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      化霜機(jī)構(gòu)及制冷設(shè)備的制作方法

      文檔序號(hào):39978007發(fā)布日期:2024-11-15 14:26閱讀:25來(lái)源:國(guó)知局
      化霜機(jī)構(gòu)及制冷設(shè)備的制作方法

      本技術(shù)涉及制冷設(shè)備,特別涉及一種化霜機(jī)構(gòu)及制冷設(shè)備。


      背景技術(shù):

      1、制冷設(shè)備是用于提供溫度調(diào)節(jié)的設(shè)備,比如冰箱、冷柜等等,能夠保持穩(wěn)定低溫的環(huán)境,用于保持食材或者其他物品的低溫狀態(tài)。其中,風(fēng)冷式冰箱主要采用電加熱器對(duì)蒸發(fā)器進(jìn)行化霜,存在傳熱效率差、時(shí)間長(zhǎng)、能耗大等問(wèn)題,化霜過(guò)程產(chǎn)生的熱蒸汽進(jìn)入冰箱的間室,會(huì)導(dǎo)致間室的溫度快速升高,間室的溫度波動(dòng)大,嚴(yán)重影響保存食材的品質(zhì)。


      技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

      1、本實(shí)用新型旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問(wèn)題之一。為此,本實(shí)用新型提出一種化霜機(jī)構(gòu),利用等離子體傳導(dǎo)熱量,以對(duì)蒸發(fā)器進(jìn)行化霜,有效減少化霜時(shí)長(zhǎng),減少熱蒸汽溢出。

      2、本實(shí)用新型同時(shí)提出應(yīng)用上述化霜機(jī)構(gòu)的制冷設(shè)備。

      3、根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例的化霜機(jī)構(gòu),包括制冷系統(tǒng)和熱源模塊,所述制冷系統(tǒng)具有蒸發(fā)器;所述熱源模塊包括等離子體發(fā)生器和加熱器,所述等離子體發(fā)生器布置在所述蒸發(fā)器的一側(cè),所述等離子體發(fā)生器能夠向所述蒸發(fā)器輸出等離子體,所述加熱器布置在所述等離子體的流動(dòng)路徑中,以加熱所述等離子體。

      4、根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例的冰箱,至少具有如下有益效果:

      5、在制冷系統(tǒng)的蒸發(fā)器需要化霜時(shí),熱源模塊的等離子體發(fā)生器輸出等離子體,等離子體通過(guò)加熱器提高溫度,然后高溫的等離子體接觸蒸發(fā)器,使得蒸發(fā)器升溫以實(shí)現(xiàn)化霜,由于利用等離子體傳導(dǎo)熱量,換熱效率高,而且熱量分布均勻,有利于降低化霜溫度、縮短化霜時(shí)間,減少熱蒸汽溢出,降低化霜過(guò)程中制冷設(shè)備內(nèi)部的溫度波動(dòng)。

      6、根據(jù)本實(shí)用新型第一方面的一些實(shí)施例,所述加熱器連接于所述等離子體發(fā)生器,所述等離子體發(fā)生器設(shè)置有出口以輸出所述等離子體,所述加熱器布置在所述出口中。

      7、根據(jù)本實(shí)用新型第一方面的一些實(shí)施例,所述等離子體發(fā)生器與所述蒸發(fā)器之間形成有輸送通道,所述加熱器布置在所述輸送通道中。

      8、根據(jù)本實(shí)用新型第一方面的一些實(shí)施例,所述加熱器為多組電熱管,沿所述等離子體的流動(dòng)方向,多組所述電熱管為間隔分布。

      9、根據(jù)本實(shí)用新型第二方面實(shí)施例的制冷設(shè)備,包括第一方面實(shí)施例所述的化霜機(jī)構(gòu)。

      10、根據(jù)本實(shí)用新型第二方面的一些實(shí)施例,制冷設(shè)備包括箱體,所述箱體的內(nèi)部形成有間室,所述箱體設(shè)置有風(fēng)道組件,所述風(fēng)道組件的出風(fēng)口連通所述間室,所述蒸發(fā)器和所述熱源模塊布置在所述風(fēng)道組件的風(fēng)道中。

      11、根據(jù)本實(shí)用新型第二方面的一些實(shí)施例,所述風(fēng)道組件連接有風(fēng)門(mén)以開(kāi)啟或者關(guān)閉所述出風(fēng)口,所述制冷設(shè)備具有控制器,所述風(fēng)門(mén)及所述熱源模塊電性連接于所述控制器。

      12、根據(jù)本實(shí)用新型第二方面的一些實(shí)施例,所述等離子體發(fā)生器布置在所述蒸發(fā)器的一側(cè),并且所述等離子體發(fā)生器和所述出風(fēng)口位于所述蒸發(fā)器的相對(duì)兩側(cè)。

