專利名稱：一種穩(wěn)壓高位槽的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種高位槽，尤其涉及一種穩(wěn)壓高位槽。
背景技術(shù)：
高位槽是化工廠常用設(shè)備，用來向反應(yīng)器或其它設(shè)備供液。在一些要求連續(xù)生產(chǎn) 的反應(yīng)過程中，供液速度穩(wěn)定才能保證各種反應(yīng)物料的配比穩(wěn)定從而達(dá)到期望的反應(yīng)結(jié) 果。利用普通高位槽供液時，隨著槽內(nèi)料液的不斷減少槽內(nèi)液面的高度會逐漸下降，從而引 起槽內(nèi)壓力降低，最終使得出口料液流速逐漸降低，達(dá)不到連續(xù)穩(wěn)定供液的效果。因此需要 提供一種新的技術(shù)方案來解決上述問題。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是提供一種能夠穩(wěn)定向外供液速度的高位槽。 為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案 —種穩(wěn)壓高位槽，所述高位槽的底部設(shè)有出料口 ，所述高位槽的上部側(cè)壁上設(shè)有
進(jìn)料口 ，所述高位槽的上部側(cè)壁上還設(shè)有回流口 ，該回流口略低于進(jìn)料口 。 本實(shí)用新型在高位槽上部設(shè)置回流口，當(dāng)向高位槽內(nèi)進(jìn)液速度大于高位槽下部出
料口出液速度時，高位槽內(nèi)液位就會達(dá)到此回流口高度，多余的料液會從回流口返回到料
液來源處。這樣不間斷進(jìn)液就能達(dá)到高位槽內(nèi)液位的恒定，使得高位槽內(nèi)壓力穩(wěn)定，從而保
證高位槽以一穩(wěn)定的速度向外供液。 本實(shí)用新型在工作時應(yīng)保證進(jìn)液口進(jìn)液速度大于出料口的出料速度。 本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是結(jié)構(gòu)簡單，可穩(wěn)定向外供液。
以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式
對本實(shí)用新型作進(jìn)一步的說明


圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
其中1、回流口，2、出料口，3、進(jìn)料口。
具體實(shí)施方式如
圖1所示，一種穩(wěn)壓高位槽，在高位槽的底部設(shè)有出料口 2，高位槽的上部側(cè)壁 上設(shè)有進(jìn)料口 3，在高位槽的上部側(cè)壁上還設(shè)有回流口 l，該回流口 1略低于進(jìn)料口 3。 本實(shí)用新型是這樣運(yùn)作的從進(jìn)料口 3向高位槽內(nèi)進(jìn)液，從出料口 2向外供液，當(dāng) 進(jìn)液速度大于出液速度時，高位槽內(nèi)液面會逐漸上升至回流口 l處。當(dāng)繼續(xù)進(jìn)液時多余的 料液會從回流口 l回流至料液來源處。這樣就能保證高位槽內(nèi)液面高度維持恒定，也就能 達(dá)到高位槽穩(wěn)定的供液。
權(quán)利要求一種穩(wěn)壓高位槽，所述高位槽的底部設(shè)有出料口，所述高位槽的上部側(cè)壁上設(shè)有進(jìn)料口，其特征是所述高位槽的上部側(cè)壁上還設(shè)有回流口，該回流口略低于進(jìn)料口。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種穩(wěn)壓高位槽，所述高位槽的底部設(shè)有出料口，所述高位槽的上部側(cè)壁上設(shè)有進(jìn)料口，其特征是所述高位槽的上部側(cè)壁上還設(shè)有回流口，該回流口略低于進(jìn)料口。該高位槽結(jié)構(gòu)簡單，可穩(wěn)定向外供液。
文檔編號B01J4/00GK201470364SQ200920233280
公開日2010年5月19日 申請日期2009年7月30日 優(yōu)先權(quán)日2009年7月30日
發(fā)明者劉曉慶, 劉真國 申請人:南通新瑋鎳鈷科技發(fā)展有限公司