一種用于pcb含氨氮廢水零排放處理的裝置的制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種用于PCB含氨氮廢水零排放處理的裝置，其特征在于，包括水洗槽（1）、pH調(diào)整槽（2）、粗濾槽（3）、超濾槽I（4）、電解槽（5）、超濾槽II（6）、集氣罐（7）。本實(shí)用新型通過調(diào)整極板的距離改變電解產(chǎn)物在電極板間的局部濃度，使陽(yáng)極產(chǎn)生的氯氣因局部過濃以氣態(tài)逸出來實(shí)現(xiàn)對(duì)氨氮和Cl-的同步去除，最終使處理后出水符合蝕刻水洗水技術(shù)要求，滿足工業(yè)回用水而實(shí)現(xiàn)零排放。
【專利說明】
-種用于PCB含氨氮廢水零排放處理的裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001] 本實(shí)用新型設(shè)及PCB廢水處理的技術(shù)領(lǐng)域，尤其是一種用于PCB含氨氮廢水零排放 處理的裝置。
【背景技術(shù)】
[0002] 隨著電子工業(yè)的高速發(fā)展，印制線路板的需求量越來越大，PCB的生產(chǎn)已成為電子 行業(yè)的重要基礎(chǔ)產(chǎn)業(yè)，而PCB工業(yè)廢水污染也隨著環(huán)保要求的提高越來越突出，其中含氨氮 廢水的處理已成為時(shí)下業(yè)界關(guān)注的熱點(diǎn)。線路板含氨氮廢水主要來源于蝕刻工序水洗水， 該廢水主要含氨氮、二價(jià)銅離子和氯離子。
[0003] 零排放是工業(yè)生產(chǎn)最理想的結(jié)果，也是污水處理行業(yè)為之奮斗的終極目標(biāo)。線路 板蝕刻后水洗的目的是清洗掉板面殘留的蝕刻液，通常蝕刻后面設(shè)一級(jí)水洗和二級(jí)水洗。 其中一級(jí)水洗水均來源于二級(jí)水洗的溢流水，而一級(jí)水洗水即是需要處理的水，經(jīng)處理后 的水再回用至二級(jí)水洗。通常一級(jí)水洗水的主要污染物及濃度見表1:
[0004] 表1 一級(jí)水洗水的主要污染物及濃度
[0006] 將上述一級(jí)水洗水處理后再回用于生產(chǎn)線二級(jí)水洗工序，按照滿足清洗板面蝕刻 液工業(yè)用水的最低要求，其水質(zhì)需要達(dá)到表2的要求。
[0007] 表2二級(jí)水洗水的主要污染物及濃度
[0009]現(xiàn)有國(guó)內(nèi)外對(duì)含氨氮廢水的處理方法主要有折點(diǎn)加氯法；電化學(xué)直接、間接氧化 法如中國(guó)專利CN104787937A，公開了一種S維電極電解處理高濃度氨氮廢水的方法，該方 法引入粒子填料感應(yīng)電極，大幅提高反應(yīng)器電極的比表面積，在一個(gè)反應(yīng)器內(nèi)同時(shí)進(jìn)行電 解產(chǎn)生? OHW及Fenton試劑法產(chǎn)生? OH的兩種反應(yīng)，強(qiáng)氧化劑的供給可氧化高濃度氨氮， 使廢水達(dá)到良好的處理效果;膜組件蒸饋分離法，如中國(guó)專利CN204474484U，公開了一種氨 氮廢水的處理系統(tǒng)，使廢水通過加熱裝置形成N曲氣體，再利用膜蒸饋組件將N曲吸收，達(dá)到 與廢水分離的目的，解決了其它蒸饋技術(shù)占地面積大的問題，達(dá)到耗能低、無需建設(shè)水池和 無二次污染的效果和生物脫氨法等，但從立足于零排放的目的分析，W上現(xiàn)有技術(shù)方法因 為未能將水中的氯離子去除，均無法滿足將氨氮、氯、銅同時(shí)去除且不引入新污染物的零排 放要求。
[0010]折點(diǎn)加氯法:是在適當(dāng)?shù)囊址秶驈U水通入氯系氧化劑，將氨氮氧化為氯胺，進(jìn)而 氯胺分解為化達(dá)到將氨氮去除，但該方法無法精確控制，實(shí)際操作均按過量處理，因此處理 后的水含有大量Cr，而且處理過程存在副產(chǎn)物二次污染，不適合零排放指標(biāo)。
