用于在膜上提供微偏差的方法
【專利說(shuō)明】用于在膜上提供微偏差的方法
[0001] 相關(guān)申請(qǐng)的交叉參考
[0002] 本申請(qǐng)要求2012年12月5日提交的美國(guó)臨時(shí)專利申請(qǐng)第61/733, 815號(hào)的優(yōu)先 權(quán)，其通過(guò)參考結(jié)合入本文。
【背景技術(shù)】
[0003] 吸收裝置通常包括面層、流體獲取分布層、吸收芯和背襯層。面層與裝置的使用者 的皮膚接觸，并朝向吸收芯傳輸流體滲出物，所述吸收芯俘獲并儲(chǔ)存所述流體滲出物。背襯 層是最外層，通過(guò)防止儲(chǔ)存在芯中的流體泄露或通過(guò)來(lái)提供抵抗衣物著色或弄臟的流體阻 隔。背襯層和面層都可包含聚合物膜的薄層構(gòu)。歷史上來(lái)說(shuō)，"薄"的范圍通常是小于50微 米但是大于10微米。
[0004] 由于一次性尿布的出現(xiàn)，其中希望無(wú)壓皺噪音（crinkling noise)的安靜材料 (quiet material)，希望使得用于吸收裝置的任意薄的聚合物膜具有三維形態(tài)。此類三 維突出和/或凹陷式樣通常為膜層提供以下一種或多種屬性：撓曲柔軟度和/或平靜性 (quietness)，這是由于降低了對(duì)于用于弄皺或彎曲膜的機(jī)械應(yīng)力的抗性的"褶"形態(tài)導(dǎo)致 的；通過(guò)使得反射光擴(kuò)散，具有較低的光澤度或缺乏閃光；通過(guò)產(chǎn)生所需的指尖"觸"感，具 有觸摸柔軟度或絲狀感，這是源自式樣類型、間距和陣列，具體地是對(duì)于觸摸柔軟度而言； 薄化，其實(shí)現(xiàn)或允許當(dāng)施加觸摸時(shí)的撓性彎曲；發(fā)現(xiàn)對(duì)于特定的消費(fèi)者市場(chǎng)細(xì)分，令人愉快 的花朵或絲帶或其他設(shè)計(jì)式樣的美觀外觀等。
[0005] 此外，可以形成通過(guò)面層的一個(gè)或多個(gè)開(kāi)口或孔，其可以是真空形成的以允許液 體通過(guò)。
[0006] 不幸的是，當(dāng)真空形成時(shí)，可以在用于面層的薄的聚合物膜上賦予或提供的現(xiàn)有 三維形態(tài)可能受限于尺寸（例如，高小于約60 μm)，這是由于需要使用高壓力使得卷材變 形，和/或避免用于真空成形的設(shè)備的偏斜和/或變形，和/或避免對(duì)通過(guò)面層的開(kāi)口或孔 的形成的破壞。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007] 提供了用于形成具有微偏差（micro-aberration)(例如，其可以是三維形態(tài)）的 真空形成的有孔的膜的系統(tǒng)和方法。例如，在一個(gè)實(shí)施方式中，可以在具有正偏差的格網(wǎng) (screen)和包含具有負(fù)凹陷的表面的棍之間的嗤合點(diǎn)處接收聚合物卷材（web)如恪融聚 合物卷材。負(fù)凹陷可以在輥的表面中預(yù)先形成。輥可以具有不大于約5. 5英寸的直徑，并 且可以置于真空槽的前緣處。
[0008] 根據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施方式，可以在嚙合點(diǎn)處，通過(guò)將格網(wǎng)上的正偏差插入輥的表 面上的負(fù)凹陷中，使得膜或聚合物卷材位于其間，以使得微偏差在聚合物卷材上（例如，聚 合物的平臺(tái)（land)上）膨脹?？梢砸约s為L(zhǎng) 5-3. 5鎊/線性英寸（PLI)的壓力，將格網(wǎng)上 的正偏差插入輥的表面上的負(fù)凹陷中（例如，使得膜或聚合物卷材位于其間）。
[0009] 此外，可以通過(guò)如下方式形成通過(guò)熔融聚合物卷材的一個(gè)或多個(gè)孔：傳遞熔融聚 合物卷材，使微偏差超過(guò)真空槽的前緣，從而使得真空槽可以通過(guò)壓差將部分的聚合物卷 材拉入格網(wǎng)中所包含的一個(gè)或多個(gè)開(kāi)口中。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，可以在與一個(gè)或多 個(gè)孔相鄰的熔融聚合物卷材的平臺(tái)上形成微偏差。
[0010] 提供本概述是為了以簡(jiǎn)化的形式介紹將在以下詳細(xì)描述中進(jìn)一步描述的一些概 念。本概述并不旨在標(biāo)識(shí)所要求保護(hù)的主題的關(guān)鍵特征或必要特征，也不旨在用于限制所 要求保護(hù)的主題的范圍。此外，所要求保護(hù)的主題不限于解決本發(fā)明的任意部分所記載的 任意或全部缺陷的任意限制。
【附圖說(shuō)明】
[0011] 通過(guò)以下描述，結(jié)合附圖的舉例，可以更詳細(xì)地理解本文所揭示的實(shí)施方式。
