本發(fā)明涉及茶具技術領域,更具體地,涉及一種電磁爐煮水壺定位結構。
背景技術:
現(xiàn)有市面上的電磁爐面板都是一平面微晶板,電磁爐面與煮水壺之間一般不存在定位和固定結構,如果電磁爐沒有水平放置,煮水壺很容易滑開。雖然只要煮水壺在電磁爐所產(chǎn)生的磁場范圍內就可以發(fā)生反應,但是當煮水壺滑離中心位置后,電磁感應面積會相應減少,功率也會相應降低,甚至當煮水壺內的水燒開時,使用者不小心碰到煮水壺,會有撞落燙傷的風險。
現(xiàn)有中國專利公告號為CN204394218U公開的一種電磁爐磁吸式固定壺,包括電磁爐、水壺、加水器,所述加水器具有導引臂,所述電磁爐與水壺通過磁性組件進行磁吸式固定。這種電磁爐煮水壺的煮水壺與電磁爐之間是通過磁性組件進行固定的,實際在生產(chǎn)制造過程中較為不便,且會對電磁爐內的電路板等造成影響,通常通過外部構件進行煮水壺與電磁爐之間的固定較為理想。
技術實現(xiàn)要素:
本發(fā)明為克服上述現(xiàn)有技術所述的至少一種缺陷,提供一種電磁爐煮水壺定位結構,其便于將煮水壺穩(wěn)定地固定在電磁爐爐面上,有效避免了煮水壺滑離電磁爐爐面中心的情況。
為解決上述技術問題,本發(fā)明采用的技術方案是:
提供一種電磁爐煮水壺定位結構,包括電磁爐和放置于電磁爐爐面上的煮水壺,所述電磁爐爐面的中部上設有定位件,所述煮水壺的底面設有與定位件相互配合的凹陷部。
進一步地,所述定位件為弧形凸起,與之相互配合的凹陷部為弧形凹陷。
更進一步地,所述弧形凸起的最頂端距離所述電磁爐爐面的高度為0.5~2.0cm,所述弧形凹陷的凹陷深度至少等于弧形凸起距離電磁爐爐面的高度。
作為一個實施方式,所述定位件設有若干個,若干個所述定位件均勻分布在所述電磁爐爐面上;所述凹陷部設置的個數(shù)至少等于所述定位件的個數(shù),且與所述定位件相互配合。
優(yōu)選地,所述定位件呈一道或多道矩形或環(huán)形分布。
作為一個實施方式,所述定位件為環(huán)狀的弧形凸起,與之相互配合的凹陷部位環(huán)狀的弧形凹陷。
優(yōu)選地,所述定位件設有若干個,若干個所述定位件呈同心圓分布在所述電磁爐爐面上;所述凹陷部設置的個數(shù)至少等于所述定位件的個數(shù),且與所述定位件相互配合。
可選地,所述定位件與所述電磁爐爐面一體成型,凹陷部與所述煮水壺一體成型。
與現(xiàn)有技術相比,本發(fā)明的有益效果是:
本發(fā)明電磁爐煮水壺定位結構,其分別在電磁爐和煮水壺的接觸面上設置相互配合固定的定位件和凹陷部,直接將煮水壺放置在電磁爐爐面即可固定而不易滑動,避免碰翻,方便設置自動加水,也減少了煮水壺滑移造成的電磁爐熱量能量損耗,該定位結構便于將煮水壺穩(wěn)定地固定在電磁爐爐面上,有效避免了煮水壺滑離電磁爐爐面中心的情況。
附圖說明
圖1為實施例一電磁爐煮水壺定位結構的整體結構示意圖。
圖2為實施例一電磁爐煮水壺定位結構的拆分結構示意圖。
圖3為實施例二電磁爐煮水壺定位結構的電磁爐爐面的結構示意圖。
圖4為實施例二電磁爐煮水壺定位結構的煮水壺底面的結構示意圖。
圖5為實施例二電磁爐煮水壺定位結構的電磁爐爐面的又一結構示意圖。
圖6為實施例二電磁爐煮水壺定位結構的煮水壺底面的又一結構示意圖。
圖7為實施例三電磁爐煮水壺定位結構的電磁爐爐面的結構示意圖。
圖8為實施例三電磁爐煮水壺定位結構的煮水壺底面的結構示意圖。
具體實施方式
下面結合具體實施方式對本發(fā)明作進一步的說明。其中,附圖僅用于示例性說明,不能理解為對本專利的限制;為了更好地說明本發(fā)明的實施例,附圖某些部件會有省略、放大或縮小,并不代表實際產(chǎn)品的尺寸;對本領域技術人員來說,附圖中某些公知結構及其說明可能省略是可以理解的。
本發(fā)明實施例的附圖中相同或相似的標號對應相同或相似的部件;在本發(fā)明的描述中,需要理解的是,若有術語“上”、“下”、“左”、“右”、“頂”、“底”、“內”、“外”等指示的方位或位置關系為基于附圖所示的方位或位置關系,僅是為了便于描述本發(fā)明和簡化描述,而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構造和操作,因此附圖中描述位置關系的用語僅用于示例性說明,不能理解為對本專利的限制。
