專利名稱：薄膜輥制造方法及制造裝置、和薄膜輥的制作方法
薄膜輥制造方法及制造裝置、和薄膜輥技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及薄膜輥(filmroll)制造方法及制造裝置、和薄膜輥， 特別涉及用在液晶顯示器和有機(jī)EL顯示器等顯示板的制造中，構(gòu)成薄膜 輥的薄膜基板(film substrate)的巻繞技術(shù)。
背景技術(shù)：
近年來(lái)，在液晶顯示器和有機(jī)EL顯示器等領(lǐng)域中，正在開(kāi)發(fā) 用塑料基板等可彎曲性基板的軟性顯示板。在該軟性顯示板的制造中，從 生產(chǎn)性能方面出發(fā)，最好采用能夠連續(xù)處理可彎曲性基板的展開(kāi)纏繞 (roll-to-roll)方式。
由于在該展開(kāi)纏繞方式中，將例如數(shù)百米長(zhǎng)的薄膜基板巻繞在 展開(kāi)輥(delivery roll)及纏繞輥(take-up roll)上，因此恐怕會(huì)因薄膜基板表 面之間的相互接觸，或者異物混入狀態(tài)下的巻繞，而對(duì)形成在基板表面的 薄膜等造成損害。
于是，提出了為了不讓薄膜基板表面相互接觸，而邊向薄膜基板提供隔離物，邊巻繞薄膜基板，來(lái)制造薄膜輥這樣的方法。
例如，在專利文獻(xiàn)1中公開(kāi)了邊向透明導(dǎo)電性薄膜的兩端部提供隔離物，邊讓透明導(dǎo)電性薄膜巻繞在輥芯上的導(dǎo)電性薄膜輥的制造方法。這樣一來(lái)，由于能夠通過(guò)所提供的隔離物，來(lái)降低施加在透明導(dǎo)電性薄膜上的壓力，因此即使有異物混入薄膜之間，也難以在導(dǎo)電性薄膜中產(chǎn)生由異物所造成的傷痕。專利文獻(xiàn)l:日本特開(kāi)2004 — 199643號(hào)公報(bào)
不過(guò)，由于在軟性顯示板的制造中，施行精細(xì)的圖案化，因此 恐怕會(huì)因薄膜基板表面之間的相互接觸，而使形成在基板表面的導(dǎo)電元件 等受到損害，使顯示品質(zhì)下降。例如，當(dāng)如專利文獻(xiàn)l那樣，僅在薄膜基板的兩端部配置隔離物時(shí)，恐怕會(huì)因基板自身的彎曲等使基板表面之間相 互接觸，造成基板表面的導(dǎo)電元件受到損害，顯示板的顯示品質(zhì)下降。
雖然為了解決這樣的問(wèn)題，想到了增加隔離物厚度的方法，但 是由于該隔離物厚度所增加的部分，會(huì)造成通過(guò)巻繞薄膜基板所制造的薄 膜輥直徑的增大，因此帶來(lái)了制造裝置的大型化。由于這樣的制造裝置的 大型化會(huì)在真空類制造裝置中成為特別重要的問(wèn)題，因此最好不要增加隔 離物的厚度。發(fā)明內(nèi)容
鑒于上述各點(diǎn)，本發(fā)明的目的在于抑制薄膜輥直徑的增大， 使基板表面之間確實(shí)地處于非接觸狀態(tài)。
為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明在薄膜基板的兩端部及這兩端部之間的中間部，沿著該薄膜基板的長(zhǎng)邊方向分別配置帶狀隔離物。
具體地說(shuō)，本發(fā)明所涉及的制造薄膜輥的方法為制造巻繞有薄 膜基板的薄膜輥的方法。上述薄膜輥制造方法的特征在于，包括在上述 薄膜基板的兩端部及該兩端部之間的中間部，沿著該薄膜基板的長(zhǎng)邊方向 分別配置帶狀隔離物的隔離物配置工序；以及隔著上述被配置的各個(gè)隔離 物巻繞上述薄膜基板的巻繞工序。
