氧化硅微粒 2~120重量份。
[0158] 其原因在于:通過在形成低折射率層時(shí)使用的低折射率層形成用組合物中相對(duì)于 活性能量射線固化性樹脂以較少的范圍含有二氧化硅微粒，即使是進(jìn)行含有苛刻的堿處理 的蝕刻處理的情況，也可有效地抑制低折射率層中的二氧化硅微粒溶解或脫落。
[0159] 另外，活性能量射線固化性樹脂通過固化而構(gòu)成低折射率層中的基質(zhì)部分，可更 有效地保護(hù)低折射率層中的二氧化硅微粒，從而可進(jìn)一步有效地提高耐蝕刻性。
[0160]以下，對(duì)每種成分進(jìn)行說明。
[0161] (i) (a)成分:活性能量射線固化性樹脂 (a)成分為活性能量射線固化性樹脂。
[0162] 作為這樣的(a)成分的活性能量射線固化性樹脂可適宜使用在硬質(zhì)涂層的說明中 列舉的光聚合性預(yù)聚物或光聚合性單體。
[0163] 另外，活性能量射線固化性樹脂優(yōu)選含有防水性樹脂。
[0164] 其原因在于:通過含有防水性樹脂，可進(jìn)一步有效地保護(hù)低折射率層中的二氧化 娃微粒，因此可更有效地提尚耐蝕刻性。
[0165] 另外，其原因在于：若為防水性樹脂，則與作為主要的活性能量射線固化樹脂的 (甲基)丙烯酸類紫外線固化性樹脂相比，折射率低，因此可更容易地將低折射率層的折射 率降低至規(guī)定的范圍。
[0166] 另外，作為這樣的防水性樹脂，若為具有防水性的樹脂，則無特殊限制，可使用以 往公知的防水性樹脂。
[0167] 更具體而言，若用防水性樹脂單體形成的樹脂膜的表面自由能為10~30mN/m的范 圍內(nèi)的值，則可適合用作本發(fā)明的防水性樹脂。
[0168] 另外，作為防水性樹脂的具體實(shí)例，例如可列舉出：硅酮樹脂或例如聚偏氟乙烯、 氟類丙烯酸樹脂和聚氟乙烯等氟樹脂。
[0169] 另外，其中優(yōu)選使用氟樹脂，特別是優(yōu)選反應(yīng)性氟丙烯酸樹脂。
[0170] 其原因在于:若為氟樹脂，則可更有效地保護(hù)低折射率層中的二氧化硅微粒，因此 可進(jìn)一步有效地提尚耐蝕刻性。
[0171]另外，優(yōu)選在將(a)成分整體設(shè)為100重量%的情況下，將防水性樹脂的含量設(shè)為50 ~90重量%的范圍內(nèi)的值。
[0172] 其原因在于:若防水性樹脂的含量為低于50重量%的值，則難以有效地保護(hù)低折射 率層中的二氧化硅微粒，進(jìn)而有難以提高耐蝕刻性的情況。另外，其原因在于:有難以將低 折射率層的折射率設(shè)為足夠低的值的情況。另一方面，其原因在于:若防水性樹脂的含量為 超過90重量%的值，則低折射率層的表面自由能會(huì)變?yōu)檫^低的值，有難以得到折射率層所要 求的對(duì)于透明導(dǎo)電層等的規(guī)定粘附性的情況。
[0173] 因此，更優(yōu)選在將(a)成分整體設(shè)為100重量%的情況下，將防水性樹脂的含量設(shè)為 60~85重量%的范圍內(nèi)的值，進(jìn)一步優(yōu)選設(shè)為70~80重量%的范圍內(nèi)的值。
[0174] (ii) (b)成分:二氧化硅微粒 (b)成分為二氧化硅微粒。
[0175] 作為這樣的二氧化硅微粒的種類，無特殊限制，但優(yōu)選使用中空二氧化硅微粒。
[0176] 其原因在于:若為中空二氧化硅微粒，則在內(nèi)部的中空部分含有空氣，因此使作為 二氧化硅微粒整體的折射率進(jìn)一步降低，即使是少的混合量，也可更有效地將低折射率層 的折射率調(diào)整為規(guī)定的折射率。
[0177]需說明的是，"中空二氧化硅微粒"是指在粒子的內(nèi)部具有空洞的二氧化硅微粒。
[0178] 另外，二氧化硅微粒優(yōu)選為反應(yīng)性二氧化硅微粒。
[0179] 其原因在于:若為反應(yīng)性二氧化硅微粒，則可將二氧化硅微粒牢固地固定于低折 射率層上，因此可更有效地提高耐蝕刻性。
[0180]需說明的是，"反應(yīng)性二氧化硅微粒"是指鍵合有含聚合性不飽和基的有機(jī)化合物 的二氧化硅微粒，可通過使含聚合性不飽和基的有機(jī)化合物與二氧化硅微粒表面的硅烷醇 基反應(yīng)而得到，所述含聚合性不飽和基的有機(jī)化合物具有能夠與該硅烷醇基反應(yīng)的官能 團(tuán)。
