蓋變形成為 微偏差的形狀，以在所得到的膜中獲得所需式樣的微偏差的平均高度。
[0026] 還相信這種用于壓紋微偏差的過(guò)度壓力當(dāng)用于真空成形的有孔膜過(guò)程中的話，會(huì) 導(dǎo)致穿過(guò)固定真空密封的摩擦阻力，導(dǎo)致密封磨損和早期的格網(wǎng)磨損。這種過(guò)度的壓力還 會(huì)導(dǎo)致扭曲應(yīng)力，這可能使得薄的、穿孔的、形成有孔的膜的形成格網(wǎng)的彎曲和快速破裂， 以及使得輥偏斜，這造成微偏差的均勻平均高度是無(wú)法實(shí)現(xiàn)的。在標(biāo)準(zhǔn)壓紋技術(shù)中，通常將 輥直徑增加為直徑高至3-6英尺，以降低由于壓紋的高PLI需求所引起的偏斜。
[0027] 如本文所述，提供了這樣一種方法，例如其中無(wú)需再加熱即可形成微偏差和孔的 真空成形法（即，單步法）。在此類(lèi)過(guò)程中，可以通過(guò)如下方式在形成有孔的膜的平臺(tái)上形 成微偏差：將熔融聚合物卷材引入到形成有孔的膜的成形格網(wǎng)上的正偏差和輥表面或覆蓋 上的基本對(duì)準(zhǔn)的負(fù)凹陷之間，以及從具有不超過(guò)5. 5英寸的直徑的輥提供低鎊數(shù)/線性英 寸（PLI)壓力，例如約1.5-4. 0PLI。此外，為了形成具有微偏差和孔的膜，需要對(duì)輥進(jìn)行移 動(dòng)或整合到在真空槽密封的前緣處的工藝的熔融流接觸點(diǎn)中，從而使得輥不會(huì)阻擋或擾亂 之后用于形成孔的空氣流。為此，輥不可以具有大于約5. 5英寸的直徑。
[0028] 圖1顯示用于形成具有微偏差的有孔膜的工藝或方法的示例性實(shí)施方式。如圖1 所示，擠出狹縫模頭2引出熔融聚合物卷材10,其被傳遞到嚙合點(diǎn)40處的成形格網(wǎng)組件20 以及輥組件30。
[0029] 成形格網(wǎng)組件20包括格網(wǎng)22和固定歧管24,所述格網(wǎng)22繞著所述固定歧管24 轉(zhuǎn)動(dòng)。格網(wǎng)22包括一個(gè)或多個(gè)正偏差（未示出），例如，在格網(wǎng)22的一個(gè)或多個(gè)平臺(tái)上，其 與匹配負(fù)凹陷（未示出）結(jié)合使用，所述匹配負(fù)凹陷在例如與輥組件30相關(guān)聯(lián)的輥32表 面中，以使得聚合物卷材10中的微偏差膨脹，從而制造如本文所述的具有一個(gè)或多個(gè)微偏 差52(未按比例示出）的式樣的成形膜面層（例如，真空形成的有孔膜）50。此外，對(duì)格網(wǎng) 22進(jìn)行穿孔，以使得格網(wǎng)22還包括開(kāi)口（未示出），所述開(kāi)口在那里延伸，但是其與具有正 偏差的平臺(tái)相鄰。開(kāi)口允許空氣通過(guò)格網(wǎng)22,從而使得格網(wǎng)22和限定通過(guò)其中的開(kāi)口用于 在聚合物卷材10中形成孔。
[0030] 如圖1所示，格網(wǎng)22繞著固定歧管24轉(zhuǎn)動(dòng)，所述固定歧管24包括：具有前緣28 和后緣29的固定真空槽26。限定在前緣28和后緣29之間的真空槽26包括壓差區(qū)，在真 空壓力的情況下，其是負(fù)壓差區(qū)。
[0031] 輥組件30包括輥32。如本文所述，輥32表面或覆蓋包括一個(gè)或多個(gè)負(fù)凹陷（例 如，預(yù)陷入或預(yù)形成在輥32中）。所述一個(gè)或多個(gè)負(fù)凹陷與格網(wǎng)22中的正偏差在嚙合點(diǎn) 40處基本對(duì)準(zhǔn)（例如，一個(gè)或多個(gè)負(fù)凹陷與格網(wǎng)22中的正偏差匹配），從而使得輥32和格 網(wǎng)22配置成引起具有一個(gè)或多個(gè)微偏差52 (未按比例示出）的式樣的成形膜面層50 (例 如，真空形成的有孔膜）的形成。
[0032] 在捏合點(diǎn)40處形成微偏差之后，然后將其上形成有微偏差式樣的聚合物卷材10 傳遞超過(guò)前緣28并傳遞過(guò)真空槽26。通過(guò)真空槽26中產(chǎn)生的壓差，將懸在格網(wǎng)22中的開(kāi) 口上的熔融聚合物卷材10拉入格網(wǎng)22的開(kāi)口中，使得在聚合物10未被格網(wǎng)22的平臺(tái)支 撐的區(qū)域中形成孔。然后通過(guò)新形成的孔的空氣的對(duì)流冷卻從熔融卷材去除足夠的熱量， 導(dǎo)致其從熔融相變化為凝固相，或者對(duì)于具有晶體結(jié)構(gòu)的聚烯烴聚合物（例如聚乙烯）變 化為晶相。當(dāng)凝固時(shí)，對(duì)于微偏差以及孔和/或繞著孔的平臺(tái)，聚合物卷材10都沒(méi)有損失 其新形成的形狀和結(jié)構(gòu)。