使用上述方法，由于在隔離物配置工序中，將隔離物配置在巻 繞薄膜基板時(shí)薄膜基板之間較易接觸的薄膜基板寬度方向的中間部，因此 即使在巻繞工序中巻繞薄膜基板，也能夠抑制薄膜基板之間的相互接觸。 并且，由于為了抑制薄膜基板之間的相互接觸，而將與配置在薄膜基板兩 端部的隔離物相同的隔離物配置在薄膜基板的中間部，因此能夠抑制薄膜 輥直徑的增大。故而，能夠抑制薄膜輥直徑的增大，使基板表面之間確實(shí) 地處于非接觸狀態(tài)。
也可以在上述薄膜基板以矩陣狀配置多個(gè)用以形成顯示板的顯 示板形成部，將上述中間部的隔離物配置在上述多個(gè)顯示板形成部之間。
使用上述方法，由于在多個(gè)顯示板形成部之間配置位于薄膜基 板中間部的隔離物，因此即使將隔離物配置在薄膜基板上，也能夠使隔離 物對(duì)構(gòu)成薄膜輥的薄膜基板所造成的影響較小。
上述中間部的隔離物寬度也可以窄于上述兩端部的各個(gè)隔離物 寬度。
使用上述方法，由于一般情況下將薄膜基板的中間部與其兩端部相比，形成有微細(xì)的導(dǎo)電元件，因此通過(guò)在薄膜基板中間部配置寬度較窄的隔離物，能夠獲得本發(fā)明的具體作用效果。
上述隔離物寬度也可以在lmm以上且50mm以下。
使用上述方法，當(dāng)隔離物寬度窄于lmm時(shí)，難以將隔離物配置在薄膜基板的規(guī)定位置上，當(dāng)隔離物寬度寬于50mm時(shí)，在薄膜基板上配置有很多浪費(fèi)區(qū)域。
上述隔離物厚度也可以在0.25mm以上且lmm以下。
使用上述方法，當(dāng)隔離物厚度薄于0.25mm時(shí)，薄膜基板之間 較易接觸，當(dāng)隔離物厚度厚于lmm時(shí)，巻繞有薄膜基板的薄膜輥直徑變 大。
并且，本發(fā)明所涉及的薄膜輥制造裝置為制造巻繞有薄膜基板 的薄膜輥的薄膜輥制造裝置，其特征在于，上述薄膜輥制造裝置包括用 以巻繞上述薄膜基板的可旋轉(zhuǎn)輥芯巻；以及各自巻繞有帶狀隔離物，分別 設(shè)置在巻繞在上述輥芯巻上的薄膜基板的兩端部及該兩端部之間的中間 部，將上述各個(gè)隔離物導(dǎo)入到巻繞在上述輥芯巻上的薄膜基板之間的隔離 物導(dǎo)入巻軸(reel)。
使用上述結(jié)構(gòu)，由于利用隔離物導(dǎo)入巻軸將隔離物配置在巻繞 薄膜基板時(shí)薄膜基板之間較易接觸的薄膜基板寬度方向的中間部，因此即 使將薄膜基板巻繞在輥芯巻上，也能夠抑制薄膜基板之間的相互接觸。并 且，由于為了抑制薄膜基板之間的相互接觸，而將與配置在薄膜基板兩端 部的隔離物相同的隔離物配置在薄膜基板的中間部，因此能夠抑制薄膜輥 直徑的增大。故而，能夠抑制薄膜輥直徑的增大，使基板表面之間確實(shí)地 處于非接觸狀態(tài)。
上述各個(gè)隔離物導(dǎo)人巻軸也可以相對(duì)于上述輥芯巻的旋轉(zhuǎn)軸平 行移動(dòng)。
使用上述結(jié)構(gòu)，由于例如能夠根據(jù)形成在薄膜基板的導(dǎo)電元件 的位置來(lái)改變隔離物的位置，因此隔離物對(duì)構(gòu)成薄膜輥的薄膜基板所造成的影響較小。
并且，本發(fā)明所涉及的薄膜輥為巻繞有薄膜基板的薄膜輥，其 特征在于，在上述薄膜基板的兩端部及該兩端部之間的中間部，沿著該薄 膜基板的長(zhǎng)邊方向分別配置有帶狀隔離物。
使用上述結(jié)構(gòu)，由于將隔離物配置在巻繞薄膜基板時(shí)薄膜基板 之間較易接觸的薄膜基板寬度方向的中間部，因此即使將薄膜基板巻繞在 輥芯巻上，也能夠抑制薄膜基板之間的相互接觸。并且，由于為了抑制薄 膜基板之間的相互接觸，而將與配置在薄膜基板兩端部的隔離物相同的隔 離物配置在薄膜基板中間部，因此能夠抑制薄膜輥直徑的增大。故而，能 夠抑制薄膜輥直徑的增大，使基板表面之間確實(shí)地處于非接觸狀態(tài)。 (發(fā)明的效果)
使用本發(fā)明，由于在薄膜基板的兩端部及這兩端部之間的中間 部，沿著該薄膜基板的長(zhǎng)邊方向分別配置帶狀隔離物，因此能夠抑制薄膜 輥直徑的增大，使基板表面之間確實(shí)地處于非接觸狀態(tài)。附圖的簡(jiǎn)單說(shuō)明


