本申請涉及半導(dǎo)體設(shè)備，特別是涉及一種掩模版制作裝置及掩模版制作方法。

背景技術(shù)：

1、隨著超大規(guī)模集成電路（ultra?large?scale?integration，ulsi）的飛速發(fā)展，集成電路制造工藝變得越來越復(fù)雜和精細(xì)。隨著集成電路加工工藝節(jié)點(diǎn)的不斷提升，arf（argon?fluoride）相移掩模（phase?shift?mask，psm）和雙極性掩模等高端掩模的應(yīng)用越來越廣泛。掩模版的制作需要經(jīng)過顯影、刻蝕、去膠和清洗等工序，各工序需要由不同的機(jī)臺(tái)進(jìn)行處理。然而，目前的掩模版制作存在生產(chǎn)成本高和生產(chǎn)效率較低的問題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、基于此，有必要針對(duì)上述問題中的至少一個(gè)，提供一種掩模版制作裝置及掩模版制作方法。

2、為了達(dá)到上述目的，第一方面，本申請實(shí)施例提供一種掩模版制作裝置，包括：第一工藝臺(tái)，具有第一工藝腔；第二工藝臺(tái)，具有第二工藝腔；第一滑軌，包括第一軌體及與所述第一軌體連接的第一滑動(dòng)末端和第二滑動(dòng)末端，所述第一滑動(dòng)末端設(shè)于所述第一工藝腔內(nèi)，所述第二滑動(dòng)末端設(shè)于所述第二工藝腔內(nèi)；至少一個(gè)運(yùn)送機(jī)構(gòu)，可滑動(dòng)地設(shè)于所述滑軌上，所述運(yùn)送機(jī)構(gòu)用于運(yùn)轉(zhuǎn)待處理掩模版；其中，所述運(yùn)送機(jī)構(gòu)被配置為將所述待處理掩模版運(yùn)送至所述第一滑動(dòng)末端，所述第一工藝臺(tái)對(duì)所述待處理掩模版進(jìn)行處理；接著所述運(yùn)送機(jī)構(gòu)將所述待處理掩模版運(yùn)送至所述第二滑動(dòng)末端，所述第二工藝臺(tái)對(duì)所述待處理掩模版進(jìn)行處理。

3、在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述掩模版制作裝置還包括第三工藝臺(tái)，所述第三工藝臺(tái)具有第三工藝腔，所述第一滑軌還包括與所述第一軌體連接的第三滑動(dòng)末端，所述第三滑動(dòng)末端設(shè)于所述第三工藝腔內(nèi)。

4、在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述掩模版制作裝置還包括第四工藝臺(tái)，所述第四工藝臺(tái)具有第四工藝腔，所述第一滑軌還包括與所述第一軌體連接的第四滑動(dòng)末端，所述第四滑動(dòng)末端設(shè)于所述第四工藝腔內(nèi)。

5、所述運(yùn)送機(jī)構(gòu)的數(shù)量不小于4。

6、在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述掩模版制作裝置還包括藥劑存儲(chǔ)組件，所述藥劑存儲(chǔ)組件包括多個(gè)存儲(chǔ)罐，每一所述存儲(chǔ)罐上均連接有至少一個(gè)運(yùn)輸管。

7、所述第一工藝腔、所述第二工藝腔、所述第三工藝腔和所述第四工藝腔中，每一工藝腔與至少一個(gè)所述存儲(chǔ)罐通過對(duì)應(yīng)的所述運(yùn)輸管連接。

8、在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述掩模版制作裝置還包括：驅(qū)動(dòng)組件，與所述運(yùn)送機(jī)構(gòu)電連接；控制機(jī)，與所述第一工藝臺(tái)、所述第二工藝臺(tái)、所述第三工藝臺(tái)、所述第四工藝臺(tái)和所述驅(qū)動(dòng)組件電連接。