[0012] 圖1顯示用于形成具有微偏差的有孔膜的工藝或方法的示例性實(shí)施方式。
[0013] 圖2顯示處于嚙合前位置的示例性現(xiàn)有技術(shù)的沒(méi)有負(fù)凹陷的輥的表面或覆蓋以 及具有正偏差的壓紋輥的部分。
[0014] 圖3顯示處于嚙合位置的示例性現(xiàn)有技術(shù)的沒(méi)有負(fù)凹陷的輥的表面或覆蓋以及 具有正偏差的壓紋輥的部分。
[0015] 圖4顯示處于嚙合前位置的具有負(fù)凹陷的輥的表面或覆蓋以及具有正偏差的格 網(wǎng)的部分的示例性實(shí)施方式，所述格網(wǎng)可用于形成具有微偏差的有孔膜。
[0016] 圖5顯示處于嚙合位置的具有負(fù)凹陷的輥的表面或覆蓋以及具有正偏差的格網(wǎng) 的部分的示例性實(shí)施方式，所述格網(wǎng)可用于形成具有微偏差的有孔膜。
[0017] 圖6顯示在圖1的工藝或方法的嚙合點(diǎn)之后，可以在格網(wǎng)上的接近正偏差的聚合 物卷材或膜層的示例性實(shí)施方式。
【具體實(shí)施方式】
[0018] 下面參考各附圖詳細(xì)描述示意性實(shí)施方式。雖然本說(shuō)明書(shū)提供了可能的實(shí)踐方式 的詳細(xì)例子，但是應(yīng)理解的是，這些細(xì)節(jié)旨在是示例性的而不以任意方式限制本申請(qǐng)的范 圍。
[0019] 揭示了用于使得微偏差在形成的膜面層的平臺(tái)上膨脹，從而產(chǎn)生具有平臺(tái)上 的微偏差的真空形成的有孔膜的系統(tǒng)、方法或工藝。微偏差是精密標(biāo)度網(wǎng)孔，其具有約 為5500-55000/cm 2的高密度/正方形區(qū)域，在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，大于或等于約 30 μ m(例如，約為30-200 μ m)的平均高度，和/或在另一個(gè)示例性實(shí)施方式中大于或等于 約65 μm(例如，約為65-200 μm)。微偏差還包括根據(jù)示例性實(shí)施方式可以是開(kāi)放或閉合的 尖端或遠(yuǎn)端。
[0020] 為了形成該微偏差，提供形成有孔的膜的成形格網(wǎng)的一個(gè)或多個(gè)平臺(tái)上的正偏差 以及嚙合輥上的匹配負(fù)凹陷，并用于使得微偏差式樣膨脹或形成。
[0021] 已知單步法可用于在膜上形成微偏差。然后可以使用額外的工藝或工藝步驟以繼 續(xù)在膜中形成孔。例如，可以在單個(gè)工藝中或者在工藝的單個(gè)步驟中，對(duì)膜壓紋偏差。在此 類壓紋之后，然后可以在另一個(gè)工藝或者工藝的另一個(gè)步驟中對(duì)膜進(jìn)行再加熱，以形成孔 (例如，可以用釘對(duì)具有微偏差的再加熱的膜進(jìn)行打孔）。因而，目前來(lái)說(shuō)，多個(gè)工藝或多步 法可用于在聚合物膜中形成微偏差和孔。不幸的是，對(duì)膜進(jìn)行再加熱以形成孔傾向于破壞 先前步驟或工藝中形成的微偏差。
[0022] 例如，采用真空成形在薄的聚合物膜中制造孔的已知方法包括：軟化薄的聚合物 卷材，其與繞著真空槽轉(zhuǎn)動(dòng)的成形格網(wǎng)接觸，參見(jiàn)例如美國(guó)專利第4, 151，240號(hào)所述。還已 知這樣一種方法，其中，將熔融卷材引入到繞著真空槽轉(zhuǎn)動(dòng)的成形格網(wǎng)上（例如，參見(jiàn)美國(guó) 專利第4, 456, 570號(hào)）所述。不幸的是，由此類方法形成的結(jié)構(gòu)沒(méi)有到達(dá)對(duì)于微偏差所需 的平均高度（例如，如下表2所示）。
[0023] 在具有孔的薄的聚合物膜中的微偏差的所需平均高度的例子參見(jiàn)例如美國(guó)專利 第4, 629, 643號(hào)，其中，采用在軟化的聚合物膜上賦予約400-800psig的液壓成形或高壓水 流，以形成微偏差（還參加，例如美國(guó)專利7, 521，588)。
[0024] 還已知用于形成聚合物膜的改性的是使用捏夾壓紋，例如參見(jiàn)美國(guó)專利第 3, 950, 480號(hào)以及第5, 229, 186號(hào)所述。經(jīng)軟化的薄的聚合物膜通過(guò)兩個(gè)輥之間，在兩個(gè)輥 之間形成捏夾，至少一個(gè)輥上的表面設(shè)計(jì)被壓紋到軟化的薄的聚合物膜中。捏夾壓紋還依 賴于較高的壓力來(lái)提供對(duì)于聚合物膜的改性。
[0025] 不希望受到理論的限制，相信在兩個(gè)輥之間以細(xì)網(wǎng)（例如，約為5500-55000/ cm2的密度/正方形區(qū)域）對(duì)薄的聚烯烴膜進(jìn)行壓紋使用相對(duì)較高的壓力（PLI)， 50-500PLI (例如，如同美國(guó)專利第3, 950, 480號(hào)以及第5, 229, 186號(hào)），將輥覆