圖1為第一實(shí)施例所涉及的濕式蝕刻裝置30a的剖面示意圖。 圖2為構(gòu)成濕式蝕刻裝置30a的隔離物導(dǎo)入巻軸13的立體圖。 圖3為第一實(shí)施例所涉及的薄膜輥3b的立體圖。 圖4為表示實(shí)施例中的輥芯巻與薄膜基板之間的接觸狀態(tài)的坐標(biāo)圖。圖5為第二實(shí)施例所涉及的涂敷裝置30b的剖面示意圖。圖6為其它實(shí)施例所涉及的薄膜輥3c的立體圖。圖7為其它實(shí)施例所涉及的薄膜輥3d的立體圖。圖8為其它實(shí)施例所涉及的薄膜輥3e的立體圖。圖9為表示比較例中的輥芯巻與薄膜基板之間的接觸狀態(tài)的坐標(biāo)圖。(符號(hào)的說(shuō)明)
P—顯示板形成部；l一薄膜基板；2a、 2b、 2c—隔離物；3a、 3b、 3c、 3d、 3e —薄膜輥；12 —輥芯巻；13 —隔離物導(dǎo)入巻軸；30a—濕式蝕刻裝置(薄膜輥制造裝置)；30b—涂敷裝置(薄膜輥制造裝置)。 具體實(shí)施例
以下，參照附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施例加以詳細(xì)說(shuō)明。另外，本發(fā)明并不限定于下述實(shí)施例。
(第一實(shí)施例)圖1 圖3表示本發(fā)明所涉及的薄膜輥制造方法及制造裝置、 和薄膜輥的第一實(shí)施例。在本實(shí)施例中，以展開(kāi)纏繞(roll-to-roll)方式的濕 式蝕刻裝置作為薄膜輥制造裝置的例子。
圖1為本實(shí)施例的濕式蝕刻裝置30a的剖面示意圖。
在該濕式蝕刻裝置30a中，將第一輥收容室21、蝕刻處理室 22、洗凈處理室23和第二輥收容室24依次連為一列，其中，該第一輥收 容室21用以收容處理前的薄膜輥3a，該蝕刻處理室22用以進(jìn)行蝕刻處 理，該洗凈處理室23用以進(jìn)行洗凈處理，該第二輥收容室24用以收容處 理后的薄膜輥3b。并且，為了能夠依次經(jīng)由導(dǎo)輥(guide roll)14a 14j搬 送構(gòu)成薄膜輥3a的薄膜基板1，而在第一輥收容室21與蝕刻處理室22 之間的側(cè)壁、蝕刻處理室22與洗凈處理室23之間的側(cè)壁、和洗凈處理室 23與第二輥收容室24之間的側(cè)壁上分別設(shè)置有開(kāi)口部。
第一輥收容室21包括隔離物纏繞輥10、薄膜基板展開(kāi)輥11 及導(dǎo)輥14a，其中，該隔離物纏繞輥10彼此的旋轉(zhuǎn)軸被平行配置且各自 能夠進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。這里，在薄膜展開(kāi)輥11隔著分別配置在兩端部的帶狀隔 離物2a巻繞有薄膜基板l。并且，由被巻繞的薄膜基板l、和被夾在該薄 膜基板1之間的隔離物2a構(gòu)成薄膜輥3a。
蝕刻處理室22包括4個(gè)導(dǎo)輥14b 14e、蝕刻槽15和氣刀(air knife)17，該4個(gè)導(dǎo)輥14b 14e彼此的旋轉(zhuǎn)軸被平行配置且能夠進(jìn)行旋 轉(zhuǎn)，該蝕刻槽15用以收容蝕刻液來(lái)進(jìn)行濕式蝕刻處理，該氣刀17向薄膜 基板1的表面噴出壓縮空氣來(lái)除去附著在表面上的蝕刻液。
洗凈處理室23包括4個(gè)導(dǎo)輥14f 14i、洗凈槽16和氣刀17， 該4個(gè)導(dǎo)輥14f 14i彼此的旋轉(zhuǎn)軸被平行配置且能夠進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，該蝕刻槽 16用以收容純水等洗凈液來(lái)進(jìn)行洗凈處理，該氣刀17向薄膜基板1的表 面噴出壓縮空氣來(lái)除去附著在表面上的洗凈液。