[0033] 在一個(gè)實(shí)施方式中，如圖1所示，將輥32相對(duì)于成形格網(wǎng)組件20在前緣28放置， 使得當(dāng)聚合物卷材10從狹縫模頭2傳遞到嚙合點(diǎn)40的格網(wǎng)22時(shí)，輥32實(shí)質(zhì)上同時(shí)與聚 合物卷材10發(fā)生接觸。
[0034] 格網(wǎng)22發(fā)生轉(zhuǎn)動(dòng)或移動(dòng)，從而使得聚合物卷材10具有一個(gè)或多個(gè)被平臺(tái)圍繞的 孔以及一個(gè)或多個(gè)平臺(tái)上的微偏差，并使得聚合物卷材10傳遞過(guò)真空槽26的后緣29。在 傳遞通過(guò)真空槽26的后緣29之后，具有一個(gè)或多個(gè)微偏差以及一個(gè)或多個(gè)被平臺(tái)圍繞的 孔的聚合物卷材10離開(kāi)成形格網(wǎng)22的表面，例如通過(guò)剝離輥（未示出）剝離掉，從而現(xiàn)在 是真空成形的有孔膜的面層50,其在面層50的平臺(tái)上具有一個(gè)或多個(gè)微偏差52的永久式 樣。
[0035] 根據(jù)一些實(shí)施方式，可以將成形膜面層50(其具有被平臺(tái)圍繞的一個(gè)或多個(gè)孔以 及在平臺(tái)上通過(guò)其的一個(gè)或多個(gè)微偏差）提供到或者通過(guò)到額外的加工站或設(shè)備，從而將 成形膜面層50切割成所需的寬度尺寸并繞在輥中，用于轉(zhuǎn)化成為吸收裝置及其功能的任 意變化形式的組件。
[0036] 圖2顯示處于嚙合前位置（例如，在如上圖1所示的嚙合點(diǎn)40的嚙合點(diǎn)嚙合之前） 的現(xiàn)有技術(shù)的沒(méi)有負(fù)凹陷的大直徑捏輥的表面或覆蓋部分（例如132)以及具有正偏差的 輥例如鋼式樣輥部分（例如122)的例子。現(xiàn)有技術(shù)表面或覆蓋部分132是目前可用于壓 紋輥的示例性覆蓋或表面。一種典型的覆蓋會(huì)是包含例如65肖氏A硅橡膠。出于對(duì)比的 緣故，圖2的包括表面或覆蓋部分132的輥可以放置成位置和朝向類(lèi)似于上圖1所述的輥 32,就如同可以將壓紋法用于真空形成的有孔膜過(guò)程那樣。類(lèi)似地，鋼壓紋輥的一部分上的 偏差122是格網(wǎng)（例如上文所述的圖1中的格網(wǎng)22)上的偏差的一個(gè)示例性表示。如圖2 所示，示例性現(xiàn)有技術(shù)表面或覆蓋部分132包括平行水平條紋線134a作為未改變的、非壓 縮狀態(tài)的表面或覆蓋部分132的圖不，其同時(shí)也不具有負(fù)凹陷。
[0037] 圖3顯示處于嚙合位置的現(xiàn)有技術(shù)的沒(méi)有負(fù)凹陷的大直徑捏輥的表面或覆蓋部 分（例如132)以及具有正偏差的輥，例如鋼式樣輥部分（例如122)的例子。如圖3所示， 當(dāng)施加約50PLI至高至500PLI的壓力以造成表面或覆蓋部分132與偏差122的形狀相適 應(yīng)時(shí)，當(dāng)在嚙合點(diǎn)處正偏差122被壓縮入或壓入表面或覆蓋部分132的表面中的時(shí)候，表面 或覆蓋部分132的條紋線134b是經(jīng)改變的（例如，顯示為136)。當(dāng)聚合物卷材（未示出） 例如圖1中所述的聚合物卷材10的薄層被置于表面或覆蓋部分132和偏差122之間時(shí)，施 加約50-500PLI的高壓力，與壓縮區(qū)域138相關(guān)的曳力可導(dǎo)致在聚合物卷材中形成與偏差 122的形狀相對(duì)應(yīng)的微偏差。在該現(xiàn)有技術(shù)實(shí)施方式中，低壓力（例如，約1. 5-3. 5或者約 1. 5-4. 0的PLI)無(wú)法提供足夠的壓力以迫使表面或覆蓋部分132的表面與正偏差122相符 合，如上文所述。
[0038] 此外，在圖3的現(xiàn)有技術(shù)實(shí)施方式中，當(dāng)隨后從表面或覆蓋部分132撤回偏差122 時(shí)，與表面或覆蓋部分132相關(guān)的彈性導(dǎo)致所述表面或覆蓋部分132返回其如圖2所示的 嚙合前形狀，其中條紋線134b返回至條紋線134a的初始平行位置。
[0039] 圖4顯示處于嚙合前位置的輥（例如，具有負(fù)凹陷（例如156)的152)的一部分 的表面或覆蓋部分的示例性實(shí)施方式以及具有正偏差（例如142)的格網(wǎng)的一部分。輥的 表面或覆蓋部分152表示圖1所述的輥32,格網(wǎng)的偏差142表示處于嚙合前位置的圖1所 述的格網(wǎng)22,其用于現(xiàn)有工藝以形成具有微偏差的膜。如圖4所示，表面或覆蓋部分152具 有預(yù)形成的腔或負(fù)凹陷156。通過(guò)例如激光雕刻，將腔或負(fù)凹陷156預(yù)形成在輥表面中。此 外，腔或負(fù)凹陷156可具有如下尺寸，其與偏差142的形狀精密匹配或近似匹配，除了腔或 負(fù)凹陷156的平均深度比偏差142的平均高度高至少例如約15%。如圖4所示，圖示條紋 線154a表不未改變狀態(tài)同時(shí)處于嗤合前模式。
[0040] 圖5顯示處