專利名稱：熔塊釉節(jié)能窯爐蓄熱室的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及窯爐技術(shù)領(lǐng)域，更具體的是涉及一種窯爐的蓄熱室結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)：
熔塊釉節(jié)能窯爐蓄熱室熱能不能很好的回收利用，造成很大的熱能損耗，為此，為了更好的熱能回收，有必要從窯爐內(nèi)排出的廢氣中吸收其中的熱能，進(jìn)行貯存，以便讓氧氣經(jīng)過時(shí)吸收其儲存的熱量，從而提高氧氣的溫度，提高熱能的利用率，但目前的窯爐蓄熱室采用的垂直設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)并不能很好的吸收廢氣中的熱量，對粉塵的回收低，環(huán)境污染較大。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的就是為了解決現(xiàn)有技術(shù)之不足而提供的一種結(jié)構(gòu)簡單，提高氧氣的溫度，使之達(dá)到燃燒區(qū)時(shí)，減少熱能的吸取，從而提高熱能的利用率的熔塊釉節(jié)能窯爐
蓄熱室。本實(shí)用新型是采用如下技術(shù)解決方案來實(shí)現(xiàn)上述目的一種熔塊釉節(jié)能窯爐蓄熱室，包括垂直設(shè)置的蓄熱室，其特征在于，所述蓄熱室的后端設(shè)置有一水平蓄熱室。作為上述方案的進(jìn)一步說明，所述水平蓄熱室采用蓄熱磚堆砌而成。所述垂直設(shè)置的蓄熱室底側(cè)開口，水平蓄熱室的進(jìn)氣端連接于該開口上。所述水平蓄熱室的端側(cè)下部設(shè)置有出氣口。本實(shí)用新型采用上述技術(shù)解決方案所能達(dá)到的有益效果是本實(shí)用新型采用蓄熱磚加建一個(gè)與熱空氣接觸的蓄熱室，改原有的垂直為水平， 以便在窯爐排氣過程中吸取空氣中的熱量，在換向氣過程中，氧氣經(jīng)過此蓄熱室時(shí)，吸取蓄熱磚中的熱能，以助提高氧氣的溫度，使之達(dá)到燃燒區(qū)時(shí)，減少熱能的吸取，從而提高熱能的利用率。

圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。附圖標(biāo)記說明1、蓄熱室2、水平蓄熱室3、開口 4、出氣口具體實(shí)施方式
如圖1所示，本實(shí)用新型一種熔塊釉節(jié)能窯爐蓄熱室，包括垂直設(shè)置的蓄熱室1， 在蓄熱室1的后端設(shè)置有一水平蓄熱室2，建地面積為8平方米，采用蓄熱磚加建的一個(gè)與熱空氣接觸面積為2000平方米的蓄熱室。其中，垂直設(shè)置的蓄熱室底側(cè)開口 3，水平蓄熱室的進(jìn)氣端連接于該開口 3上，水平蓄熱室的端側(cè)下部設(shè)置有出氣口 4。使用過程中，廢氣經(jīng)過垂直蓄熱室進(jìn)入水平蓄熱室內(nèi)，在換向氣過程中，氧氣經(jīng)過此水平蓄熱室時(shí)，吸取蓄熱磚中的熱能，以助提高氧氣的溫度，使之達(dá)到燃燒區(qū)時(shí)，減少熱能的吸取，從而提高熱能的利用率。[0014] 以上所述的僅是本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實(shí)用新型創(chuàng)造構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進(jìn)，這些都屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求1.一種熔塊釉節(jié)能窯爐蓄熱室，包括垂直設(shè)置的蓄熱室，其特征在于，所述蓄熱室的后端設(shè)置有一水平蓄熱室。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的熔塊釉節(jié)能窯爐蓄熱室，其特征在于，所述水平蓄熱室采用蓄熱磚堆砌而成。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的熔塊釉節(jié)能窯爐蓄熱室，其特征在于，所述垂直設(shè)置的蓄熱室底側(cè)開口，水平蓄熱室的進(jìn)氣端連接于該開口上。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的熔塊釉節(jié)能窯爐蓄熱室，其特征在于，所述水平蓄熱室的端側(cè)下部設(shè)置有出氣口。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種熔塊釉節(jié)能窯爐蓄熱室，包括垂直設(shè)置的蓄熱室，其特征在于，所述蓄熱室的后端設(shè)置有一水平蓄熱室，垂直設(shè)置的蓄熱室底側(cè)開口，水平蓄熱室的進(jìn)氣端連接于該開口上。本實(shí)用新型利用蓄熱磚從爐內(nèi)排出的廢氣中吸收其中的熱能，進(jìn)行貯存，以便讓氧氣從此室經(jīng)過時(shí)吸收其儲存的熱量，從而提高氧氣的溫度，提高熱能的利用率。
文檔編號F27D1/00GK201964771SQ20112004683
公開日2011年9月7日 申請日期2011年2月24日 優(yōu)先權(quán)日2011年2月24日
發(fā)明者何慶華, 李紅軍, 胡佳佳, 鄺翠蘭, 郝家潘 申請人:廣東三水大鴻制釉有限公司