第二輥收容室24包括導(dǎo)輥14j、輥芯巻12及隔離物導(dǎo)入巻軸 13，該導(dǎo)輥14j彼此的旋轉(zhuǎn)軸被平行配置且各自能夠進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。例如，如 圖2所示，在與輥芯巻12的旋轉(zhuǎn)軸平行設(shè)置的軸13c上并排設(shè)置有3個(gè) 可旋轉(zhuǎn)隔離物導(dǎo)入巻軸13。這里，圖2為從圖1中的箭頭A來(lái)看的隔離 物導(dǎo)入巻軸13的立體圖。并且，各個(gè)隔離物導(dǎo)入巻軸13包括輥芯部13a 和一對(duì)圓盤(pán)狀導(dǎo)向部13b，在該輥芯部13a上巻繞有隔離物2b(2c)，該一 對(duì)圓盤(pán)狀導(dǎo)向部13b被設(shè)置為夾著上述輥芯部13a，用以抑制隔離物2b(2c) 錯(cuò)開(kāi)。而且，各個(gè)隔離物導(dǎo)入巻軸13能夠相對(duì)于輥芯巻12的旋轉(zhuǎn)軸平行 移動(dòng)。這樣一來(lái)，由于能夠根據(jù)薄膜基板1上的后述各個(gè)顯示板形成部P 的位置來(lái)改變隔離物2b(2c)的位置，因此隔離物2b(2c)對(duì)構(gòu)成薄膜輥3b 的薄膜基板1所造成的影響較小。另外，在隔離物導(dǎo)入巻軸13上預(yù)先巻 繞有帶狀隔離物2b(2c)。這里，在圖2中央的隔離物導(dǎo)入巻軸13上巻繞 有隔離物2c，該隔離物2c的寬度窄于配置在圖2中央的隔離物導(dǎo)入巻軸 13兩側(cè)的巻繞在隔離物導(dǎo)入巻軸13上的隔離物2b的寬度。
其次，對(duì)上述結(jié)構(gòu)的濕式蝕刻裝置30a的動(dòng)作加以說(shuō)明。
在最初工作的第一輥收容室21中，將構(gòu)成薄膜展開(kāi)輥11上的 薄膜輥3a的薄膜基板1朝著導(dǎo)輥14a的方向展開(kāi)且將其搬送到蝕刻處理 室22，同樣，將構(gòu)成薄膜輥3a的隔離物2a朝著隔離物纏繞輥10的方向 展開(kāi)且將其纏繞在該隔離物纏繞輥10上。
在接下來(lái)工作的蝕刻處理室22中，利用導(dǎo)輥14b及14c使從 第一輥收容室21搬送來(lái)的薄膜基板1下降，然后，在浸漬在蝕刻槽15內(nèi) 的蝕刻液中時(shí)對(duì)其進(jìn)行蝕刻處理。接著，禾U用導(dǎo)輥14d及14e將被進(jìn)行了 蝕刻處理的薄膜基板1從蝕刻液中撈出來(lái)，在撈起的途中由氣刀17進(jìn)行 蝕刻液的除去工作。其次，經(jīng)由導(dǎo)輥14e將被除去了蝕刻液的薄膜基板l 搬送到洗凈處理室23。
在接下來(lái)工作的洗凈室23中，利用導(dǎo)輥14f及14g使從蝕刻 處理室22搬送來(lái)的薄膜基板1下降，然后，在浸漬在洗凈槽16內(nèi)的洗凈 液中時(shí)進(jìn)行洗凈處理。之后，利用導(dǎo)輥14h及14i將該薄膜基板l從洗凈 液中撈出來(lái)，在撈起的途中由氣刀17進(jìn)行洗凈液的除去工作。其次，經(jīng) 由導(dǎo)輥14i將被除去了洗凈液的薄膜基板1搬送到第二輥收容室24。
如圖3所示，在最后工作的第二輥收容室24中，經(jīng)由導(dǎo)輥14j 將從洗凈處理室23搬送來(lái)的薄膜基板1巻繞在輥芯巻12上且將隔離物 2b及2c從各個(gè)隔離物導(dǎo)入巻軸13導(dǎo)入到層層巻起的薄膜基板1之間。 這里，在薄膜基板1的兩端部配置寬度較寬的隔離物2b，在該兩端部之間 的中間部配置寬度較窄的隔離物2c。另外，圖3為從圖1中的箭頭B來(lái) 看的薄膜輥3b的立體圖。