[0181]另外，作為上述聚合性不飽和基，例如可列舉出：自由基聚合性的丙烯?；蚣谆?丙烯酰基等。
[0182] 另外，優(yōu)選將二氧化硅微粒的體積平均粒徑(D50)設(shè)為20~70nm的范圍內(nèi)的值。
[0183] 其原因在于:通過將二氧化硅微粒的體積平均粒徑(D50)設(shè)為這樣的范圍內(nèi)的值， 可不降低低折射率層的透明性，而得到規(guī)定的折射率。
[0184] 即，其原因在于:若二氧化硅微粒的體積平均粒徑(D50)為低于20nm的值，則特別 是在中空二氧化硅微粒的情況下，在其結(jié)構(gòu)上難以充分確保粒子內(nèi)部的空洞部，有使低折 射率層的折射率降低的效果變得不足的情況。另一方面，其原因在于:若二氧化硅微粒的體 積平均粒徑(D50)為超過70nm的值，則變得容易產(chǎn)生光的散射，有低折射率層的透明性變得 容易降低的情況。
[0185] 因此，更優(yōu)選將二氧化硅微粒的體積平均粒徑(D50)設(shè)為30~60nm的范圍內(nèi)的值， 進(jìn)一步優(yōu)選設(shè)為40~50nm的范圍內(nèi)的值。
[0186] 需說明的是，二氧化硅微粒的體積平均粒徑(D50)例如可通過Zeta電位測(cè)定法來 求得，除此之外，可使用激光衍射散射式粒度分布測(cè)定裝置求得，此外還可基于SEM圖像求 得。
[0187] 另外，優(yōu)選相對(duì)于100重量份的作為(a)成分的含有防水性樹脂的活性能量射線固 化性樹脂，將二氧化硅微粒的混合量設(shè)為2~120重量份的范圍內(nèi)的值。
[0188] 其原因在于:若二氧化硅微粒的混合量為低于2重量份的值，則難以使低折射率層 的折射率充分降低，或難以在低折射率層表面形成足夠的表面凹凸，從而有難以得到對(duì)于 透明導(dǎo)電層等的規(guī)定粘附性的情況。另一方面，其原因在于:若二氧化硅微粒的混合量為超 過120重量份的值，則在進(jìn)行含有苛刻的堿處理的蝕刻處理的情況下，有低折射率層中的二 氧化硅微粒變得容易溶解或脫落的情況。
[0189] 因此，更優(yōu)選相對(duì)于100重量份的作為(a)成分的含有防水性樹脂的活性能量射線 固化性樹脂，將二氧化硅微粒的混合量設(shè)為30~110重量份的范圍內(nèi)的值，進(jìn)一步優(yōu)選設(shè)為 50~100重量份的范圍內(nèi)的值。
[0190] (2)_3低折射率層形成用組合物 另外，低折射率層預(yù)先制備低折射率層形成用組合物，如下所述通過進(jìn)行涂布、干燥并 固化來形成。
[0191] 該組合物可通過以下方法來制備:根據(jù)需要，在適當(dāng)?shù)娜軇┲蟹謩e以規(guī)定的比例 加入作為上述(a)成分的活性能量射線固化性樹脂和作為(b)成分的二氧化硅微粒、以及光 聚合引發(fā)劑等各種添加成分，進(jìn)行溶解或分散。
[0192] 需說明的是，對(duì)于各種添加成分、溶劑、低折射率層形成用組合物的濃度、粘度等， 與硬質(zhì)涂層的說明中的內(nèi)容相同。
[0193] (2)_4 膜厚度 另外，優(yōu)選將低折射率層的膜厚度設(shè)為20~150nm的范圍內(nèi)的值。
[0194] 其原因在于:通過將低折射率層的膜厚度設(shè)為這樣的范圍內(nèi)的值，可更穩(wěn)定地將 透明導(dǎo)電層的圖案形狀不可見化，而且，可得到足夠的耐蝕刻性。
[0195] 即，其原因在于：若低折射率層的膜厚度為低于20nm的值，則低折射率層的膜變 脆，有耐蝕刻性變得不足的情況。另一方面，其原因在于：若低折射率層的膜厚度為超過 150nm的值，則有透明導(dǎo)電層的圖案形狀變得容易辨識(shí)的情況。
[0196] 因此，更優(yōu)選將低折射率層的膜厚度設(shè)為25~120nm的范圍內(nèi)的值，進(jìn)一步優(yōu)選設(shè) 為30~100nm的范圍內(nèi)的值。