[0011] 電化學(xué)直接或間接氧化法：是在含有大量氨氮的廢水中添加或利用污水自有的 cr，通過電解將氨在陽(yáng)極直接氧化為化而去除氨氮，同時(shí)利用陽(yáng)極將cr氧化為C12,再利用 活性ci2與畑3反應(yīng)生成化和HCi的副反應(yīng)間接氧化去除氨氮，間接的氧化反應(yīng)后cr依然留 在處理后的水中，不符合零排放指標(biāo)。
[0012] 膜組件蒸饋分離法:是利用高溫情況下氨氮廢水溢出N曲氣體，再通過功能性膜組 件將N出吸收W去除氨氮。該方法最終cr還是沒有從廢水中去除，故也不適合零排放指標(biāo)。
[0013] 生物脫氨法:利用微生物降解脫氮，處理效率相對(duì)低，而且占地大，同時(shí)生物法也 無法去除廢水中的Cr，不適合零排放指標(biāo)。
[0014] 綜合分析W上現(xiàn)有技術(shù)原理，若W零排放和在線處理后直接回用為目標(biāo)，現(xiàn)有技 術(shù)均不能達(dá)到同時(shí)將氨氮和Cr去除，因而都無法滿足實(shí)現(xiàn)零排放和回用的要求。
[001引蝕刻水洗水需處理的主要污染物為氨氮、Cu2+和cr，基于回用的目的，其中Cu 2+處 理工藝采用成熟的中和加沉淀法或超濾過濾法去除，本實(shí)用新型的重點(diǎn)內(nèi)容是將氨氮和 cr的同時(shí)去除。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0016] 針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的問題，本實(shí)用新型的目的是提供了一種用于含氨氮廢水零排 放處理的裝置，該裝置適應(yīng)于PCB(印刷線路板)行業(yè)蝕刻段含氨氮廢水的處理，利用循環(huán)再 生技術(shù)對(duì)蝕刻水洗廢水進(jìn)行在線處理，實(shí)現(xiàn)處理后污染物零排放，處理后出水100%直接回 用于蝕刻后水洗水的設(shè)備系統(tǒng)。
[0017] 為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用W下技術(shù)方案：
[0018] 一種PCB含氨氮廢水零排放處理方法，包括W下步驟：
[0019] (1)調(diào)抑值:攬拌待處理的蝕刻水洗廢水，調(diào)整抑值至8~11，W促使氨能W氨水合 物畑3 ?出0的形式存在，通常蝕刻后水洗廢水的pH值已經(jīng)在8~11之間不需要調(diào)整；
[0020] (2)粗濾:根據(jù)實(shí)際需要可W進(jìn)行粗濾，將經(jīng)過步驟（1)調(diào)整好抑值的廢水通過濾 袋進(jìn)行初步過濾，W除去廢水中大部分銅離子，得到粗濾液；
[0021] (3)超濾:粗濾液經(jīng)過超濾處理，除去廢水中銅離子，得到濾液I;所述的超濾為本 領(lǐng)域技術(shù)人員所熟知的膜分離方法；
[0022] (4)電解:利用電極板間距D ^CM的電極，電流密度為1-3ADS的電解系統(tǒng)電解濾液 I;電解系統(tǒng)在連續(xù)運(yùn)行情況下，利用電解熱效應(yīng)即能將廢水溫度維持在40°C~60°C的范圍 內(nèi)，電解過程將發(fā)生A
[002引 a. OH- + M 畑，.化0 (在弱堿性環(huán)境下少部分水合物畑3 ?也0W氣態(tài)逸出）
[0024] b.N曲?此0-e一化T+細(xì)++此〇(在弱堿性環(huán)境下大部分N曲?此0在帶催化的陽(yáng)極表 面直接氧化為氮?dú)庖莩觯?br>[0025] C.cr-e 一 CM(在4〇°c~60°C溫度條件下，利用極密集的極板間距離使Cr在陽(yáng)極 板放電產(chǎn)生的氯氣因局部過濃W氣態(tài)逸出）
[0026] d.Cu2++e 一 Cu(廢水中少量的Cu2+在陰極上WCu單質(zhì)析出）
