專利名稱：具有熱解氮化硼保護層的蒸發(fā)坩堝的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及蒸發(fā)坩堝技術領域，具體地說是一種具有熱解氮化硼保護層的蒸發(fā)坩堝。
技術背景 隨著科技的發(fā)展，對材料質(zhì)量，特別是純度的要求也進一步提高。因此在使用坩堝在高溫條件下進行蒸發(fā)時，要求坩堝在蒸發(fā)過程中不能有任何物質(zhì)揮發(fā)出來，以免揮發(fā)出的物質(zhì)混入被蒸發(fā)物質(zhì)中形成雜質(zhì)，影響材料的純度及質(zhì)量。為此，人們選用性質(zhì)穩(wěn)定的材料來制造坩堝，使其在高溫條件下也不易揮發(fā)。另外，使坩堝表面更加致密，從而進一步阻止坩堝揮發(fā)出物質(zhì)。但，現(xiàn)有的蒸發(fā)坩堝仍存在諸多問題。如制造成本與質(zhì)量之間的矛盾，即選用較好的材料制造蒸發(fā)坩堝雖然性質(zhì)穩(wěn)定不易揮發(fā)，但原料成本和制造成本太高。有鑒于上述現(xiàn)有的蒸發(fā)坩堝存在的諸多問題，本實用新型設計人依靠多年的工作經(jīng)驗和豐富的專業(yè)知識積極加以研究和創(chuàng)新，最終研發(fā)出一種具有熱解氮化硼保護層的蒸發(fā)坩堝，不但有效控制物質(zhì)揮發(fā)，而且成本低。

實用新型內(nèi)容為了解決現(xiàn)有技術中存在的上述問題，本實用新型提供了一種具有熱解氮化硼保護層的蒸發(fā)坩堝，不但有效控制物質(zhì)揮發(fā)，而且成本低。為了解決上述技術問題，本實用新型采用了如下技術方案具有熱解氮化硼保護層的蒸發(fā)坩堝，包括坩堝本體，所述坩堝本體具有內(nèi)表面和外表面，至少內(nèi)表面覆有熱解氮化硼保護層。進一步，所述內(nèi)表面和外表面均具有熱解氮化硼保護層。進一步，所述熱解氮化硼保護層的厚度為0. 01_3mm。進一步，所述熱解氮化硼保護層通過化學氣相沉積法覆于坩堝本體的表面。進一步，所述坩堝本體為石墨或陶瓷制成。與現(xiàn)有技術相比，本實用新型的有益效果在于本實用新型的具有熱解氮化硼保護層的蒸發(fā)坩堝在表面覆有熱解氮化硼保護層，由于熱解氮化硼的性質(zhì)在高溫條件也極其穩(wěn)定，所以在蒸發(fā)過程中不會揮發(fā)而影響蒸發(fā)所得材料的純度。另外，熱解氮化硼結構致密，有效地阻止了坩堝本體所含的物質(zhì)的揮發(fā)，提高了高溫條件下高溫空間環(huán)境的純凈度，提高了高溫蒸發(fā)生成材料的純度，同時，由于只在坩堝本體的表面覆有一層熱解氮化硼所以比單純使用熱解氮化硼蒸發(fā)坩堝的成本降低很多。

圖I為本實用新型的具有熱解氮化硼保護層的蒸發(fā)坩堝的一種實施例的結構剖圖；[0014]圖2為本實用新型的具有熱解氮化硼保護層的蒸發(fā)坩堝的一種實施例的結構剖圖。
具體實施方式