[0197] 4.透明導(dǎo)電層形成用層合體的制備方法 本發(fā)明的透明導(dǎo)電層形成用層合體例如可通過含有下列工序(a)~(b)的制備方法而得 到： (a) 在基材膜的兩面形成硬質(zhì)涂層的工序， (b) 在一側(cè)的硬質(zhì)涂層上形成光學(xué)調(diào)整層的工序。
[0198] 以下，省略與在此之前的內(nèi)容重復(fù)的部分，只詳細(xì)敘述不同的部分。
[0199] 需說明的是，雖然本發(fā)明的透明導(dǎo)電層形成用層合體在基材膜的兩面并不將硬質(zhì) 涂層作為必需的構(gòu)成要件，但在以下說明中列舉在基材膜的兩面形成硬質(zhì)涂層的情況為實(shí) 例進(jìn)行說明。
[0200] (1)工序(a):形成硬質(zhì)涂層的工序 在基材膜的兩面，通過以往公知的方法涂布上述硬質(zhì)涂層形成用組合物并形成涂膜 后，進(jìn)行干燥，對(duì)其照射活性能量射線以使涂膜固化，由此形成硬質(zhì)涂層。
[0201] 另外，作為硬質(zhì)涂層形成用組合物的涂布方法，例如可列舉出：刮棒涂布法、刮刀 涂布法、輥涂法、刮板涂布法、模具涂布法、凹版涂布法等。
[0202]另外，作為干燥條件，優(yōu)選在60~150°C下進(jìn)行10秒鐘~10分鐘左右。
[0203] 此外，作為活性能量射線，例如可列舉出紫外線或電子束等。
[0204] 另外，作為紫外線的光源，可列舉出：高壓汞燈、無電極燈、金屬鹵化物燈、氙燈等， 其照射量通常優(yōu)選設(shè)為100~500mJ/cm 2〇
[0205] 另一方面，作為電子束的光源，可列舉出電子束加速器等，其照射量通常優(yōu)選設(shè)為 150~350kV。
[0206] 另外，在照射活性能量射線時(shí)，更優(yōu)選在氮?dú)夥障逻M(jìn)行。
[0207] 其原因在于:通過在氮?dú)夥障逻M(jìn)行，可有效地進(jìn)行硬質(zhì)涂層表面的固化反應(yīng)，可進(jìn) 一步有效地提高硬質(zhì)涂層的耐蝕刻性。
[0208] (2)工序(b):形成光學(xué)調(diào)整層的工序 接著，在形成的硬質(zhì)涂層上(在未形成硬質(zhì)涂層的情況下直接在基材膜上)形成高折射 率層。
[0209] 即，高折射率層可通過以下方法來形成：與在基材膜上形成硬質(zhì)涂層相同地將上 述高折射率層形成用組合物進(jìn)行涂布、干燥，而且，照射活性能量射線以使其固化。
[0210] 接著，在形成的高折射率層上進(jìn)一步形成低折射率層。
[0211] 即，低折射率層可通過以下方法來形成：與在基材膜上形成硬質(zhì)涂層相同地將上 述低折射率層形成用組合物進(jìn)行涂布、干燥，而且，照射活性能量射線以使其固化。
[0212] 另外，在照射活性能量射線時(shí)，更優(yōu)選在氮?dú)夥障逻M(jìn)行。
[0213] 其原因在于:通過在氮?dú)夥障逻M(jìn)行，可有效地進(jìn)行光學(xué)調(diào)整層表面的固化反應(yīng)，可 進(jìn)一步有效地提高光學(xué)調(diào)整層、特別是作為最表面層的低折射率層的耐蝕刻性。
[0214] [第2實(shí)施方式] 本發(fā)明的第2實(shí)施方式為透明導(dǎo)電性膜，如圖3所示，其是將硬質(zhì)涂層、基材膜、光學(xué)調(diào) 整層和透明導(dǎo)電層依次進(jìn)行層合而成的透明導(dǎo)電性膜，其特征在于，硬質(zhì)涂層是將含有下 列(A)~(B)成分的硬質(zhì)涂層形成用組合物進(jìn)行光固化而成的： (A) 活性能量射線固化性樹脂 100重量份， (B) 二氧化硅微粒 15~100重量份。
[0215]以下，將本發(fā)明的第2實(shí)施方式省略與在此之前的內(nèi)容重復(fù)的部分，只詳細(xì)敘述不 同的部分。
[0216] 1.透明導(dǎo)電層 (1)原料 在本發(fā)明的透明導(dǎo)電性膜中，作為透明導(dǎo)電層的原料，若為兼具透明性和導(dǎo)電性的原 料，則無特殊限制，例如可列舉出：氧化銦、氧化鋅、氧化錫、銦錫氧化物(ΙΤ0)、錫銻氧化物、 鋅鋁氧化物、銦鋅氧化物等。
