一種承載盤的制作方法
【專利摘要】本申請公開了一種承載盤，包括材料為石墨的盤體及陶瓷熔射膜，陶瓷熔射膜述設(shè)置于該盤體上；由此，能于高溫?zé)Y(jié)過程的原料不易沾附，能夠多次重復(fù)使用，并且容易清潔又方便取下物件。
【專利說明】一種承載盤
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本發(fā)明涉及承載盤，尤其涉及一種用于承載、運送物件的承載盤。
【背景技術(shù)】
[0002]傳統(tǒng)承載盤的材料為陶瓷，雖然具有優(yōu)異的高溫耐熱性、耐蝕性、化學(xué)穩(wěn)定性等優(yōu)點，但由于陶瓷的韌性較差，因此當(dāng)承載盤在運送的過程中，容易因不慎的撞擊，進而損壞、不堪使用。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的是在于提供一種承載盤，能于高溫?zé)Y(jié)過程的原料不易沾附，能夠多次重復(fù)使用，并且容易清潔又方便取下物件。
[0004]根據(jù)本發(fā)明的一個方面，提供一種承載盤，包括材料為石墨的盤體及陶瓷熔射膜，陶瓷熔射膜述設(shè)置于該盤體上。
[0005]在一些實施方式中:盤體具有供該陶瓷熔射膜設(shè)置的粗糙面。
[0006]在一些實施方式中:盤體的粗糙面的粗糙度為I?30 μ m。
[0007]在一些實施方式中:陶瓷熔射膜具有與所述粗糙面相間隔的承載面。
[0008]在一些實施方式中:陶瓷熔射膜的厚度為5?2000 μ m。
[0009]本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡單、使用方便，能于高溫?zé)Y(jié)過程的原料不易沾附，能夠多次重復(fù)使用，并且容易清潔又方便取下物件。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0010]圖1是本發(fā)明一種承載盤的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0011]圖2是本發(fā)明一種承載盤的截面圖。
【具體實施方式】
[0012]下面結(jié)合【專利附圖】

【附圖說明】，對本發(fā)明作進一步詳細(xì)說明。
[0013]如圖1和圖2所示,一種承載盤I,包含盤體11以及設(shè)置于盤體11上的陶瓷熔射膜12。盤體11的材料為石墨，并可為天然石墨或人造石墨。盤體11具有供陶瓷熔射膜12設(shè)置的粗糙面111，該粗糙面111的粗糙度為I?30 μ m。
[0014]需要說明的是，本實施例在該盤體11上形成粗糙面111，以增加盤體11與陶瓷熔射膜12之間的結(jié)合效果。當(dāng)該粗糙面111的粗糙度小于I μ m時，將該陶瓷熔射膜12設(shè)置在盤體11的粗糙面111上時，該粗糙面111與該陶瓷熔射膜12之間的機械咬合力不足，導(dǎo)致兩者之間的結(jié)合力下降，該陶瓷熔射膜12容易剝落，因而失去保護作用與抗沾附效果。
[0015]本實施例的陶瓷熔射膜12設(shè)置于盤體11的粗糙面111上，并具有與該粗糙面111相間隔且供物件9放置的承載面121。該陶瓷熔射膜12的材料選自于由氧化鋁、氧化鈦、氧化鋯、氧化釔、氧化鉻、氧化鎂、氧化硅、氧化鈣及此等的任一組合所組成的群體。此外，該陶瓷熔射膜12的厚度為5?2000 μ m,當(dāng)該陶瓷熔射膜12的厚度小于5 μ m時，因為該陶瓷熔射膜12厚度過薄而容易被磨損、磨耗而不堪使用，進而失去保護作用與抗占附效果。而當(dāng)該陶瓷熔射膜12的厚度大于2000 μ m時，無功效上的助益，只是浪費材料并徒增重量。
[0016]使用時，將物件9放置于該承載盤I的陶瓷熔射膜12的承載面121上，就能透過該承載盤I運送物件9，以對物件9進行加工處理。由于承載盤I的盤體11上設(shè)置有陶瓷熔射膜12，并由陶瓷熔射膜12作為抗沾黏涂層，以增加抗沾黏效果。此外，當(dāng)物件9進行高溫?zé)Y(jié)時，該陶瓷熔射膜12也可提供隔離效果，以避免承載盤I的盤體11與物件9接觸處產(chǎn)生碳擴散反應(yīng)，并避免影響物件9的機械或化學(xué)性質(zhì)。
[0017]綜上所述，本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡單、使用方便，能于高溫?zé)Y(jié)過程的原料不易沾附，能夠多次重復(fù)使用，并且容易清潔又方便取下物件。
[0018]以上所述僅是本發(fā)明的一種實施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明創(chuàng)造構(gòu)思的前提下，還可以做出若干相似的變形和改進，這些也應(yīng)視為本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種承載盤，其特征在于:包括材料為石墨的盤體及陶瓷熔射膜，所述陶瓷熔射膜設(shè)置于該盤體上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種承載盤，其特征在于:所述盤體具有供該陶瓷熔射膜設(shè)置的粗糙面。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種承載盤，其特征在于:所述盤體的粗糙面的粗糙度為1?30 μ m0
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種承載盤，其特征在于:所述陶瓷熔射膜具有與所述粗糙面相間隔的承載面。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種承載盤，其特征在于:所述陶瓷熔射膜的厚度為5?2000 μ m。
【文檔編號】F27D3/12GK103743244SQ201310756335
【公開日】2014年4月23日 申請日期:2013年12月28日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月28日
【發(fā)明者】黃建新 申請人:黃建新