其次，對(duì)使用了上述結(jié)構(gòu)的濕式蝕刻裝置30a的薄膜輥制造方 法加以說(shuō)明。本實(shí)施例的薄膜輥制造方法包括準(zhǔn)備工序、薄膜輥收容工序、 蝕刻處理工序、洗凈處理工序和纏繞工序(隔離物配置工序及巻繞工序)。
(準(zhǔn)備工序)通過(guò)展開(kāi)纏繞方式，利用濺射法在具有可彎曲性的薄膜狀樹(shù)脂 基板上形成鋁和鈦等的金屬薄膜，接著，在該金屬薄膜上形成抗蝕劑圖案 之后，在讓該樹(shù)脂基板的兩端部夾著線狀隔離物2a的同時(shí)，將該樹(shù)脂基 板巻繞在輥芯巻(薄膜展開(kāi)輥ll)上，來(lái)準(zhǔn)備巻繞有具有金屬薄膜及抗蝕劑 圖案的薄膜基板1的薄膜輥3a。
這里，構(gòu)成薄膜輥3a的薄膜基板1是由例如聚酯(PET)類樹(shù)脂、 聚(酰)亞胺(PI)類樹(shù)脂、聚醚砜(polyethersulfone)(PES)類等具有可彎曲性 的樹(shù)脂，以及玻璃/環(huán)氧樹(shù)脂類玻璃纖維強(qiáng)化樹(shù)脂等構(gòu)成。并且，薄膜基 板1的厚度例如在0. lmm以上且0.3mm以下，其寬度為600mm。如 圖3所示，在薄膜基板1以矩陣狀配置有各自用以形成顯示板的多個(gè)顯示 板形成部P。
并且，準(zhǔn)備好分別巻繞有隔離物2b及2c的隔離物導(dǎo)入巻軸13。 這里，隔離物2a、 2b及2c由聚酯(PET)類樹(shù)脂、聚(酰)亞胺(PI)類樹(shù)脂、 聚醚砜(PES)類等樹(shù)脂薄膜和防塵紙等構(gòu)成。隔離物2a、 2b及2c的厚度 例如在0. 25mm以上且lmm以下，其寬度在lmm以上且50mm以下。 這里，當(dāng)隔離物2a、 2b及2c的寬度窄于lmm時(shí)，難以將隔離物2a、 2b 及2c配置在薄膜基板1的規(guī)定位置上，當(dāng)隔離物2a、 2b及2c的寬度寬 于50mm時(shí)，例如，可配置顯示板形成部P的薄膜基板1的有效區(qū)域變 窄。當(dāng)隔離物2a、 2b及2c的厚度薄于0. 25mm時(shí)，薄膜基板1之間較 易接觸，當(dāng)隔離物2a、 2b及2c的厚度厚于lmm時(shí)，薄膜輥3a及所制造的薄膜輥3b的直徑變大。
下述各個(gè)工序是利用展開(kāi)纏繞方式連續(xù)進(jìn)行的，在下述實(shí)施例中，以各個(gè)工序?yàn)閱挝患右哉f(shuō)明。
〈薄膜輥收容工序〉首先，將薄膜輥3a收容在第一輥收容室21中，然后，從薄 膜輥3a展開(kāi)隔離物2a，將其前端裝在隔離物纏繞輥10上。其次，用同 樣的方法，從薄膜輥3a展開(kāi)薄膜基板l，將其前端送到導(dǎo)輥14a。并且， 驅(qū)動(dòng)隔離物纏繞輥10及薄膜展開(kāi)輥11。
〈蝕刻處理工序〉在導(dǎo)輥14b接受到了自導(dǎo)輥14a提供的薄膜基板l之后，沿 著蝕刻槽15內(nèi)的導(dǎo)輥14c及14d來(lái)搬送該薄膜基板1，進(jìn)行薄膜基板1 的蝕刻處理。此時(shí)，將從薄膜基板1上的抗蝕劑圖案露出來(lái)的金屬薄膜除 去，對(duì)該金屬薄膜進(jìn)行圖案化。并且，從蝕刻槽15中撈起蝕刻處理之后 的薄膜基板l，且由氣刀17除去附著在其表面的蝕刻液，然后，將該薄膜 基板l送到導(dǎo)輥14e。
〈洗凈處理工序〉在導(dǎo)輥14f接受到了自導(dǎo)輥14e提供的薄膜基板l之后，沿 著洗凈槽16內(nèi)的導(dǎo)輥14g及14h搬送該薄膜基板1，進(jìn)行薄膜基板1的 洗凈處理。此時(shí)，用洗凈水對(duì)薄膜基板1的表面進(jìn)行洗凈，用洗凈水除去 殘留在薄膜基板1表面的蝕刻液。并且，從洗凈槽16中撈起洗凈處理之 后的薄膜基板l，且由氣刀17除去附著在其表面的洗凈水，然后，將該薄 膜基板1送到導(dǎo)輥14i。