[0217]另外，特別優(yōu)選使用ΙΤ0作為原料。
[0218]其原因在于:若為ΙΤ0,則通過采用適當(dāng)?shù)某赡l件，可形成透明性和導(dǎo)電性優(yōu)異 的透明導(dǎo)電層。
[0219] (2)圖案形狀 另外，透明導(dǎo)電層優(yōu)選通過蝕刻形成如線狀或格子狀的圖案形狀。
[0220] 另外，上述圖案形狀優(yōu)選透明導(dǎo)電層的存在部分的線寬與透明導(dǎo)電層不存在的部 分的線寬近似相等。
[0221] 此外，該線寬通常為0.1~10mm，優(yōu)選為0.2~5mm，特別優(yōu)選為0.5~2mm。
[0222] 需說明的是，上述線狀或格子狀的線寬并不限定于為恒定的情況，例如可自由地 選擇與靜電容式的觸控面板所要求的形狀相連接的線寬等。
[0223] 具體而言，可列舉出：菱形部分與線部反復(fù)連接的圖案形狀等，這樣的圖案形狀也 包含在"線狀"的范疇中。
[0224] 需說明的是，在這樣形成透明導(dǎo)電層的情況下，通過實(shí)施退火處理，通常透明導(dǎo)電 層的圖案形狀變得容易引人注目，如圖3所示，在基材膜的兩側(cè)設(shè)置硬質(zhì)涂層的情況下，若 為本發(fā)明的透明導(dǎo)電性膜，則可將透明導(dǎo)電層的圖案形狀不可見化。
[0225] (3)膜厚度 另外，透明導(dǎo)電層的厚度優(yōu)選為5~500nm。
[0226] 其原因在于:若透明導(dǎo)電層的厚度為低于5nm的值，則不僅透明導(dǎo)電層變脆，而且 有無法得到足夠的導(dǎo)電性的情況。另一方面，其原因在于：若透明導(dǎo)電層的厚度為超過 500nm的值，則來源于透明導(dǎo)電層的色調(diào)變強(qiáng)，有圖案形狀變得容易識(shí)別的情況。
[0227] 因此，透明導(dǎo)電層的厚度更優(yōu)選為15~250nm，進(jìn)一步優(yōu)選為20~100nm。
[0228] 2.透明導(dǎo)電性膜的制備方法 對(duì)于在上述透明導(dǎo)電層形成用層合體的制備方法中的工序(b)中得到的光學(xué)調(diào)整層， 通過真空蒸鍍法、濺射法、CVD法、離子鍍膜法、噴霧法、溶膠-凝膠法等公知的方法，形成透 明導(dǎo)電層，由此可得到透明導(dǎo)電性膜。
[0229] 另外，作為濺射法，可列舉出：使用化合物的通常的濺射法或使用金屬靶的反應(yīng)性 派射法等。
[0230] 此時(shí)，也優(yōu)選導(dǎo)入氧、氮、水蒸氣等作為反應(yīng)性氣體，或添加臭氧或并用離子輔助 等。
[0231] 另外，透明導(dǎo)電層可在如上進(jìn)行成膜后通過以下方法形成線狀的圖案等：在通過 光刻法形成規(guī)定的圖案的抗蝕掩模后，通過公知的方法實(shí)施蝕刻處理。
[0232]需說明的是，作為蝕刻液，可優(yōu)選列舉出：鹽酸、硫酸、硝酸、磷酸等酸的水溶液等。 [0233]另外，從蝕刻處理的快速化的觀點(diǎn)出發(fā)，作為蝕刻處理最終工序的用于除去殘留 的光致抗蝕劑的堿處理中使用的溶液優(yōu)選使用液溫為10~50 °C、濃度為1~10重量％、pH為 13.4~14.4的強(qiáng)堿水溶液。
[0234] 另外，作為適合的強(qiáng)堿，可列舉出：氫氧化鋰、氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化銣、氫氧 化銫、氫氧化四甲銨、氫氧化四乙銨、氫氧化鈣、氫氧化鎖、氫氧化鋇、氫氧化銪(Π )、氫氧化 鉈(I)、胍等。
[0235] 另外，為了提高透明導(dǎo)電層的結(jié)晶性，且降低電阻率，優(yōu)選設(shè)置退火工序進(jìn)行規(guī)定 的退火處理。
[0236] 即，優(yōu)選將所得透明導(dǎo)電性膜在130~180°C的溫度條件下暴露0.5~2小時(shí)。 實(shí)施例
[0237] 以下，參照實(shí)施例，更詳細(xì)地說明本發(fā)明的透明導(dǎo)電層形成用層合體等。
