一種可減少漏料的放料氣缸的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及一種放料裝置，尤其涉及一種可減少漏料的放料氣缸。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，原有設(shè)備盛料缸與放料斗之間存在較大的間隙，粉體原料從盛料缸開閥放料時由于放料斗內(nèi)存在空氣，粉體在下落過程中擠壓空氣，瞬間的沖力將大量粉體從兩個設(shè)備之間的間隙中溢出，造成大量的原料污染及浪費。
[0003]因此，目前市場上亟需一種可減少漏料的放料氣缸，以防止放料中的粉體原料發(fā)生外泄造成污染和浪費。
【實用新型內(nèi)容】
[0004]本實用新型提出了一種可減少漏料的放料氣缸，包括盛料缸、放料斗和頂帽圈；所述盛料缸位于所述放料斗的上方，所述放料斗的直徑大于所述盛料缸，所述盛料缸的底部伸入所述放料斗內(nèi)，所述頂帽圈成環(huán)形設(shè)置在所述盛料缸與所述放料斗之間的縫隙中。
[0005]本實用新型所述可減少漏料的放料氣缸中，所述盛料缸的底部設(shè)置有放料閥。
[0006]本實用新型所述可減少漏料的放料氣缸中，所述放料斗內(nèi)設(shè)置有可提供壓縮空氣的壓縮機。
[0007]本實用新型所述可減少漏料的放料氣缸中，所述盛料缸的頂部設(shè)置有延展部。
[0008]本實用新型所述可減少漏料的放料氣缸中，所述延展部的底部安裝有支撐桿。
[0009]本實用新型在盛料缸和放料斗之間的縫隙中設(shè)置了頂帽圈，通過壓縮空氣控制放料氣缸的升降來減小盛料缸與放料氣缸之間的間隙，從而降低原料在盛料缸閥門開啟后落下時因巨大的空氣對沖從間隙中溢出的數(shù)量，有效地解決了原料粉體從縫隙中溢出的問題，減少了環(huán)境污染和浪費。
【附圖說明】
[0010]圖1為本實用新型可減少漏料的放料氣缸的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0011]圖2是本實用新型可減少漏料的放料氣缸的剖面圖。
【具體實施方式】
[0012]結(jié)合以下具體實施例和附圖，對發(fā)明作進一步的詳細說明。實施本發(fā)明的過程、條件、實驗方法等，除以下專門提及的內(nèi)容之外，均為本領(lǐng)域的普遍知識和公知常識，本發(fā)明沒有特別限制內(nèi)容。
[0013]如圖1和圖2所示，本實用新型可減少漏料的放料氣缸，包括盛料缸1、放料斗2和頂帽圈3 ;盛料缸I位于放料斗2的上方，放料斗2的直徑大于盛料缸1，盛料缸I的底部伸入放料斗2內(nèi)，頂帽圈3成環(huán)形設(shè)置在盛料缸I與放料斗2之間的縫隙中。盛料缸I的底部設(shè)置有放料閥11。放料斗2內(nèi)設(shè)置有可提供壓縮空氣的壓縮機。
[0014]其中，盛料缸I的頂部設(shè)置有延展部12。延展部12的底部安裝有支撐桿13，支撐桿13與地面連接，以支撐起盛料缸I。
[0015]在盛料缸I底部的放料閥11開閥之前，利用壓縮機在放料斗2內(nèi)部釋放壓縮空氣，從而將頂帽圈3頂起以填滿盛料缸I與放料斗2之間的縫隙。放料閥11開閥之后，盛放在盛料缸I的原料粉體向下落入放料斗2內(nèi)，原料粉體被頂帽圈3限制，所以不會從盛料缸I和放料斗2之間的縫隙中溢出造成環(huán)境污染和浪費，從而降低能耗，保持現(xiàn)場良好的工作環(huán)境。
[0016]本發(fā)明的保護內(nèi)容不局限于以上實施例。在不背離發(fā)明構(gòu)思的精神和范圍下，本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠想到的變化和優(yōu)點都被包括在本發(fā)明中，并且以所附的權(quán)利要求書為保護范圍。
【主權(quán)項】
1.一種可減少漏料的放料氣缸，其特征在于，包括盛料缸(I)、放料斗(2)和頂帽圈(3);所述盛料缸(I)位于所述放料斗(2)的上方，所述放料斗(2)的直徑大于所述盛料缸(I)，所述盛料缸(I)的底部伸入所述放料斗(2)內(nèi)，所述頂帽圈(3)成環(huán)形設(shè)置在所述盛料缸(I)與所述放料斗(2)之間的縫隙中。2.如權(quán)利要求1所述的可減少漏料的放料氣缸，其特征在于，所述盛料缸(I)的底部設(shè)置有放料閥(11)。3.如權(quán)利要求1所述的可減少漏料的放料氣缸，其特征在于，所述放料斗(2)內(nèi)設(shè)置有可提供壓縮空氣的壓縮機。4.如權(quán)利要求1所述的可減少漏料的放料氣缸，其特征在于，所述盛料缸(I)的頂部設(shè)置有延展部(12)。5.如權(quán)利要求4所述的可減少漏料的放料氣缸，其特征在于，所述延展部(12)的底部安裝有支撐桿(13)。
【專利摘要】本實用新型公開了一種可減少漏料的放料氣缸，包括盛料缸、放料斗和頂帽圈；盛料缸位于放料斗的上方，放料斗的直徑大于盛料缸，盛料缸的底部伸入放料斗內(nèi)，頂帽圈成環(huán)形設(shè)置在盛料缸與放料斗之間的縫隙中。本實用新型在盛料缸和放料斗之間的縫隙中設(shè)置了頂帽圈，有效地解決了原料粉體從縫隙中溢出的問題，減少了環(huán)境污染和浪費。
【IPC分類】B65G69/18
【公開號】CN204777765
【申請?zhí)枴緾N201520414798
【發(fā)明人】王偉榮, 李世榮, 譚耀良, 童益和, 朱曉勇
【申請人】普立萬聚合體（上海）有限公司
【公開日】2015年11月18日
【申請日】2015年6月15日