      13、根據(jù)本實(shí)用新型第二方面的一些實(shí)施例,所述等離子體發(fā)生器布置在所述蒸發(fā)器的一側(cè),所述等離子體發(fā)生器和所述出風(fēng)口位于所述風(fēng)道的同一側(cè),所述等離子體發(fā)生器和所述出風(fēng)口分布在所述風(fēng)道的兩端。

      14、根據(jù)本實(shí)用新型第二方面的一些實(shí)施例,所述熱源模塊包括兩個(gè)所述等離子體發(fā)生器,兩個(gè)所述等離子體發(fā)生器分布在所述蒸發(fā)器的相對(duì)兩側(cè)。

      15、本實(shí)用新型的附加方面和優(yōu)點(diǎn)將在下面的描述中部分給出,部分將從下面的描述中變得明顯,或通過(guò)本實(shí)用新型的實(shí)踐了解到。



      技術(shù)特征:

      1.化霜機(jī)構(gòu),其特征在于,包括:

      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化霜機(jī)構(gòu),其特征在于,所述加熱器連接于所述等離子體發(fā)生器,所述等離子體發(fā)生器設(shè)置有出口以輸出所述等離子體,所述加熱器布置在所述出口中。

      3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化霜機(jī)構(gòu),其特征在于,所述等離子體發(fā)生器與所述蒸發(fā)器之間形成有輸送通道,所述加熱器布置在所述輸送通道中。

      4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的化霜機(jī)構(gòu),其特征在于,所述加熱器為多組電熱管,沿所述等離子體的流動(dòng)方向,多組所述電熱管為間隔分布。

      5.制冷設(shè)備,其特征在于,包括如權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的化霜機(jī)構(gòu)。

      6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制冷設(shè)備,其特征在于,包括箱體,所述箱體的內(nèi)部形成有間室,所述箱體設(shè)置有風(fēng)道組件,所述風(fēng)道組件的出風(fēng)口連通所述間室,所述蒸發(fā)器和所述熱源模塊布置在所述風(fēng)道組件的風(fēng)道中。

      7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的制冷設(shè)備,其特征在于,所述風(fēng)道組件連接有風(fēng)門(mén)以開(kāi)啟或者關(guān)閉所述出風(fēng)口,所述制冷設(shè)備具有控制器,所述風(fēng)門(mén)及所述熱源模塊電性連接于所述控制器。

      8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的制冷設(shè)備,其特征在于,所述等離子體發(fā)生器布置在所述蒸發(fā)器的一側(cè),并且所述等離子體發(fā)生器和所述出風(fēng)口位于所述蒸發(fā)器的相對(duì)兩側(cè)。

      9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的制冷設(shè)備,其特征在于,所述等離子體發(fā)生器布置在所述蒸發(fā)器的一側(cè),所述等離子體發(fā)生器和所述出風(fēng)口位于所述風(fēng)道的同一側(cè),所述等離子體發(fā)生器和所述出風(fēng)口分布在所述風(fēng)道的兩端。

      10.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制冷設(shè)備,其特征在于,所述熱源模塊包括兩個(gè)所述等離子體發(fā)生器,兩個(gè)所述等離子體發(fā)生器分布在所述蒸發(fā)器的相對(duì)兩側(cè)。


      技術(shù)總結(jié)
      本技術(shù)涉及制冷設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,公開(kāi)了一種化霜機(jī)構(gòu)及制冷設(shè)備,其中化霜機(jī)構(gòu),包括制冷系統(tǒng)和熱源模塊,制冷系統(tǒng)具有蒸發(fā)器;熱源模塊包括等離子體發(fā)生器和加熱器,等離子體發(fā)生器布置在蒸發(fā)器的一側(cè),等離子體發(fā)生器能夠向蒸發(fā)器輸出等離子體,加熱器布置在等離子體的流動(dòng)路徑中,以加熱等離子體。在制冷系統(tǒng)的蒸發(fā)器需要化霜時(shí),熱源模塊的等離子體發(fā)生器輸出等離子體,等離子體通過(guò)加熱器提高溫度,然后高溫的等離子體接觸蒸發(fā)器,使得蒸發(fā)器升溫以實(shí)現(xiàn)化霜,由于利用等離子體傳導(dǎo)熱量,換熱效率高,而且熱量分布均勻,有利于降低化霜溫度、縮短化霜時(shí)間,減少熱蒸汽溢出,降低化霜過(guò)程中制冷設(shè)備內(nèi)部的溫度波動(dòng)。

      技術(shù)研發(fā)人員:余圣輝
      受保護(hù)的技術(shù)使用者:合肥華凌股份有限公司
      技術(shù)研發(fā)日:20231219
      技術(shù)公布日:2024/11/14
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