[0238] [實(shí)施例1] 1.硬質(zhì)涂層形成用組合物的制備 在容器內(nèi)以下列組成收容作為(A)成分的活性能量射線固化性樹脂、作為(B)成分的二 氧化硅微粒、作為(C)成分的流平劑和作為(D)成分的光聚合引發(fā)劑后，加入溶劑并均勻地 進(jìn)行混合，制備了固體成分濃度為22重量%的硬質(zhì)涂層形成用組合物。
[0239] 需說明的是，下列組成和表1中所示組成的混合量表示除去了稀釋溶劑的純組分。
[0240] (A)成分:二季戊四醇六丙烯酸酯 100重量份 (B) 成分:反應(yīng)性實(shí)心二氧化娃微粒 43.2重量份 (體積平均粒徑(D50) 15nm) (C) 成分:氟類流平劑 0.05重量份 (Neos (株）制，F(xiàn)tergent 7602A) (D) 成分:光聚合引發(fā)劑 3重量份 (BASF Japan (株）制，Irgacure 184) 需說明的是，上述(B)成分的體積平均粒徑(D50)通過激光衍射散射式粒度分布測(cè)定裝 置進(jìn)行了測(cè)定。
[0241]另外，以下有將作為上述(D)成分的光引發(fā)劑稱為"Irgacure 184"的情況。
[0242] 2.高折射率層形成用組合物的制備 在容器內(nèi)收容1〇〇重量份的紫外線固化性樹脂（大日精化工業(yè)（株）制，Seika-Beam EXF-01L (NS))(表示除去了稀釋溶劑的純組分。以下相同。）、200重量份的氧化鋯分散液 (CIK Nanotech (株）制，ZRMIBK15WT%-F85)、0.05重量份的丙烯酸類流平劑（BYK Chemie Japan (株）制，BYK-355)和3重量份的光聚合引發(fā)劑(BASF Japan (株）制，Irgacure 907) 后，加入溶劑并均勻地進(jìn)行混合，制備了固體成分濃度為1重量％的高折射率層形成用組合 物。
[0243] 3.低折射率層形成用組合物的制備 在容器內(nèi)以下列組成收容作為(a)成分的含有防水性樹脂的活性能量射線固化性樹 月旨、作為(b)成分的二氧化硅微粒、作為（C)成分的流平劑和作為(d)成分的光聚合引發(fā)劑 后，加入溶劑并均勻地進(jìn)行混合，制備了固體成分濃度為1重量％的低折射率層形成用組合 物。
[0244] 需說明的是，下列組成中所示組成的混合量表示除去了稀釋溶劑的純組分。
[0245] (a)成分:含有氟樹脂的紫外線固化性丙烯酸樹脂 100重量份 (氟樹脂的種類:反應(yīng)性氟丙烯酸樹脂，氟樹脂的含量:80重量％，氟樹脂單體的固化樹 脂涂膜的表面自由能:25mN/m) (b) 成分:反應(yīng)性中空二氧化硅微粒 100重量份 (體積平均粒徑(D50)為45nm) (c) 成分:丙烯酸類流平劑 0.05重量份 (BYK Chemie Japan (株）制，BYK-355) (d) 成分:光聚合引發(fā)劑 5重量份 (BASF Japan (株）制，Irgacure 184) 需說明的是，上述(b)成分的體積平均粒徑(D50)通過激光衍射散射式粒度分布測(cè)定裝 置進(jìn)行了測(cè)定。
[0246] 4.硬質(zhì)涂層的形成 作為基材膜，準(zhǔn)備了膜厚度為125μπι的帶有易粘接層的聚酯膜(Teijin DuPont (株） 制，PET125KEL86W)。
[0247] 接著，在準(zhǔn)備的基材膜的表面用線棒#8涂布了硬質(zhì)涂層形成用組合物。
[0248] 接著，于70°C干燥1分鐘后，在氮?dú)夥障率褂米贤饩€照射裝置（GS Yuasa Corporation (株)制）以下列條件照射紫外線，在基材膜的表面形成了膜厚度為2μηι的硬質(zhì) 涂層。
[0249] 另外，在基材膜的相反側(cè)的面也相同地形成了硬質(zhì)涂層。
[0250] 光源：高壓汞燈 照度：150mW/cm2 光量：150mJ/cm2 5.高折射率層的形成 接著，在形成的一側(cè)的硬質(zhì)涂層上用線棒#4涂布了高折射率形成用組合物。
[0251]接著，在50°C下干燥1分鐘后，在氮?dú)夥障率褂米贤饩€照射裝置（GS Yuasa Corporation (株）制）以與硬質(zhì)涂層相同的照射條件照射紫外線，在硬質(zhì)涂層上形成了膜 厚度為35nm、折射率為nD=l .65的高折射率層。