〈纏繞工序〉首先，在導(dǎo)輥14j接受到了自導(dǎo)輥14i提供的薄膜基板1之后， 將其前端裝在輥芯巻12上。其次，從預(yù)先收容在第二輥收容室24中的各 個(gè)隔離物導(dǎo)入巻軸13展開(kāi)被巻繞的隔離物2b及2c，如圖3所示，將其 各個(gè)前端配置在輥芯巻12上的薄膜基板1的兩端部及中間部(隔離物配置 工序)。并且，讓輥芯巻12及各個(gè)隔離物導(dǎo)入巻軸13驅(qū)動(dòng)，隔著各個(gè)隔 離物2b及2c將薄膜基板1巻繞在輥芯巻12上(巻繞工序)。
如上所述，能夠制造在薄膜基板1的兩端部及中間部分別沿著薄膜基板1的長(zhǎng)邊方向配置有帶狀隔離物2b及2c的薄膜輥3b。
其次，對(duì)具體進(jìn)行的實(shí)驗(yàn)加以說(shuō)明。
在本發(fā)明的實(shí)施例及比較例中，隔著規(guī)定厚度的隔離物，使在 一面形成有鈦薄膜的薄膜基板以其鈦薄膜與輥芯巻的導(dǎo)電膜對(duì)著的方式， 在圓周面上具有導(dǎo)電膜的輥芯巻上巻繞一層，來(lái)進(jìn)行輥芯巻的導(dǎo)電膜與薄 膜基板的鈦薄膜之間的導(dǎo)通實(shí)驗(yàn)，確認(rèn)輥芯巻與薄膜基板之間的接觸/非 接觸狀態(tài)。另外，輥芯巻與薄膜基板之間的接觸/非接觸狀態(tài)能夠換為在 巻繞有薄膜基板時(shí)的基板表面之間的接觸/非接觸狀態(tài)。
這里，輥芯巻的直徑為150mm。薄膜基板由玻璃/環(huán)氧樹(shù)脂 類玻璃纖維強(qiáng)化樹(shù)脂構(gòu)成，厚度為0.1mm 0.3mm，寬度為600mm，楊 氏模量(Young， modulus)為5GPa 15GPa，比重為l.Og / cm3 2.0g / cm3。隔離物由聚(酰)亞胺構(gòu)成，使用了厚度在0.125mm 0.750mm范圍 內(nèi)的6種厚度的隔離物。
并且，在實(shí)施例中，在薄膜基板的兩端部配置有寬度為10mm 的隔離物，在其中央部配置有寬度為5mm的隔離物。而在比較例中，僅 在薄膜基板的兩端部分別配置有寬度為10mm的隔離物。
其結(jié)果如圖4及圖9中的坐標(biāo)圖所示。這里，圖4及圖9分別 為表示實(shí)施例及比較例中的薄膜基板長(zhǎng)邊方向的張力及隔離物厚度、和輥 芯巻及薄膜基板的接觸狀態(tài)的關(guān)系的坐標(biāo)圖。在圖4及圖9中，坐標(biāo)圖中 的白色圓形標(biāo)記表示輥芯巻的導(dǎo)電膜與薄膜基板的鈦薄膜處于不導(dǎo)通狀 態(tài)，輥芯巻與薄膜基板處于非接觸狀態(tài)的情況，坐標(biāo)圖中的黑色三角標(biāo)記 表示輥芯巻的導(dǎo)電膜與薄膜基板的鈦薄膜處于導(dǎo)通狀態(tài)，輥芯巻與薄膜基 板處于接觸狀態(tài)的情況。
具體地說(shuō)，在實(shí)施例中，如圖4所示，在隔離物厚度為0.25mm 時(shí)，輥芯巻與薄膜基板之間開(kāi)始保持非接觸狀態(tài)。而在比較例中，如圖9 所示，在隔離物厚度為0.40mm時(shí)，輥芯巻與薄膜基板之間開(kāi)始保持非接 觸狀態(tài)。因此，得知了使用本實(shí)施例能夠使保持輥芯巻與薄膜基板之間的 非接觸狀態(tài)所需的隔離物厚度較薄。從而，能夠抑制薄膜輥直徑的增大， 使薄膜基板表面之間確實(shí)地處于非接觸狀態(tài)。另外，雖然在本實(shí)施例中， 在隔離物厚度為0.25mm時(shí)，輥芯輥與薄膜基板之間開(kāi)始保持非接觸狀態(tài)，但是當(dāng)薄膜基板的材質(zhì)更硬，即，楊氏模量較大時(shí)，即使使隔離物厚度薄于0.25mm，也能夠保持輥芯巻與薄膜基板之間的非接觸狀態(tài)。