9、在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述運(yùn)送機(jī)構(gòu)包括：滑動(dòng)組件，可滑動(dòng)地設(shè)于所述第一滑軌上；載物臺(tái)，可轉(zhuǎn)動(dòng)地設(shè)于所述滑動(dòng)組件上。

10、其中，所述驅(qū)動(dòng)組件包括第一移動(dòng)驅(qū)動(dòng)件和旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)件，所述第一移動(dòng)驅(qū)動(dòng)件的輸出端與所述滑動(dòng)組件連接，所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)件的輸出端與所述載物臺(tái)連接。

11、在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述滑動(dòng)組件包括：第三滑軌，可滑動(dòng)地設(shè)于所述第一滑軌上，且與所述第一移動(dòng)驅(qū)動(dòng)件連接；滑塊，可滑動(dòng)地設(shè)于所述第三滑軌上，且所述載物臺(tái)可轉(zhuǎn)動(dòng)地設(shè)于所述滑塊上；所述驅(qū)動(dòng)組件還包括第二移動(dòng)驅(qū)動(dòng)件，所述第二移動(dòng)驅(qū)動(dòng)件的輸出端與所述滑塊連接。

12、在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述第一滑軌還包括與所述第一軌體連接的第五滑動(dòng)末端。

13、所述掩模版制作裝置還包括：第一裝載盒，用于裝載所述待處理掩模版；第一機(jī)械手臂，被配置為將所述第一裝載盒中的所述待處理掩模版轉(zhuǎn)移至位于所述第五滑動(dòng)末端的所述運(yùn)送機(jī)構(gòu)上。

14、在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述第一滑軌還包括與所述第一軌體連接的第六滑動(dòng)末端；所述運(yùn)送機(jī)構(gòu)還用于運(yùn)轉(zhuǎn)已處理掩模版。

15、所述掩模版制作裝置還包括：第二裝載盒，用于裝載已處理掩模版；第二機(jī)械手臂，被配置為將位于所述第六滑動(dòng)末端的所述運(yùn)送機(jī)構(gòu)上的已處理掩模版轉(zhuǎn)移至所述第二裝載盒。

16、在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述掩模版制作裝置還包括與所述第一滑軌連接的第二滑軌，所述第二滑軌用于中轉(zhuǎn)所述運(yùn)送機(jī)構(gòu)。

17、第二方面，本申請實(shí)施例提供一種掩模版制作方法，應(yīng)用于掩模版制作裝置，所述掩模版制作裝置包括第一工藝臺(tái)、第二工藝臺(tái)、第一滑軌和至少一個(gè)運(yùn)送機(jī)構(gòu)；所述第一工藝臺(tái)具有第一工藝腔，所述第二工藝臺(tái)具有第二工藝腔；所述第一滑軌包括第一軌體及與所述第一軌體連接的第一滑動(dòng)末端和第二滑動(dòng)末端，所述第一滑動(dòng)末端設(shè)于所述第一工藝腔內(nèi)，所述第二滑動(dòng)末端設(shè)于所述第二工藝腔內(nèi)；所述運(yùn)送機(jī)構(gòu)可滑動(dòng)地設(shè)于所述滑軌上，且用于運(yùn)轉(zhuǎn)待處理掩模版。

18、所述制作方法包括：所述運(yùn)送機(jī)構(gòu)將待處理掩模版運(yùn)送至所述第一滑動(dòng)末端；所述第一工藝臺(tái)對(duì)所述待處理掩模版進(jìn)行處理；所述運(yùn)送機(jī)構(gòu)將待處理掩模版運(yùn)送至所述第二滑動(dòng)末端；所述第二工藝臺(tái)對(duì)所述待處理掩模版進(jìn)行處理。