并且,上述部分術語除了可以用于表示方位或位置關系以外,還可能用于表示其他含義,例如術語“上”在某些情況下也可能用于表示某種依附關系或連接關系。此外,若有“第一”、“第二”等術語僅用于描述目的,主要是用于區(qū)分不同的裝置、元件或組成部分(具體的種類和構造可能相同也可能不同),并非用于表明或暗示所指示裝置、元件或組成部分的相對重要性和數(shù)量,而不能理解為指示或者暗示相對重要性。
實施例一
如圖1、圖2所示為本發(fā)明電磁爐煮水壺定位結構的第一實施例。如圖1、圖2所示,該定位結構包括電磁爐1和放置于電磁爐1的爐面上的煮水壺2,電磁爐爐面的中部上設有定位件11,煮水壺2的底面設有與定位件相互配合的凹陷部21。
其中,如圖1所示,定位件為弧形凸起,與之相互配合的凹陷部為弧形凹陷?;⌒谓Y構的設計,便于生產(chǎn)制造,在使用過程中電磁爐1與煮水壺2的相互配合固定也更為流暢自然。
可以理解的是,弧形結構的設計也不是無尺寸限制的,若弧形結構設計得太淺,則無法達到真正的煮水壺2定位效果,仍舊容易滑離電磁爐1爐面;但若弧形結構設計得太深,拿取又不方便,并且甚至會造成難于清潔的情況。在本實施例中,弧形凸起的最頂端距離電磁爐1爐面的高度H為0.5~2.0cm,弧形凹陷的凹陷深度至少等于弧形凸起距離電磁爐1爐面的高度H,但一般將凹陷深度做得恰好能與前述高度相配合。經(jīng)過大量的試驗證明,在實際使用中,一般將弧形凸起的最頂端距離電磁爐1爐面的高度H設計為0.9cm時,使用效果較佳,煮水壺在裝有一定量水的情況下,傾斜至30°不會滑移電磁爐爐面中心。
該電磁爐煮水壺定位結構,其分別在電磁爐1和煮水壺2的接觸面上設置相互配合固定的定位件和凹陷部,直接將煮水壺2放置在電磁爐1爐面即可固定而不易滑動,避免碰翻,方便設置自動加水,也減少了煮水壺2滑移造成的電磁爐1熱量能量損耗,該定位結構便于將煮水壺2穩(wěn)定地固定在電磁爐1爐面上,有效避免了煮水壺2滑離電磁爐1爐面中心的情況。
實施例二
如圖3至圖6所示為本發(fā)明電磁爐煮水壺定位結構的第二實施例,作為對實施例一的改進,如圖3所示,定位件11設有多個,這多個定位件11以電磁爐1爐面中心為中心平均分布在電磁爐1爐面上;相應地,凹陷部21設置的個數(shù)與定位件11的個數(shù)相同,且與定位件11相互配合。當然,凹陷部21的個數(shù)還可以設置更多個,可以根據(jù)實際需要進行確定。
這些定位件的分布形態(tài)可以不是固定唯一的設計。如圖3所示,定位件11可以呈一道環(huán)形分布,或如圖5所示呈一道矩形分布,甚至也可以呈多道矩形或環(huán)形分布,相應地,如圖4、圖6所示,凹陷部與之相對應設計。但實際使用時,可以采取最簡便的生產(chǎn)制造方式,采用實施例一的結構設計。
實施例三
如圖7、圖8所示為本發(fā)明電磁爐煮水壺定位結構的第三實施例,作為對實施例一的改進,與實施例二不同的是,本實施例的定位件11為環(huán)狀的弧形凸起,與之相互配合的凹陷部位21環(huán)狀的弧形凹陷。
同樣地,本實施例的定位件也可以設置多個(圖未示),這多個定位件可以呈同心圓分布在電磁爐爐面上;相應地,凹陷部設置的個數(shù)也至少等于定位件的個數(shù),且與定位件相互配合。
上述實施例中,為了增加生產(chǎn)、制造及使用的便利性,定位件與電磁爐爐面一體成型,凹陷部與煮水壺一體成型。該電磁爐煮水壺定位結構便于將煮水壺穩(wěn)定地固定在電磁爐爐面上,有效避免了煮水壺滑離電磁爐爐面中心的情況。
顯然,本發(fā)明的上述實施例僅僅是為清楚地說明本發(fā)明所作的舉例,而并非是對本發(fā)明的實施方式的限定。對于所屬領域的普通技術人員來說,在上述說明的基礎上還可以做出其它不同形式的變化或變動。這里無需也無法對所有的實施方式予以窮舉。凡在本發(fā)明的精神和原則之內所作的任何修改、等同替換和改進等,均應包含在本發(fā)明權利要求的保護范圍之內。