[0027] 利用堿性蝕刻液吸收電解產(chǎn)生的N出和C12,做為蝕刻液的有益成份回到蝕刻系統(tǒng) 中循環(huán)利用；
[00%] (5)超濾:電解后的濾液再經(jīng)過超濾處理，得到澄清濾液II，回用。
[0029] 優(yōu)選的，步驟(2)的粗濾過程中，可W視實(shí)際需要向廢水中加入絮凝劑。
[0030] 進(jìn)一步優(yōu)選的，所述的絮凝劑為PAC、PAM或PFC，加入量為1-lOOmg/L。
[0031] PCB蝕刻廢水通過上述完整技術(shù)方案的循環(huán)處理，完全可W滿足回用水要求，且連 續(xù)運(yùn)行的體系不會(huì)出現(xiàn)離子積累，可W實(shí)現(xiàn)零排放的目標(biāo)。
[0032] 一種用于上述PCB含氨氮廢水零排放處理的裝置，包括蝕刻水洗缸1、抑調(diào)整槽2、 粗濾槽3、超濾槽14、電解槽5、超濾槽II6、集氣罐7。
[0033] 優(yōu)選的，所述的蝕刻水洗缸1通過水累IlO與抑調(diào)整槽2連接，所述的P的周整槽2內(nèi) 設(shè)置有攬拌裝置2.巧日抑計(jì)2.2，抑調(diào)整槽2與粗濾槽3通過槽體上部的溢流口 8連接，所述的 粗濾槽3內(nèi)設(shè)置有濾袋3.1，濾袋3.1通過水累nil與超濾槽I 4連接，所述的超濾槽I 4內(nèi)設(shè) 置有超濾系統(tǒng)14.1，超濾系統(tǒng)14.1通過水累虹12與電解槽5連接，所述的電解槽5通過水累 IV13與超濾槽II 6連接，電解槽5上部通過集氣管9與集氣罐7連接，集氣罐7中裝有堿性蝕 刻液，可W吸收電解產(chǎn)生的氣體，所述的超濾槽II 6內(nèi)設(shè)置有超濾系統(tǒng)116.1，超濾系統(tǒng)n 6.1通過水累V 14與蝕刻水洗缸1連接，其中蝕刻水洗缸1中分為一級(jí)水洗1.1和二級(jí)水洗 1.2, 其中一級(jí)水洗1.1的水均來源于二級(jí)水洗的溢流水，而一級(jí)水洗水即是本發(fā)明技術(shù)需 要處理的水，經(jīng)本發(fā)明處理后的水再回用至二級(jí)水洗。
[0034] 優(yōu)選的，所述的攬拌裝置2.1為空氣攬拌裝置或機(jī)械攬拌裝置，攬拌速度為5-60 轉(zhuǎn)/分鐘。
[0035] 優(yōu)選的，所述的電解槽5內(nèi)設(shè)置有電極，電極通過導(dǎo)線與電源連接，電極板間距離D <3CM。
[0036] 進(jìn)一步優(yōu)選的，所述的電極包括一個(gè)陽(yáng)極板5.1和一個(gè)陰極板5.2。
[0037] 進(jìn)一步優(yōu)選的，當(dāng)0.1 CM卽。CM,所述的電極包括一個(gè)陽(yáng)極板5.1、一個(gè)陰極板 5.2、 陽(yáng)極板5.1與陰極板5.2之間設(shè)有一個(gè)或多個(gè)從電極板5.3。
[0038] 其中，陽(yáng)極板5.1為鐵涂銀釘合金或鐵鍛銷金催化劑不烙陽(yáng)極，陰極板5.2為鐵板， 從電極板5.3的所有陽(yáng)極側(cè)5.32為鐵基涂銀釘合金或鐵鍛銷金催化劑不烙電極，所有陰極 側(cè)5.31為鐵板。
[0039] 進(jìn)一步優(yōu)選的，當(dāng)D<0.1CM，所述的電極包括一個(gè)陽(yáng)極板5.1和一個(gè)陰極板5.2、W 及兩極板間設(shè)有一層透水性超濾膜或?yàn)V布5.4,其中，陽(yáng)極板與陰極板間的距離等于超濾膜 或?yàn)V布的厚度，其作用是防止陰陽(yáng)極板相互接觸造成短路，同時(shí)可W保證陽(yáng)極產(chǎn)生的氯氣 和氮?dú)饽茼樌莩?。其中?yáng)極板5.1為網(wǎng)狀或多孔鐵涂銀釘合金或鐵鍛銷金催化劑不烙陽(yáng) 極，陰極板5.2為網(wǎng)狀或多孔結(jié)構(gòu)鐵板。
[0040] 本實(shí)用新型的核屯、內(nèi)容
[0041] (1)錠根離子的轉(zhuǎn)化：