19、在其中一個(gè)實(shí)施例中，所述掩模版制作裝置還包括第三工藝臺(tái)、第四工藝臺(tái)、第一裝載盒、第一機(jī)械手臂、第二裝載盒和第二機(jī)械手臂；所述第三工藝臺(tái)具有第三工藝腔，所述第四工藝臺(tái)具有第四工藝腔；所述第一滑軌還包括與所述第一軌體連接的第三滑動(dòng)末端、第四滑動(dòng)末端、第五滑動(dòng)末端和第六滑動(dòng)末端，所述第三滑動(dòng)末端設(shè)于所述第三工藝腔內(nèi)，所述第四滑動(dòng)末端設(shè)于所述第四工藝腔內(nèi)。

20、所述運(yùn)送機(jī)構(gòu)將待處理掩模版運(yùn)送至所述第一滑動(dòng)末端之前，包括：所述第一機(jī)械手臂將所述第一裝載盒內(nèi)的待處理掩模版轉(zhuǎn)移至位于所述第五滑動(dòng)末端的所述運(yùn)送機(jī)構(gòu)上。

21、所述第二工藝臺(tái)對(duì)所述待處理掩模版進(jìn)行處理之后，包括：所述運(yùn)送機(jī)構(gòu)將待處理掩模版運(yùn)送至所述第三滑動(dòng)末端；所述第三工藝臺(tái)對(duì)所述待處理掩模版進(jìn)行處理；所述運(yùn)送機(jī)構(gòu)將待處理掩模版運(yùn)送至所述第四滑動(dòng)末端；所述第四工藝臺(tái)對(duì)所述待處理掩模版進(jìn)行處理；所述運(yùn)送機(jī)構(gòu)將已處理掩模版運(yùn)送至所述第六滑動(dòng)末端；所述第二機(jī)械手臂將位于所述第六滑動(dòng)末端的所述運(yùn)送機(jī)構(gòu)上的已處理掩模版轉(zhuǎn)移至所述第二裝載盒。

22、本申請實(shí)施例提供的掩模版制作裝置及掩模版制作方法，通過設(shè)置第一工藝臺(tái)、第二工藝臺(tái)、第一滑軌和至少一個(gè)運(yùn)送機(jī)構(gòu)。如此，在制作掩模版的過程中，運(yùn)送機(jī)構(gòu)可以將待處理掩模版運(yùn)送至第一滑動(dòng)末端，接著第一工藝臺(tái)對(duì)待處理掩模版進(jìn)行工藝處理，接著運(yùn)送機(jī)構(gòu)將待處理掩模版運(yùn)送至第二滑動(dòng)末端，接著第二工藝臺(tái)對(duì)待處理掩模版進(jìn)行工藝處理。這樣，一方面可以使待處理掩模版在第一工藝臺(tái)和第二工藝臺(tái)之間快速輪轉(zhuǎn)，有利于提高生產(chǎn)效率；另一方面，同一套第一滑軌和運(yùn)送機(jī)構(gòu)可以服務(wù)于至少兩個(gè)工藝臺(tái)（如第一工藝臺(tái)和第二工藝臺(tái)），有利于降低傳送機(jī)構(gòu)的數(shù)量，從而降低了成本。

技術(shù)特征：

1.一種掩模版制作裝置，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模版制作裝置，其特征在于，所述掩模版制作裝置還包括第三工藝臺(tái)，所述第三工藝臺(tái)具有第三工藝腔，所述第一滑軌還包括與所述第一軌體連接的第三滑動(dòng)末端，所述第三滑動(dòng)末端設(shè)于所述第三工藝腔內(nèi)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掩模版制作裝置，其特征在于，所述掩模版制作裝置還包括第四工藝臺(tái)，所述第四工藝臺(tái)具有第四工藝腔，所述第一滑軌還包括與所述第一軌體連接的第四滑動(dòng)末端，所述第四滑動(dòng)末端設(shè)于所述第四工藝腔內(nèi)；

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的掩模版制作裝置，其特征在于，所述掩模版制作裝置還包括藥劑存儲(chǔ)組件，所述藥劑存儲(chǔ)組件包括多個(gè)存儲(chǔ)罐，每一所述存儲(chǔ)罐上均連接有至少一個(gè)運(yùn)輸管；