[0252] 6.低折射率層的形成 接著，在形成的高折射率層上用線棒#4涂布了低折射率層形成用的組合物。
[0253]接著，在50°C下干燥1分鐘后，在氮?dú)夥障率褂米贤饩€照射裝置（GS Yuasa Corporation (株）制）以與硬質(zhì)涂層相同的照射條件照射紫外線，在高折射率層上形成膜 厚度為50nm、折射率為nD=l.37的低折射率層，得到了如圖1(a)所示的透明導(dǎo)電層形成用層 合體。
[0254] 7.評(píng)價(jià) (1)耐蝕刻性的評(píng)價(jià) 評(píng)價(jià)了所得透明導(dǎo)電層形成用層合體的耐蝕刻性。
[0255] 即，使用紫外可見近紅外（UV-vis-NIR)分光光度計(jì)（島津制作所（株）制，UV-3600)，以反射角度:8°、取樣間距：lnm、測(cè)定模式:單一的條件測(cè)定了所得透明導(dǎo)電層形成 用層合體的反射率(％)(低折射率層側(cè)）。
[0256] 接著，將透明導(dǎo)電層形成用層合體在加熱為40°C的5重量%的氫氧化鈉水溶液中浸 漬5分鐘以進(jìn)行堿處理，然后以與上述條件相同的條件測(cè)定了反射率(％)。
[0257] 接著，從堿處理前的反射率(％)中減去堿處理后的反射率(％)，算出了反射率變化 量(％)。將所得結(jié)果示于表1中。
[0258] 需說明的是，若反射率變化量為0.5%以下的值，則可判斷為在實(shí)際使用上具有優(yōu) 異的耐蝕刻性。
[0259] 另外，可通過反射率變化量(％)評(píng)價(jià)耐蝕刻性的原因在于:若通過蝕刻處理硬質(zhì)涂 層的膜厚度或折射率或這兩方發(fā)生變化，則硬質(zhì)涂層的反射率發(fā)生變化。
[0260] (2)圖案辨識(shí)性的評(píng)價(jià) 對(duì)于所得透明導(dǎo)電層形成用層合體的低折射率層的表面，形成圖案化的透明導(dǎo)電層， 評(píng)價(jià)了其辨識(shí)性。
[0261] 即，將所得透明導(dǎo)電層形成用層合體切割為長(zhǎng)90mmX寬90mm后，使用ΙΤ0靶（10重 量％的氧化錫、90重量％的氧化銦)進(jìn)行濺射，在低折射率層上的中央部形成了長(zhǎng)60mmX寬 60mm的正方形、膜厚度為30nm的透明導(dǎo)電層。
[0262] 接著，在所得透明導(dǎo)電層的表面上形成了圖案化為格子狀的光致抗蝕劑膜。
[0263] 接著，在室溫下，通過在10重量%的鹽酸中浸漬1分鐘來進(jìn)行蝕刻處理，將透明導(dǎo)電 層圖案化為格子狀。
[0264] 接著，在加熱為40 °C的5重量%的氫氧化鈉水溶液中浸漬5分鐘以進(jìn)行堿處理，除去 透明導(dǎo)電層上的光致抗蝕劑膜，得到了具有圖案化的透明導(dǎo)電層的透明導(dǎo)電性膜。
[0265] 該透明導(dǎo)電性膜具有30nm的透明導(dǎo)電層，所述透明導(dǎo)電層具有通過由線寬為2mm 的ΙΤ0構(gòu)成的線部而將1邊為2mm的正方形的空隙分隔為格子狀的圖案形狀。
[0266] 接著，將所得透明導(dǎo)電性膜設(shè)置于距白色熒光燈lm的位置，以使白色熒光燈映入 透明導(dǎo)電性膜的狀態(tài)，從距與設(shè)置白色熒光燈相同的一側(cè)的透明導(dǎo)電性膜30cm的位置，通 過目視觀察透明導(dǎo)電層的圖案形狀，依據(jù)下列標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行了評(píng)價(jià)。將所得結(jié)果示于表1中。
[0267] 〇:無法辨識(shí)透明導(dǎo)電層的圖案形狀 X :可辨識(shí)透明導(dǎo)電層的圖案形狀 (3)抗粘連性的評(píng)價(jià) 評(píng)價(jià)了所得透明導(dǎo)電層形成用層合體的抗粘連性。
[0268] 即，在平坦的玻璃板上，不通過粘結(jié)劑等，使硬質(zhì)涂層朝上放置了透明導(dǎo)電層形成 用層合體。