[0042] PCB廢水中氨氮通常W游離N曲和NH+的形式存在，本發(fā)明通過將廢水調(diào)至弱堿性， 利用在中溫(40°C~60°C)環(huán)境下NH+轉(zhuǎn)化為水合物畑3 ?出O并部分W氣態(tài)逸出：
[0043]
[0044] 另外在弱堿性環(huán)境下大部分的N出?出0在帶催化陽(yáng)極表面直接氧化為化氣逸出。
[0045] (2)電極板設(shè)計(jì)
[0046] 陽(yáng)極:基于零排放及回用的目的，電解過程不能帶入新的污染物，同時(shí)考慮材料腐 蝕影響，選擇鐵涂銀釘合金或鐵鍛銷金催化劑不溶陽(yáng)極；
[0047] 陰極:選用成本較低綜合性能較優(yōu)的鐵板；
[004引極板間距離：為達(dá)到將Cr轉(zhuǎn)化為氣體逸出，需要更為密集的極板排布，經(jīng)過不斷 的探索確定極板間距離必須保證含3CM，利用密集的極板距離使Cr在陽(yáng)極表面放電，造成 Cb局部過濃最終W氣態(tài)逸出而不是溶入水中。
[0049] cr-e 一 ClsT
[0050] (3)極板連接方式。
[0051] 為保證核屯、內(nèi)容的實(shí)現(xiàn)，極板間距滿足D <3CM的情況下有多種連接方式，詳細(xì)見 附圖。
[0052] (4)本發(fā)明電解處理系統(tǒng)最終產(chǎn)物為化單質(zhì)和S種氣體（占大部分的化和Cl2、及少 量的N出-出0)，其中N出?出0和Cl2通過收集后通入堿性蝕刻液做為蝕刻液的有益成份回到 蝕刻系統(tǒng)中循環(huán)利用，W補(bǔ)充蝕刻過程中消耗的氨和氯離子，實(shí)現(xiàn)充分利用，處理出水直接 回用于蝕刻段水洗，最終實(shí)現(xiàn)零排放的目的。
[0053] 本實(shí)用新型的有益效果：
[0054] ①由于使用極密集電極間距離，使電解產(chǎn)物活性氯W氣態(tài)逸出，有效去除廢水中 的氯離子；
[0055] ②實(shí)現(xiàn)同時(shí)去除廢水中的氨氮和氯離子，出水直接滿足工業(yè)回用水要求，真正實(shí) 現(xiàn)零排放；
[0056] ③電解產(chǎn)物循環(huán)使用，成為堿性蝕刻液的有益成份而得到綜合利用；
[0057] ④沒有反應(yīng)副產(chǎn)物造成的二次污染，環(huán)保效應(yīng)顯著；
[005引⑤電解過程無需使用電極填料，設(shè)施簡(jiǎn)化，節(jié)省成本；
[0059] ⑥利用電解過程熱效應(yīng)維持污水處理所需溫度，不用另設(shè)加熱系統(tǒng)，進(jìn)一步實(shí)現(xiàn) 節(jié)能降耗。
【附圖說明】
[0060] 圖1為本實(shí)用新型用于PCB含氨氮廢水零排放處理的裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0061 ]圖2為電極的結(jié)構(gòu)示意圖，0.1 CM ^ ^CM，從電極板數(shù)=0;
[0062] 圖3為電極的結(jié)構(gòu)示意圖，0.1 CM卽。CM,從電極板數(shù)=n;
[0063] 圖4為電極的結(jié)構(gòu)示意圖，0.1 CM < D < 3CM，從電極板數(shù)=1;
[0064] 圖5為電極的結(jié)構(gòu)示意圖，0.1 CM卽。CM,從電極板數(shù)=8;
[0065] 圖6為電極的結(jié)構(gòu)示意圖，D<0.1CM;
[0066] 電極結(jié)構(gòu)的從電極個(gè)數(shù)需根據(jù)污水處理量的不同而設(shè)計(jì);其中，圖5為實(shí)施例2、3、 4、5、7、8、9、10、12、13、14、15和比較例中電極結(jié)構(gòu)示意圖，圖6為實(shí)施例1、6、11中電極的結(jié) 構(gòu)示意圖；
