應(yīng)用于真空系統(tǒng)的吹氣保護(hù)觀察窗的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于真空熔煉設(shè)備領(lǐng)域，具體涉及一種應(yīng)用于真空系統(tǒng)的吹氣保護(hù)觀察窗。
【背景技術(shù)】
[0002]稀土金屬真空熔煉爐是稀土金屬材料熔煉中的重要環(huán)節(jié)。稀土金屬的熔煉必須在真空狀態(tài)下進(jìn)行高溫熔融。溫度范圍分布以800~2400°C區(qū)間為主。在熔煉金屬的過程中，在高溫狀態(tài)下必須實(shí)際觀察和采用紅外熱像設(shè)備探測(cè)內(nèi)部熔池的實(shí)際情況。目前的觀察窗是用石英玻璃直通式的，在高溫狀態(tài)下由于高溫金屬蒸汽的大量蒸發(fā)，觀察窗表面極易被蒸汽污染，隨著熔煉時(shí)間的推移，觀察效果越來越差。所以現(xiàn)在的觀察窗效果不理想，還會(huì)對(duì)紅外熱像設(shè)備的信號(hào)采集造成干擾。為解決上述問題，需要設(shè)計(jì)一種能夠?qū)τ^察窗石英玻璃表面形成保護(hù)的裝置。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明是為了克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺點(diǎn)而提出的，其目的是為了提供一種應(yīng)用于真空系統(tǒng)的吹氣保護(hù)觀察窗。
[0004]本發(fā)明的技術(shù)方案是:
一種應(yīng)用于真空系統(tǒng)的吹氣保護(hù)觀察窗，包括四通主體，所述四通主體的上端固定有帶凹槽法蘭，下端安裝有法蘭，帶凹槽法蘭為環(huán)形結(jié)構(gòu)，在其下端內(nèi)側(cè)形成環(huán)形凹槽，四通主體左側(cè)固定有I號(hào)轉(zhuǎn)接法蘭，右側(cè)固定有II號(hào)轉(zhuǎn)接法蘭；石英玻璃放置于帶凹槽法蘭的沉頭槽內(nèi)，密封膠圈置于石英玻璃與帶凹槽法蘭之間的凹槽內(nèi)；噴嘴包括相互連通的噴嘴部和氣體接口，噴嘴部置于四通主體左側(cè)短管內(nèi)部，且與I號(hào)轉(zhuǎn)接法蘭內(nèi)側(cè)轉(zhuǎn)接口固定連接，氣體接口置于四通主體外部。
[0005]所述石英玻璃通過真空負(fù)壓固定在帶凹槽法蘭內(nèi)。
[0006]本發(fā)明的有益效果是:
本發(fā)明采用低流量的保護(hù)氣體吹掃石英玻璃腔，配合獨(dú)立真空泵組維持局部低真空，降低對(duì)爐體真空熔煉過程的影響，形成對(duì)石英觀察窗長(zhǎng)時(shí)間的吹掃保護(hù)，可有效降低稀土金屬在熔煉過程中由于金屬蒸汽的蒸發(fā)而造成的石英玻璃的污染。
【附圖說明】
[0007]圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖2是本發(fā)明的剖視圖；
圖3是圖2中A部分的放大圖。
[0008]其中:
I四通主體2帶凹槽法蘭
3法蘭4 I號(hào)轉(zhuǎn)接法蘭 5II號(hào)轉(zhuǎn)接法蘭6石英玻璃
7密封膠圈8噴嘴
9噴嘴部10氣體接口
11凹槽。
【具體實(shí)施方式】
[0009]下面結(jié)合說明書附圖及實(shí)施例對(duì)本發(fā)明應(yīng)用于真空系統(tǒng)的吹氣保護(hù)觀察窗進(jìn)行詳細(xì)說明:
如圖1~3所示，一種應(yīng)用于真空系統(tǒng)的吹氣保護(hù)觀察窗，包括四通主體1，所述四通主體I的上端固定有帶凹槽法蘭2，下端安裝有法蘭3，帶凹槽法蘭2為環(huán)形結(jié)構(gòu)，在其下端內(nèi)側(cè)形成環(huán)形凹槽11，四通主體I的左側(cè)固定有I號(hào)轉(zhuǎn)接法蘭4，右側(cè)固定有II號(hào)轉(zhuǎn)接法蘭5 ;石英玻璃6放置于帶凹槽法蘭2的沉頭槽內(nèi)，密封膠圈7置于石英玻璃6與帶凹槽法蘭2之間的凹槽11內(nèi)；噴嘴8包括相互連通的噴嘴部9和氣體接口 10，噴嘴部9置于四通主體I左側(cè)短管內(nèi)部，且與I號(hào)轉(zhuǎn)接法蘭4內(nèi)側(cè)轉(zhuǎn)接口固定連接，氣體接口 10置于四通主體I外部。