[0269] 接著，在放置的透明導(dǎo)電層形成用層合體之上，重疊放置了另外的透明導(dǎo)電層形 成用層合體后，用手進(jìn)行按壓，通過摩擦這2片透明導(dǎo)電層形成用層合體，進(jìn)行硬質(zhì)涂層彼 此的相互摩擦和硬質(zhì)涂層與低折射率層的相互摩擦，依據(jù)下列標(biāo)準(zhǔn)評(píng)價(jià)了抗粘連性。將所 得結(jié)果示于表1中。
[0270]〇:層表面彼此未粘附 X :層表面彼此粘附而不移動(dòng) [實(shí)施例2] 在實(shí)施例2中，在制備硬質(zhì)涂層形成用組合物時(shí)，設(shè)為下列組成，除此之外，與實(shí)施例1 相同地制備透明導(dǎo)電層形成用層合體并進(jìn)行了評(píng)價(jià)。將所得結(jié)果示于表1中。
[0271] 需說明的是，下列組成和表1中所示組成的混合量表示除去了稀釋溶劑的純組分。
[0272] (A1)成分:二季戊四醇六丙烯酸酯 99.5重量份 (A2)成分:交聯(lián)丙烯酸類共聚樹脂 0.5重量份 (積水化成品工業(yè)(株）制，Tech Polymer XX_27LA) (B) 成分:反應(yīng)性實(shí)心二氧化娃微粒 100重量份 (體積平均粒徑(D50)為15nm) (C) 成分:氟類流平劑 0.13重量份 (Neos (株）制，F(xiàn)tergent 7602A) (D) 成分:光聚合引發(fā)劑 6.7重量份 (BASF Japan (株）制，Irgacure 184) 需說明的是，上述(B)成分的體積平均粒徑(D50)通過激光衍射散射式粒度分布測(cè)定裝 置進(jìn)行了測(cè)定。
[0273] 另外，以下有將作為(A2)成分的交聯(lián)丙烯酸類共聚物樹脂稱為"Tech Polymer XX-27LA"的情況。
[0274] [比較例1] 在比較例1中，在制備硬質(zhì)涂層形成用組合物時(shí)，設(shè)為下列組成，除此之外，與實(shí)施例1 相同地制備透明導(dǎo)電層形成用層合體并進(jìn)行了評(píng)價(jià)。將所得結(jié)果示于表1中。
[0275] 需說明的是，下列組成和表1中所示組成的混合量表示除去了稀釋溶劑的純組分。
[0276] (A)成分:二季戊四醇六丙烯酸酯 100重量份 (B) 成分:反應(yīng)性實(shí)心二氧化娃微粒 150重量份 (體積平均粒徑(D50)為15nm) (C) 成分:氟類流平劑 0.05重量份 (Neos (株）制，F(xiàn)tergent 7602A) (D) 成分:光聚合引發(fā)劑 5重量份 (BASF Japan (株）制，Irgacure 184) 需說明的是，上述(B)成分的體積平均粒徑(D50)通過激光衍射散射式粒度分布測(cè)定裝 置進(jìn)行了測(cè)定。
[0277] [比較例2] 在比較例2中，在制備硬質(zhì)涂層形成用組合物時(shí)，設(shè)為下列組成，除此之外，與實(shí)施例1 相同地制備透明導(dǎo)電層形成用層合體并進(jìn)行了評(píng)價(jià)。將所得結(jié)果示于表1中。
[0278] 需說明的是，下列組成和表1中所示組成的混合量表示除去了稀釋溶劑的純組分。
[0279] (A)成分:二季戊四醇六丙烯酸酯 100重量份 (C) 成分:氟類流平劑 0.05重量份 (Neos (株）制，F(xiàn)tergent 7602A) (D) 成分:光聚合引發(fā)劑 5重量份 (BASF Japan (株）制，Irgacure 184)
產(chǎn)業(yè)上的可利用性 如以上詳細(xì)敘述的那樣，根據(jù)本發(fā)明，在形成作為透明導(dǎo)電層形成用層合體的最背面 的硬質(zhì)涂層時(shí)，使用相對(duì)于活性能量射線固化性樹脂以規(guī)定的范圍混合二氧化硅微粒而成 的硬質(zhì)涂層形成用組合物，由此能夠得到硬質(zhì)涂層的耐蝕刻性優(yōu)異的透明導(dǎo)電層形成用層 合體。
[0280] 其結(jié)果，能夠得到可穩(wěn)定地將透明導(dǎo)電層的圖案形狀不可見化，并且所得透明導(dǎo) 電性膜的抗粘連性優(yōu)異的透明導(dǎo)電層形成用層合體。
