一種晶片磨削廢水cod臭氧降解裝置的制造方法
【專利摘要】一種晶片磨削廢水COD臭氧降解裝置，包括處理槽、臭氧發(fā)生器和臭氧輸入管，臭氧輸入管一端與臭氧發(fā)生器連接，一端伸入處理槽底部，臭氧輸入管在處理槽底部的部分連接有微孔曝氣盤，處理槽的上部設(shè)置有污水進(jìn)管和尾氣排放管，處理槽的底部設(shè)置有污水排放管。經(jīng)沉淀及過濾后的晶片磨削廢水進(jìn)入處理槽后，再使臭氧發(fā)生器產(chǎn)生的臭氧進(jìn)入處理槽中,經(jīng)微孔曝氣盤分散氣泡后進(jìn)入廢水中,與廢水中的有機(jī)物接觸，使其發(fā)生氧化降解反應(yīng),生成二氧化碳和水，降低廢水中COD含量。該裝置以空氣為氣源，經(jīng)臭氧發(fā)生器產(chǎn)生臭氧，分散于待處理廢水中，與廢水中有機(jī)物接觸后使其發(fā)生氧化降解反應(yīng)，能夠有效降解廢水中有機(jī)物，降低COD含量，對環(huán)境無污染。
【專利說明】
一種晶片磨削廢水COD臭氧降解裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及一種采用臭氧氧化法對半導(dǎo)體器件行業(yè)的晶片磨削廢水進(jìn)行有機(jī)物COD(化學(xué)需氧量)降解的裝置，屬于工業(yè)廢水處理的技術(shù)領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002]眾所周知，半導(dǎo)體器件行業(yè)已成為中國環(huán)境污染的重要行業(yè)之一，尤其是對水環(huán)境的污染，已成為工業(yè)污染防治的重點(diǎn)。
[0003]目前，國內(nèi)大部分工廠處理半導(dǎo)體晶片磨削廢水采用一級(jí)沉淀后與其他清洗廢水混合再進(jìn)行二級(jí)生化處理的工藝。但是生化處理要求污水中酸堿度及有機(jī)物含量不能波動(dòng)太大，否則影響菌群繁殖，影響處理效果。
[0004]中國專利文獻(xiàn)CN101519251公開的《一種上流式多相氧化塔處理難生化降解廢水的方法》，是將芬頓試劑和待處理的廢水一起用栗送入上流式多相氧化塔內(nèi)進(jìn)行反應(yīng)，其中芬頓試劑投加過程中H2O2與Fe2+的摩爾比為5?20:1，雙氧水投加量與待處理水中COD(化學(xué)需氧量)質(zhì)量比為2?3:1，反應(yīng)時(shí)間0.5?lhr。經(jīng)氧化塔處理后的廢水依次進(jìn)入中和池、脫氣池和混凝沉淀池:在中和池調(diào)節(jié)pH值至中性;在脫氣池鼓風(fēng)脫氣10?20min,脫去反應(yīng)中產(chǎn)生的微小氧氣氣泡，在混凝沉淀池的廢水加聚丙烯酰胺進(jìn)行混凝沉淀，上清液達(dá)標(biāo)排放。該方法操作簡單，無復(fù)雜設(shè)備、對污染物的去除效率較高。但是該方法的缺點(diǎn)是芬頓試劑調(diào)配要根據(jù)實(shí)際水質(zhì)情況進(jìn)行配比，比例難以掌握，且在配比時(shí)產(chǎn)生的絡(luò)合物有毒性。
[0005]CN202785779U公開的《化學(xué)催化降解COD系統(tǒng)降解廢水的方法》中的化學(xué)催化降解COD系統(tǒng)，包括反應(yīng)槽和沉降槽，反應(yīng)槽與所述沉降槽之間通過溢流口連通，反應(yīng)槽上部與藥劑管、污水管連通，所述反應(yīng)槽內(nèi)部設(shè)有攪拌器，沉降槽中上部與凈水管連通，底部與污泥管連通。此方法存在投資大費(fèi)用高的不利因素。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]針對現(xiàn)有有機(jī)廢水處理裝置存在的不足，根據(jù)半導(dǎo)體晶片磨削廢水中有機(jī)表面活性劑、有機(jī)添加劑以及COD含量較高的特性，本實(shí)用新型提供一種能夠有效降解廢水中有機(jī)物、降低COD含量、對環(huán)境無污染的晶片磨削廢水COD臭氧降解裝置。
[0007]本實(shí)用新型的晶片磨削廢水COD臭氧降解裝置，采用以下技術(shù)方案:
[0008]該裝置，包括處理槽、臭氧發(fā)生器和臭氧輸入管，臭氧輸入管一端與臭氧發(fā)生器連接，一端伸入處理槽底部，臭氧輸入管在處理槽底部的部分連接有微孔曝氣盤，處理槽的上部設(shè)置有污水進(jìn)管和尾氣排放管，處理槽的底部設(shè)置有污水排放管。