如上所述，使用本實(shí)施例，由于在隔離物配置工序中，在巻繞 薄膜基板1時(shí)薄膜基板1之間較易接觸的薄膜基板1寬度方向的中間部配 置隔離物2c，因此即使在巻繞工序中巻繞薄膜基板l，也能夠抑制薄膜基 板l之間的相互接觸。并且，由于為了抑制薄膜基板l之間的相互接觸， 在薄膜基板1的中間部配置與在薄膜基板1兩端部所配置的隔離物2b的 厚度相同的隔離物2c，因此能夠抑制薄膜輥3b直徑的增大。故而，能夠 抑制薄膜輥3b直徑的增大，使薄膜基板1的表面之間確實(shí)地處于非接觸 狀態(tài)。
(第二實(shí)施例)圖5表示本發(fā)明所涉及的薄膜輥制造裝置的第二實(shí)施例。在本 實(shí)施例中，以展開(kāi)纏繞方式的涂敷裝置作為薄膜輥制造裝置。另外，在下 述各個(gè)實(shí)施例中，對(duì)與圖1 圖3相同的部分標(biāo)注同一符號(hào)，對(duì)其詳細(xì)說(shuō) 明加以省略。
圖5為本實(shí)施例的涂敷裝置30b的剖面示意圖。
在該涂敷裝置30b中，將第一輥收容室21、涂敷室25、加熱 處理室26和第二輥收容室24依次連接為一列，其中，在該第一輥收容室 21中收容處理之前的薄膜輥，在該涂敷室25中進(jìn)行涂敷，在該加熱處理 室26中進(jìn)行加熱處理，在該第二輥收容室24中收容處理之后的薄膜輥。 并且，為了能夠經(jīng)由導(dǎo)輥14a 14j搬送構(gòu)成薄膜輥的薄膜基板l，在第一 輥收容室21與涂敷室25之間的側(cè)壁、涂敷室25與加熱處理室26之間的 側(cè)壁、和加熱處理室26與第二輥收容室24之間的側(cè)壁上分別設(shè)置有開(kāi)口 部。
涂敷室25包括導(dǎo)輥14k及141、和狹縫涂敷裝置(slit coater)18，該導(dǎo)輥14k及141彼此的旋轉(zhuǎn)軸被平行配置且能夠旋轉(zhuǎn)，該狹 縫涂敷裝置18用以將抗蝕劑材料等薄膜涂敷在搬送到導(dǎo)輥14k及141上 的薄膜基板1的表面。
加熱處理室26包括5個(gè)導(dǎo)輥14m 14q和加熱器(heater)(無(wú) 圖示)，該5個(gè)導(dǎo)輥14m 14q彼此的旋轉(zhuǎn)軸被平行配置且能夠旋轉(zhuǎn)，該加熱器用以對(duì)沿著導(dǎo)輥14m 14q搬送來(lái)的薄膜基板1進(jìn)行加熱，燒成薄 膜基板1上的薄膜。在上述結(jié)構(gòu)的涂敷裝置30b中，與上述第一實(shí)施例一樣，在第 一輥收容室21的內(nèi)部收容薄膜輥3a，在涂敷室25中，在構(gòu)成薄膜輥3a 的薄膜基板l上形成薄膜，然后，在加熱處理室26中燒成該薄膜，最后， 與上述第一實(shí)施例一樣，在第二輥收容室24中制造將薄膜基板1巻繞在 輥芯巻12上的薄膜輥3b。
(其它實(shí)施例)本發(fā)明對(duì)于上述各個(gè)實(shí)施例，也可以是下述結(jié)構(gòu)。圖6 圖8 表示本發(fā)明所涉及的薄膜輥的其它實(shí)施例。
在上述各個(gè)實(shí)施例中，以在薄膜基板1的中間部配置有寬度較 窄的隔離物2c的薄膜輥3b作為了例子，本發(fā)明并不限定于此，例如，也 可以是圖6 圖8所示的那樣的薄膜輥3c 3e。
具體地說(shuō)，在圖6所示的薄膜輥3c中，薄膜亭板1的中間部的 隔離物2c的寬度、與兩端部的各個(gè)隔離物2b的寬度大致相同。
在圖7所示的薄膜輥3d中，通過(guò)使圖2中的各個(gè)隔離物導(dǎo)入巻 軸13相對(duì)于輥芯巻12的旋轉(zhuǎn)軸平行移動(dòng)，來(lái)使薄膜基板1的中間部的隔 離物2c的位置從薄膜基板1的中央朝右側(cè)偏離。