[0281] 因此，期待本發(fā)明的透明導(dǎo)電層形成用層合體和使用該層合體的透明導(dǎo)電性膜顯 著地有助于觸控面板的高品質(zhì)化。
[0282] 符號(hào)說明 1:透明導(dǎo)電層，2:光學(xué)調(diào)整層，2a:低折射率層，2b:高折射率層，3:硬質(zhì)涂層，3a:第1硬 質(zhì)涂層，3b:第2硬質(zhì)涂層，4:基材膜，10:透明導(dǎo)電層形成用層合體，100:透明導(dǎo)電性膜。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 透明導(dǎo)電層形成用層合體，其是將硬質(zhì)涂層、基材膜和光學(xué)調(diào)整層依次進(jìn)行層合而 成的透明導(dǎo)電層形成用層合體，其特征在于， 上述硬質(zhì)涂層是將含有下列（A)~(B)成分的硬質(zhì)涂層形成用組合物進(jìn)行光固化而成 的： (A) 活性能量射線固化性樹脂 100重量份， (B) 二氧化硅微粒 15~100重量份。2. 權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電層形成用層合體，其特征在于，將作為上述(B)成分的二 氧化硅微粒的體積平均粒徑即D50設(shè)為10~lOOnm的范圍內(nèi)的值。3. 權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電層形成用層合體，其特征在于，作為上述(B)成分的二氧 化硅微粒為實(shí)心二氧化硅微粒。4. 權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電層形成用層合體，其特征在于，作為上述(B)成分的二氧 化硅微粒為反應(yīng)性二氧化硅微粒。5. 權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電層形成用層合體，其特征在于，上述硬質(zhì)涂層形成用組合 物含有作為(C)成分的氟類流平劑，而且，相對(duì)于100重量份的作為上述(A)的活性能量射線 固化性樹脂，將該氟類流平劑的混合量設(shè)為〇. 01~〇. 2重量份的范圍內(nèi)的值。6. 權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電層形成用層合體，其特征在于，將上述硬質(zhì)涂層的膜厚度 設(shè)為〇 · 5~5μηι的范圍內(nèi)的值。7. 權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電層形成用層合體，其特征在于，在將上述硬質(zhì)涂層作為第 1硬質(zhì)涂層的情況下，在上述基材膜與上述光學(xué)調(diào)整層之間具有第2硬質(zhì)涂層。8. 權(quán)利要求7所述的透明導(dǎo)電層形成用層合體，其特征在于，上述第2硬質(zhì)涂層是將與 上述第1硬質(zhì)涂層相同的硬質(zhì)涂層形成用組合物進(jìn)行光固化而成的，而且，具有與上述第1 硬質(zhì)涂層相同的膜厚度。9. 透明導(dǎo)電性膜，其是將硬質(zhì)涂層、基材膜、光學(xué)調(diào)整層和透明導(dǎo)電層依次進(jìn)行層合而 成的透明導(dǎo)電性膜，其特征在于， 上述硬質(zhì)涂層是將含有下列（Α)~(Β)成分的硬質(zhì)涂層形成用組合物進(jìn)行光固化而成 的： (Α)活性能量射線固化性樹脂 100重量份， (Β)二氧化硅微粒 15~100重量份。10. 權(quán)利要求9所述的透明導(dǎo)電性膜，其特征在于，通過蝕刻使上述透明導(dǎo)電層圖案化。
【文檔編號(hào)】C09D4/06GK106009813SQ201610189995
【公開日】2016年10月12日
【申請(qǐng)日】2016年3月30日
【發(fā)明人】愛澤和人, 荒添鐵也, 大類知生, 所司悟
【申請(qǐng)人】琳得科株式會(huì)社, 美思菲林股份有限公司