[0067] 1、，蝕刻水洗缸；1.1、一級(jí)水洗；1.2、二級(jí)水洗;2、pH調(diào)整槽;2.1、攬拌裝置;2.2、 pH計(jì);3、粗濾槽;3.1、濾袋;4、超濾槽I;4.1;超濾系統(tǒng)I; 5、電解槽;5.1、陽(yáng)電極;5.2、陰電 極;5.3、從電極;5.31、陰極側(cè);5.32、陽(yáng)極側(cè);5.4、超濾膜;6、超濾槽II ;6.1、超濾系統(tǒng)n ;7、 集氣罐;8、溢流口；9、集氣管；10、水累I; 11、水累n ; 12、水累虹；13、水累IV; 14、水累V ;D、 電極板間距離。
【具體實(shí)施方式】
[0068] 將蝕刻廢水（即一級(jí)水洗水）的pH調(diào)至10~11，利用濾袋和超濾系統(tǒng)過濾掉Cu (0H)2后將水導(dǎo)入電解系統(tǒng)，分別采用不同電流密度、不同電極板間距離對(duì)相同污水進(jìn)行電 解處理，電解出水再經(jīng)過一次超濾后直接回用至蝕刻段二級(jí)水洗，其中二級(jí)水洗溢流至一 級(jí)水洗，利用堿性蝕刻液吸收電解產(chǎn)生的氣體。按此保持系統(tǒng)連續(xù)循環(huán)處理一周，實(shí)施過程 分別檢測(cè)跟蹤第1天和第7天的二級(jí)水洗水中各污染物的濃度。具體實(shí)施條件及實(shí)施效果詳 細(xì)見表3。
[0069] 表3實(shí)施例1-12和對(duì)比例1-3的實(shí)施條件和效果


[0074]
[00巧]通過上述實(shí)施例驗(yàn)證證明：
[0076] a.按本實(shí)用新型技術(shù)方案對(duì)蝕刻水洗水進(jìn)行電解處理，當(dāng)電流密度相同，電極間 距離越小處理效果越好;而當(dāng)電極間距離改變時(shí)（指D含3CM范圍內(nèi)），電流密度越大處理效 果越好，但隨著陰陽(yáng)極板間的距離逐漸擴(kuò)大至3CM，廢水中Cr處理效果明顯下降，7天后水 中氯離子污染物開始累計(jì)增加，證明3CM是陰陽(yáng)極板間距離的上限值，也是本實(shí)用新型技術(shù) 是否成功實(shí)施的轉(zhuǎn)折點(diǎn)。
[0077] b.實(shí)用新型技術(shù)方案對(duì)蝕刻水洗水進(jìn)行電解處理，在連續(xù)運(yùn)行并循環(huán)回用的情況 下，處理出水水質(zhì)完全符合回用水要求，而且通過實(shí)際跟蹤監(jiān)測(cè)，系統(tǒng)連續(xù)運(yùn)行不會(huì)造成污 染物積累或影響使用的現(xiàn)象；
[0078] C.本實(shí)用新型技術(shù)方法對(duì)蝕刻水洗水進(jìn)行電解處理后回用完全能實(shí)現(xiàn)零排放。
[0079] d.當(dāng)陰陽(yáng)極板間距離〉3CM時(shí)，處理后水中Cr濃度均〉20000mg/L，不能直接達(dá)到回 用水洗水的要求，而且隨著電解時(shí)間的延長(zhǎng)，水中污染物離子會(huì)出現(xiàn)逐步積累的趨勢(shì)。
[0080] 本實(shí)用新型通過調(diào)整電解電極間距離，利用極密集的陰陽(yáng)極板間距離改變電解產(chǎn) 物在電極板間的局部濃度，使Cr在陽(yáng)極板放電產(chǎn)生的氯氣因局部過濃W氣態(tài)逸出而不是 溶入水中，達(dá)到將廢水中的氨氮和cr同步去除，處理后出水可W直接回用于生產(chǎn)，實(shí)現(xiàn)零 排放的有益效果。同時(shí)相對(duì)于現(xiàn)有處理技術(shù)，采用本發(fā)明方法可W節(jié)省生產(chǎn)水洗用水，減少 設(shè)施占地，操作簡(jiǎn)單、不會(huì)造成二次污染;又由于處理后氨和氯氣采用堿性蝕刻液回收，所 有電解產(chǎn)物均得到循環(huán)利用的好處是顯而易見的。另外，本發(fā)明利用系統(tǒng)循環(huán)運(yùn)行的電解 熱效應(yīng)可W維持廢水在4(TC~6(TC的合適范圍而不用另設(shè)加熱系統(tǒng)，進(jìn)一步降低能耗，效 果顯著。