而且，在圖8所示的薄膜輥3e中，薄膜基板1的中間部的隔離物2c的寬度窄于兩端部的各個(gè)隔離物2b的寬度。
這樣一來(lái)，能夠通過(guò)根據(jù)薄膜基板1上的顯示板形成部P的位置來(lái)配置薄膜基板1的中間部的隔離物2c，來(lái)減少隔離物2c對(duì)薄膜基板l所造成的影響。
另外，在上述各個(gè)實(shí)施例中，以在薄膜基板1的兩端部之間配 置了一個(gè)隔離物2c的薄膜輥3b 3e作為了例子，本發(fā)明并不限定于此， 也可以在薄膜基板1的兩端部之間配置多個(gè)隔離物。(工業(yè)上的利用可能性)
如上所述，由于本發(fā)明能夠抑制薄膜輥直徑的增大，使基板表 面之間確實(shí)地處于非接觸狀態(tài)，因此有用于制造使用了展開(kāi)纏繞方式的顯 示板。
權(quán)利要求
1、一種薄膜輥制造方法，為制造卷繞有薄膜基板的薄膜卷的方法，其特征在于上述薄膜輥制造方法包括在上述薄膜基板的兩端部及該兩端部之間的中間部，沿著該薄膜基板的長(zhǎng)邊方向分別配置帶狀隔離物的隔離物配置工序；以及隔著上述被配置的各個(gè)隔離物卷繞上述薄膜基板的卷繞工序。
2、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的薄膜輥制造方法，其特征在于-. 在上述薄膜基板以矩陣狀配置有多個(gè)用以形成顯示板的顯示板形成部；上述中間部的隔離物被配置在上述多個(gè)顯示板形成部之間。
3、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的薄膜輥制造方法，其特征在于 上述中間部的隔離物寬度窄于上述兩端部的各個(gè)隔離物寬度。
4、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的薄膜輥制造方法，其特征在于 上述隔離物寬度在lmm以上且50mm以下。
5、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的薄膜輥制造方法，其特征在于 上述隔離物厚度在0.25mm以上且lmm以下。
6、 一種薄膜輥制造裝置，為制造巻繞有薄膜基板的薄膜輥的薄膜輥 制造裝置，其特征在于上述薄膜輥制造裝置包括用以巻繞上述薄膜基板的可旋轉(zhuǎn)輥芯巻；以及各自巻繞有帶狀隔離物，分別設(shè)置在巻繞在上述輥芯巻上的薄膜基板 的兩端部及該兩端部之間的中間部，將上述各個(gè)隔離物導(dǎo)人到巻繞在上述 輥芯巻上的薄膜基板之間的隔離物導(dǎo)入巻軸。
7、 根據(jù)權(quán)利要求6所述的薄膜輥制造裝置，其特征在于 上述各個(gè)隔離物導(dǎo)人巻軸能夠相對(duì)于上述輥芯巻的旋轉(zhuǎn)軸平行移動(dòng)。
8、 一種薄膜輥，為巻繞有薄膜基板的薄膜輥，其特征在于 在上述薄膜基板的兩端部及該兩端部之間的中間部，沿著該薄膜基板的長(zhǎng)邊方向分別配置有帶狀隔離物,
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了薄膜輥制造方法及制造裝置、和薄膜輥。該薄膜輥制造方法為制造卷繞有薄膜基板(1)的薄膜輥(3b)的方法。該薄膜輥制造方法包括在薄膜基板(1)的兩端部及中間部，沿著該薄膜基板(1)的長(zhǎng)邊方向分別配置帶狀隔離物(2b、2c)的隔離物配置工序；以及隔著該被配置的各個(gè)隔離物(2b、2c)卷繞薄膜基板(1)的卷繞工序。
文檔編號(hào)B65H18/28GK101277886SQ20068003649
公開(kāi)日2008年10月1日 申請(qǐng)日期2006年12月15日 優(yōu)先權(quán)日2005年12月20日
發(fā)明者神崎庸輔, 錦博彥 申請(qǐng)人:夏普株式會(huì)社