以下結合附圖和具體實施例對本實用新型作進一步詳細描述，但不作為對本實用新型的限定。圖I和圖2分別為本實用新型的具有熱解氮化硼保護層的蒸發(fā)坩堝的兩種實施例的結構剖圖。如圖I和圖2所示，具有熱解氮化硼保護層的蒸發(fā)坩堝，包括坩堝本體1，坩堝本體I具有內(nèi)表面101和外表面102，內(nèi)表面101覆有熱解氮化硼保護層2 (見圖I)。圖2顯示了內(nèi)表面和外表面均具有熱解氮化硼保護層2的結構。一般在內(nèi)表面101覆有熱解氮化硼保護層2即可防止坩堝本體中的物質(zhì)揮發(fā)混入被蒸發(fā)物質(zhì)中。當然，在內(nèi)表面和外表面均具有熱解氮化硼保護層的效果更好。作為上述實施例的優(yōu)選，熱解氮化硼保護層的厚度為0. 01_3mm。熱解氮化硼保護層的厚度越薄，成本就越低。厚度達到0.01mm即可有效阻止坩堝本體中的物質(zhì)揮發(fā)。熱解氮化硼保護層通過化學氣相沉積法覆于坩堝本體的表面。坩堝本體為石墨或陶瓷制成。由于石墨和陶瓷的性質(zhì)比較穩(wěn)定，耐高溫，所以在一定程度上也限制了坩堝本體中物質(zhì)的揮發(fā)。化學氣相沉積(Chemical vapor deposition,簡稱CVD)是把含有構成薄膜元素的氣態(tài)反應劑或液態(tài)反應劑的蒸氣及反應所需其他氣體引入反應室，在襯底材料表面生成薄膜的過程。本實用新型利用化學氣相沉積法在坩堝表面覆上熱解氮化硼保護層，易于實施。熱解氮化硼具有熔點高、導熱、絕緣性能良好，抗彎強度高、抗熱沖擊性能好、耐化學腐蝕等特性，且熱解氮化硼結構致密，在高溫條件下性質(zhì)穩(wěn)定，是非常優(yōu)異的蒸發(fā)器的表面涂層材料。有效阻止蒸發(fā)器物質(zhì)揮發(fā)，提高了高溫條件下高溫空間環(huán)境的純凈度，提高了高溫蒸發(fā)生成材料的純度。同時，比單純使用熱解氮化硼蒸發(fā)器的成本降低很多。以上實施例僅為本實用新型的示例性實施例，不用于限制本實用新型，本實用新型的保護范圍由權利要求書限定。本領域技術人員可以在本實用新型的實質(zhì)和保護范圍內(nèi)，對本實用新型做出各種修改或等同替換，這種修改或等同替換也應視為落在本實用新型的保護范圍內(nèi)。
權利要求1.具有熱解氮化硼保護層的蒸發(fā)坩堝，包括坩堝本體，所述坩堝本體具有內(nèi)表面和外表面，其特征在于，至少內(nèi)表面覆有熱解氮化硼保護層。
2.根據(jù)權利要求I所述的具有熱解氮化硼保護層的蒸發(fā)坩堝，其特征在于，所述內(nèi)表面和外表面均具有熱解氮化硼保護層。
3.根據(jù)權利要求I所述的具有熱解氮化硼保護層的蒸發(fā)坩堝，其特征在于，所述熱解氮化硼保護層的厚度為0. 01-3mm。
4.根據(jù)權利要求I所述的具有熱解氮化硼保護層的蒸發(fā)坩堝，其特征在于，所述熱解氮化硼保護層通過化學氣相沉積法覆于坩堝本體的表面。
5.根據(jù)權利要求I所述的具有熱解氮化硼保護層的蒸發(fā)坩堝，其特征在于，所述坩堝本體為石墨或陶瓷制成。
專利摘要本實用新型公開了一種具有熱解氮化硼保護層的蒸發(fā)坩堝，包括坩堝本體，所述坩堝本體具有內(nèi)表面和外表面，至少內(nèi)表面覆有熱解氮化硼保護層。所述內(nèi)表面和外表面均具有熱解氮化硼保護層。所述熱解氮化硼保護層的厚度為0.01-3mm。所述熱解氮化硼保護層通過化學氣相沉積法覆于坩堝本體的表面。所述坩堝本體為石墨或陶瓷制成。本實用新型的具有熱解氮化硼保護層的蒸發(fā)坩堝不但有效控制物質(zhì)揮發(fā)，而且成本低。
文檔編號F27B14/10GK202792948SQ20122042901
公開日2013年3月13日 申請日期2012年8月27日 優(yōu)先權日2012年8月27日
發(fā)明者何軍舫, 王軍勇 申請人:北京博宇半導體工藝器皿技術有限公司