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種用于PCB含氨氮廢水零排放處理的裝置，其特征在于，包括蝕刻水洗缸（1)、pH調(diào) 整槽(2)、粗濾槽(3)、超濾槽1(4)、電解槽(5)、超濾槽11(6)、集氣罐(7);所述的蝕刻水洗缸 (1)通過水栗1(10)與pH調(diào)整槽(2)連接，pH調(diào)整槽(2)與粗濾槽(3)通過槽體上部的溢流口 (8)連接，所述的粗濾槽(3)內(nèi)設(shè)置有濾袋(3.1)，濾袋(3.1)通過水栗Π (11)與超濾槽1(4) 連接，所述的超濾槽1(4)內(nèi)設(shè)置有超濾系統(tǒng)1(4.1)，超濾系統(tǒng)1(4.1)通過水栗ΠΚ12)與電 解槽(5)連接，所述的電解槽(5)通過水栗IV(13)與超濾槽II (6)連接，電解槽(5)上部通過 集氣管(9)與集氣罐(7)連接，所述的超濾槽11(6)內(nèi)設(shè)置有超濾系統(tǒng)Π (6.1)，超濾系統(tǒng)Π (6.1) 通過水栗V(14)與蝕刻水洗缸(1)連接。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述的pH調(diào)整槽（2)內(nèi)設(shè)置有攪拌裝置 (2.1) 和pH計(jì)(2·2)〇3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的裝置，其特征在于，所述的電解槽(5)內(nèi)設(shè)置有電極，電極 板間距離EK 3CM。4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置，其特征在于，電極包括一個(gè)陽(yáng)極板(5.1)和一個(gè)陰極板 (5.2) 。5. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置，其特征在于，當(dāng)電極板間距離0.101^^301，所述的電 極包括一個(gè)陽(yáng)極板(5.1)、一個(gè)陰極板(5.2)、以及陽(yáng)極板(5.1)與陰極板(5.2)之間設(shè)有一 個(gè)或多個(gè)從電極板(5.3)。6. 根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的裝置，其特征在于，所述的陽(yáng)極板(5.1)為鈦涂銥釕合金或 鈦鍍鉑金催化劑不熔陽(yáng)極，陰極板(5.2)為鈦板。7. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的裝置，其特征在于，所述的從電極板(5.3)的陽(yáng)極側(cè)（5.32)為 鈦基涂銥釕合金或鈦鍍鉑金催化劑不熔電極，陰極側(cè)(5.31)為鈦板。8. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置，其特征在于，當(dāng)電極板間距離D<0.1CM，電極包括一個(gè)陽(yáng) 極板(5.1)和一個(gè)陰極板(5.2)、以及兩極板間設(shè)有一層透水性超濾膜或?yàn)V布(5.4)。9. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置，其特征在于，陽(yáng)極板與陰極板間的距離等于超濾膜或?yàn)V 布的厚度。10. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置，其特征在于，其中陽(yáng)極板(5.1)為網(wǎng)狀或多孔鈦涂銥釕 合金或鈦鍍鉑金催化劑不熔陽(yáng)極，陰極板(5.2)為網(wǎng)狀或多孔結(jié)構(gòu)鈦板。
【文檔編號(hào)】C02F1/461GK205442898SQ201521005463
【公開日】2016年8月10日
【申請(qǐng)日】2015年12月4日
【發(fā)明人】陳麗珊, 李虹, 侯延輝, 王維亮
【申請(qǐng)人】陳麗珊, 李虹, 侯延輝, 王維亮