[0010]所述石英玻璃6通過真空負(fù)壓固定在帶凹槽法蘭2內(nèi)。
[0011 ] 所述四通主體I的右側(cè)通過II號(hào)轉(zhuǎn)接法蘭5連接真空泵組，下端通過法蘭3連接熔煉爐體。
[0012]所述噴嘴8的氣體接口 10連通保護(hù)壓縮氣體。
[0013]所述噴嘴8的型號(hào)為萊克勒600.283.42.AC。
[0014]所述I號(hào)轉(zhuǎn)接法蘭的型號(hào)為KF16-DN63。
[0015]所述II號(hào)轉(zhuǎn)接法蘭的型號(hào)為KF40-DN63。
[0016]壓縮保護(hù)氣體從噴嘴8的噴嘴部9前端噴出，形成吹氣保護(hù)屏障，同時(shí)在真空泵組的工作下，四通柱體I內(nèi)部保持低真空負(fù)壓，降低吹氣對(duì)爐體整體的真空影響。
[0017]本發(fā)明采用低流量的保護(hù)氣體吹掃石英玻璃腔，配合獨(dú)立真空泵組維持局部低真空，降低對(duì)爐體真空熔煉過程的影響，形成對(duì)石英觀察窗長(zhǎng)時(shí)間的吹掃保護(hù)，可有效降低金屬在熔煉過程中由于金屬蒸汽的蒸發(fā)而造成的石英玻璃的污染。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種應(yīng)用于真空系統(tǒng)的吹氣保護(hù)觀察窗，包括四通主體(1)，其特征在于:所述四通主體(I)的上端固定有帶凹槽法蘭(2)，下端安裝有法蘭(3)，帶凹槽法蘭(2)為環(huán)形結(jié)構(gòu)，在其下端內(nèi)側(cè)形成環(huán)形凹槽(11)，四通主體(I)的左側(cè)固定有I號(hào)轉(zhuǎn)接法蘭(4)，右側(cè)固定有II號(hào)轉(zhuǎn)接法蘭(5);石英玻璃(6)放置于帶凹槽法蘭(2)的沉頭槽內(nèi)，密封膠圈(7)置于石英玻璃(6 )與帶凹槽法蘭(2 )之間的凹槽(11)內(nèi)；噴嘴(8 )包括相互連通的噴嘴部(9 )和氣體接口(10)，噴嘴部(9)置于四通主體(I)左側(cè)短管內(nèi)部，且與I號(hào)轉(zhuǎn)接法蘭(4)內(nèi)側(cè)轉(zhuǎn)接口固定連接，氣體接口( 10 )置于四通主體(I)外部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種應(yīng)用于真空系統(tǒng)的吹氣保護(hù)觀察窗，其特征在于:所述石英玻璃(6)通過真空負(fù)壓固定在帶凹槽法蘭(2)內(nèi)。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種應(yīng)用于真空系統(tǒng)的吹氣保護(hù)觀察窗，包括四通主體，四通主體的上端固定帶凹槽法蘭，下端安裝法蘭，左端固定Ⅰ號(hào)轉(zhuǎn)接法蘭，右端固定Ⅱ號(hào)轉(zhuǎn)接法蘭；石英玻璃放置于帶凹槽法蘭的沉頭槽內(nèi)，密封膠圈置于石英玻璃與帶凹槽法蘭之間；噴嘴的噴嘴部置于四通主體內(nèi)部，且與Ⅰ號(hào)轉(zhuǎn)接法蘭內(nèi)側(cè)轉(zhuǎn)接口固定連接，氣體接口置于四通主體外部。本發(fā)明采用低流量的保護(hù)氣體吹掃石英玻璃腔，配合獨(dú)立真空泵組維持局部低真空，降低對(duì)爐體真空熔煉過程的影響，形成對(duì)石英觀察窗長(zhǎng)時(shí)間的吹掃保護(hù)，可有效降低稀土金屬在熔煉過程中由于金屬蒸汽蒸發(fā)而造成的石英玻璃的污染。
【IPC分類】F27D21-02
【公開號(hào)】CN104729311
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510166164
【發(fā)明人】張赫, 羅立平
【申請(qǐng)人】核工業(yè)理化工程研究院
【公開日】2015年6月24日
【申請(qǐng)日】2015年4月10日