本發(fā)明涉及超聲波清洗技術領域，具體為一種水槽內(nèi)活動支架結構。

背景技術：

超聲波振盒是超聲波清洗機中最重要的部分，其發(fā)出的超聲波在液體中的空化作用、加速度作用及直進流作用對液體和污物直接、間接的作用，使污物層被分散、乳化、剝離而達到清洗目的，由于超聲波清洗應用越來越廣泛，很多清洗工作都采用了超聲波清洗，為了保護超聲波振盒在使用中受到影響，保護超聲波振頭，一般都會在超聲波振盒上端設置支架，將需要清洗的物品放置于支架上，清洗完畢再從支架中取走，由于每次取放物品時都會與水槽內(nèi)的水接觸，取拿不方便而且會影響水的潔凈度而影響清洗效果。

技術實現(xiàn)要素：

為了解決上述問題，本發(fā)明提供了一種水槽內(nèi)活動支架結構，其能夠?qū)崿F(xiàn)支架的移動，方便地取放物品，不影響清洗效果。

其技術方案是這樣的：一種水槽內(nèi)活動支架結構，其包括水槽，所述水槽內(nèi)安裝有振盒，其特征在于，在所述振盒左側，所述水槽內(nèi)安裝有支撐座，所述支撐座上端設置有斜坡，所述斜坡底部設置有左側支撐塊；在所述振盒右側，所述水槽內(nèi)壁上安裝有與所述左側支撐塊配合的右側支撐塊，所述左側支撐塊與所述右側支撐塊上端設置有支架，所述支架左側外部為與所述斜坡配合的斜面，所述斜面上安裝有滾輪，所述滾輪與所述斜坡接觸，所述支架右側頂部安裝有鉸接座，所述鉸接座鉸接倒V形桿左端，所述倒V形桿頂端通過轉(zhuǎn)軸連接安裝于所述水槽的軸承座，所述倒V形桿右端外露于所述水槽。

其進一步特征在于，所述水槽右側外部安裝有定位座，所述定位座上設置有橫向活動的插桿，所述倒V形桿右端設置有與所述插桿配合的插孔；

所述定位座外側開有凹槽，所述凹槽內(nèi)壁兩側側開有通孔，所述通孔內(nèi)設置有所述插桿。

采用本發(fā)明的結構后，當需要取放物品時，壓下倒V形桿右端，倒V形桿左端向上抬起，由于鉸接座的設置，推動支架沿斜坡向上抬起，滾輪較少了摩擦力，方便于支架的抬起，取放完畢后，倒V形桿右端向上抬起即可使支架復位支撐于左側支撐塊和右側支撐塊上，取放物品不會與水槽的水接觸，不影響清洗效果；定位座的設置，當?shù)筕形桿右端向下壓至定位座的凹槽內(nèi)時，將插桿插入插孔內(nèi)實現(xiàn)倒V形桿的固定，無需人工施力于倒V形桿即可進行操作。

附圖說明

圖1為本發(fā)明結構示意圖；

圖2為定位座結構側視圖。

具體實施方式

見圖1所示，一種水槽內(nèi)活動支架結構，其包括水槽1，水槽1內(nèi)安裝有振盒2；在振盒2左側，水槽1內(nèi)安裝有支撐座3，支撐座3上端設置有斜坡4，斜坡4底部設置有左側支撐塊5；在振盒2右側，水槽1內(nèi)壁上安裝有與左側支撐塊5配合的右側支撐塊6，左側支撐塊5與右側支撐塊6上端設置有支架7，支架7左側外部為與斜坡配合的斜面，斜面上安裝有滾輪8，滾輪8與斜坡4接觸，支架7右側頂部安裝有鉸接座16，鉸接座16鉸接倒V形桿9左端，倒V形桿9頂端通過轉(zhuǎn)軸10連接安裝于水槽1的軸承座11，倒V形桿9右端外露于水槽1；水槽1右側外部安裝有定位座12，定位座12上設置有橫向活動的插桿13，倒V形桿9右端設置有與插桿13配合的插孔14；見圖2所示，定位座12外側開有凹槽15，凹槽15內(nèi)壁兩側側開有通孔，通孔內(nèi)設置有插桿13。