[0009]所述臭氧輸入管上設(shè)置有臭氧控制閥。
[0010]所述污水排放管上設(shè)置有排放閥。
[0011]經(jīng)沉淀及過濾后的晶片磨削廢水進(jìn)入處理槽后，再使臭氧發(fā)生器產(chǎn)生的臭氧進(jìn)入處理槽中，經(jīng)微孔曝氣盤分散氣泡后進(jìn)入廢水中，與廢水中的有機(jī)物接觸，使其發(fā)生氧化降解反應(yīng)，生成二氧化碳和水，降低廢水中COD含量。
[0012]本實(shí)用新型以空氣為氣源，經(jīng)臭氧發(fā)生器產(chǎn)生臭氧，分散于待處理廢水中，與廢水中有機(jī)物接觸后使其發(fā)生氧化降解反應(yīng)，能夠有效降解廢水中有機(jī)物，降低COD含量，對環(huán)境無污染。
【附圖說明】
[0013]圖1是本實(shí)用新型晶片磨削廢水COD臭氧降解裝置的結(jié)構(gòu)原理示意圖。
[0014]其中:1、處理槽，2、臭氧發(fā)生器，3、臭氧控制閥，4、臭氧輸入管，5、污水進(jìn)管，6、尾氣排放管，7、污水排放管，8、排放閥，9、微孔曝氣盤。
【具體實(shí)施方式】
[0015]本實(shí)用新型通過臭氧對晶片磨削廢水COD進(jìn)行降解。臭氧具有很強(qiáng)的氧化性，其標(biāo)準(zhǔn)電極電位為2.07eV，它可將大多數(shù)有機(jī)物降解為小分子化合物或者完全礦化為二氧化碳和水。臭氧已廣泛應(yīng)用于廢水處理中，可用于生物處理前的預(yù)處理以提高廢水的可生物降解性，改善生物處理效果;也可用于生物處理后的深度處理，去除廢水中難生物降解有機(jī)物以及廢水的脫色等。臭氧氧化法作為快速、高效處理手段用于廢水的深度處理，具有氧化能力強(qiáng)、反應(yīng)快、使用方便等特點(diǎn)，對降低廢水中的C0D、色度等具有特殊的處理效果。
[0016]如圖1所示，本實(shí)用新型的晶片磨削廢水⑶D臭氧降解裝置，包括處理槽1、臭氧發(fā)生器2和臭氧輸入管4，臭氧輸入管4 一端與臭氧發(fā)生器2連接，一端伸入處理槽I底部，臭氧輸入管4上設(shè)置有臭氧控制閥3，臭氧輸入管4在處理槽I底部的部分連接有微孔曝氣盤9。處理槽I的上部設(shè)置有污水進(jìn)管5和尾氣排放管6。處理槽I的底部設(shè)置有污水排放管7，污水排放管7上設(shè)置有排放閥8。臭氧輸入管4采用聚四氟乙烯氣管，處理槽I為耐氧化、耐腐蝕的聚四氟乙烯或聚苯乙烯材質(zhì)。
[0017]晶片磨削廢水由污水進(jìn)管5進(jìn)入處理槽I。臭氧發(fā)生器2產(chǎn)生臭氧，臭氧經(jīng)臭氧輸入管4通過臭氧控制閥3進(jìn)入處理槽I中，經(jīng)微孔曝氣盤9分散氣泡后進(jìn)入經(jīng)沉淀及過濾后的磨削廢水中，與廢水中的有機(jī)物接觸，使其發(fā)生氧化降解反應(yīng)，生成二氧化碳和水，達(dá)到降低廢水中COD含量的目的。降解廢水經(jīng)檢測合格后由污水排放管7排放，COD去除率80 %以上。尾氣由尾氣排放管6排放。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種晶片磨削廢水COD臭氧降解裝置，包括處理槽、臭氧發(fā)生器和臭氧輸入管，其特征是，臭氧輸入管一端與臭氧發(fā)生器連接，一端伸入處理槽底部，臭氧輸入管在處理槽底部的部分連接有微孔曝氣盤，處理槽的上部設(shè)置有污水進(jìn)管和尾氣排放管，處理槽的底部設(shè)置有污水排放管。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶片磨削廢水COD臭氧降解裝置，其特征是，所述臭氧輸入管上設(shè)置有臭氧控制閥。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶片磨削廢水COD臭氧降解裝置，其特征是，所述污水排放管上設(shè)置有排放閥。
【文檔編號(hào)】C02F1/78GK205556200SQ201620121534
【公開日】2016年9月7日
【申請日】2016年2月16日
【發(fā)明人】王強(qiáng), 任忠祥, 李香芝, 徐現(xiàn)剛
【申請人】山東浪潮華光光電子股份有限公司