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的掩模版制作裝置，其特征在于，所述掩模版制作裝置還包括：

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的掩模版制作裝置，其特征在于，所述運(yùn)送機(jī)構(gòu)包括：

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的掩模版制作裝置，其特征在于，所述滑動(dòng)組件包括：

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模版制作裝置，其特征在于，所述第一滑軌還包括與所述第一軌體連接的第五滑動(dòng)末端；

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模版制作裝置，其特征在于，所述第一滑軌還包括與所述第一軌體連接的第六滑動(dòng)末端；所述運(yùn)送機(jī)構(gòu)還用于運(yùn)轉(zhuǎn)已處理掩模版；

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模版制作裝置，其特征在于，所述掩模版制作裝置還包括與所述第一滑軌連接的第二滑軌，所述第二滑軌用于中轉(zhuǎn)所述運(yùn)送機(jī)構(gòu)。

11.一種掩模版制作方法，應(yīng)用于掩模版制作裝置，其特征在于，所述掩模版制作裝置包括第一工藝臺(tái)、第二工藝臺(tái)、第一滑軌和至少一個(gè)運(yùn)送機(jī)構(gòu)；所述第一工藝臺(tái)具有第一工藝腔，所述第二工藝臺(tái)具有第二工藝腔；所述第一滑軌包括第一軌體及與所述第一軌體連接的第一滑動(dòng)末端和第二滑動(dòng)末端，所述第一滑動(dòng)末端設(shè)于所述第一工藝腔內(nèi)，所述第二滑動(dòng)末端設(shè)于所述第二工藝腔內(nèi)；所述運(yùn)送機(jī)構(gòu)可滑動(dòng)地設(shè)于所述滑軌上，且用于運(yùn)轉(zhuǎn)待處理掩模版；

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的掩模版制作方法，其特征在于，所述掩模版制作裝置還包括第三工藝臺(tái)、第四工藝臺(tái)、第一裝載盒、第一機(jī)械手臂、第二裝載盒和第二機(jī)械手臂；所述第三工藝臺(tái)具有第三工藝腔，所述第四工藝臺(tái)具有第四工藝腔；所述第一滑軌還包括與所述第一軌體連接的第三滑動(dòng)末端、第四滑動(dòng)末端、第五滑動(dòng)末端和第六滑動(dòng)末端，所述第三滑動(dòng)末端設(shè)于所述第三工藝腔內(nèi)，所述第四滑動(dòng)末端設(shè)于所述第四工藝腔內(nèi)；

技術(shù)總結(jié)
本申請涉及一種掩模版制作裝置及掩模版制作方法。掩模版制作裝置包括：第一工藝臺(tái)，具有第一工藝腔；第二工藝臺(tái)，具有第二工藝腔；第一滑軌，包括第一軌體及與所述第一軌體連接的第一滑動(dòng)末端和第二滑動(dòng)末端，所述第一滑動(dòng)末端設(shè)于所述第一工藝腔內(nèi)，所述第二滑動(dòng)末端設(shè)于所述第二工藝腔內(nèi)；至少一個(gè)運(yùn)送機(jī)構(gòu)，可滑動(dòng)地設(shè)于所述滑軌上，所述運(yùn)送機(jī)構(gòu)用于運(yùn)轉(zhuǎn)待處理掩模版。這樣，一方面可以使待處理掩模版在第一工藝臺(tái)和第二工藝臺(tái)之間快速輪轉(zhuǎn)，有利于提高生產(chǎn)效率；另一方面，同一套第一滑軌和運(yùn)送機(jī)構(gòu)可以服務(wù)于至少兩個(gè)工藝臺(tái)（如第一工藝臺(tái)和第二工藝臺(tái)），有利于降低傳送機(jī)構(gòu)的數(shù)量，從而降低了成本。

技術(shù)研發(fā)人員：張旺
受保護(hù)的技術(shù)使用者：無錫迪思微電子有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/12/19