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      在污水/循環(huán)水紫外消毒系統(tǒng)中混合部件的使用方法和裝置的制作方法

      文檔序號:5053271閱讀:267來源:國知局
      專利名稱:在污水/循環(huán)水紫外消毒系統(tǒng)中混合部件的使用方法和裝置的制作方法
      技術領域
      本發(fā)明總地涉及使用紫外(UV)光來控制生物體的系統(tǒng),并且具體地涉及對在使用UV光進行流體消毒的系統(tǒng)中的流體的混合。
      背景技術
      污水處理廠在開放式通道(open channel)中通常使用照射器機架(lamp rack) 在流動方向上水平導向。所述照射器發(fā)射使致病的微生物失活的紫外光(UV),使水安全以排放至接收水的主體或用于水的再利用(灌溉、間接適于飲用的再利用、工業(yè)使用、用于不適于飲用使用的雜排水等)。所述機架將照射器保持在分布于通道的截面上的陣列中,使得向下流過該通道的水都不會太過遠離任何一個照射器。已知的開放式通道流體處理設備通過以下內容被示出,例如,美國專利No. 4,482,809和No. 5,006,244,其公開內容通過引用被并入本申請。對水可以遠離照射器多遠而仍得到充分的消毒有實際的限制。圖1是示出隨著與照射器的距離的增加水中的UV輻照下降的曲線圖,其中UV的透射率為55% T和65% T0典型的使用低壓汞弧照射器的UV系統(tǒng)具有在方形陣列中間隔約7. 5cm(厘米)的照射器。具有直徑為2. 5cm的石英管,這意味著與任一照射器的最大距離約為km。這為水提供了足夠的空間以流過照射器之間而沒有過度的水頭損失,并且接近到足以對所有區(qū)域達到充分的UV穿透,并且從而充分消毒。這些低壓系統(tǒng)具有總功耗低于100瓦并且UVC (殺菌UV)輸出低于50瓦的照射器。照射器技術的更近期的改進已生產出具有更高輸出的低壓照射器。更高的照射器輸出意味著每個照射器可以消毒更多的水,并且從而水流必須與照射器的UVC輸出成比例地增加。然而由于跨照射器組(a bank of lamps)的水頭損失限制(過高的水頭損失意味著該組的上游水位必須提高,并且一部分水將會溢出該照射器組的頂部而不會被充分地處理),所述照射器間距必須被增加以適應更大的水流。例如,具有250瓦用電量以及約100 瓦UVC輸出的照射器,必須被容納在具有IOcm照射器間距的陣列中。用于水流動的附加區(qū)域限制速度,并且由此限定跨該照射器組的水頭損失。如圖2所示,這導致離所有照射器最遠點處的UV輻照降低。離照射器最遠點處的該降低的輻照導致與該更大照射器間距相關的性能效率上的一些降低,尤其是在低UV透射率(55% T)時,但能夠使用較少的照射器的優(yōu)勢克服了所導致的用電量的增加。甚至更高功率照射器(500瓦,具有200W的UVC輸出)的更近期的發(fā)展將潛在地導致所需的照射器的數目被減少到采用250W照射器的系統(tǒng)的一半。然而,這意味著每個照射器處的流動必須加倍,導致跨照射器組的水頭損失翻兩番(水頭損失與速度的平方成比例),除非照射器的間距增加更多。然而,增加間距超過IOcm導致處理效率進一步降低,否定了較少高功率照射器的潛在優(yōu)勢??朔@一點的一種方式是封閉照射器組的頂部,使得水無法溢出該照射器組的頂部并被迫以較高的速度流動,并且造成通過具有較小的4英寸或更低的照射器間距的照射器的壓力損失。這已被成功地用在使用高得多的供電的中等壓力(MP)照射器(2500瓦/照射器,370瓦UVC)的場合(美國專利No. 5,590,390,其公開內容通過引用被并入本申請), 并且被用在采用具有甚至更大間距的三角形或三角翼(delta wing)混合部件以及5000瓦照射器(750瓦UVC)的系統(tǒng)中(美國專利No. 6,015,2 ,其公開內容通過引用被并入本申請)。即使美國專利No. 6,015,2 中所公開的系統(tǒng)具有封閉的頂部,照射器間距仍必須被增加以降低整體速度和水頭損失。在美國專利No. 6,015,229中所公開的系統(tǒng)中,該5000瓦 MP照射器是相對短的(60cm長)。在美國專利No. 6,015,229中所公開的系統(tǒng)的一個缺點是,如果使用較長的照射器,由該三角翼生成的渦旋(vortice)消失,并且有效性降低。因此,在美國專利No. 6,015,229中所公開的系統(tǒng)最好與相對短的MP照射器(為60cm長,相對于LP照射器的典型的1.8m(米)長)一起使用。在一個三角翼陣列被放置于LP照射器組的起始端的情況下,渦旋在約40cm后基本上消失。這已使用計算流體動態(tài)學(CFD)模型來建模,并且被示于圖3和圖4中。圖3 是示出三角翼下游2cm處的渦旋的速度渦旋圖。圖4是示出三角翼下游40cm處的渦旋的速度渦旋圖。該旋轉速度以及由此造成的能在離照射器最遠的水中混合的渦旋的能力由圖3 和圖4中的速度矢量表征,因此其中較長的箭頭表征貼近該照射器后(圖幻的較高的旋轉速率,并且因而較短的箭頭表征三角翼下游40cm處的較低的旋轉速率。

      發(fā)明內容
      本發(fā)明的實施方案包括用于混合至少一種流經流體系統(tǒng)的流體的裝置和方法,包括細長構件的行和列的陣列,其中每個細長構件與相鄰列中的細長構件水平排齊,并且與細長構件的相鄰行中的細長構件垂直排齊,并且其中每個細長構件的軸線與流體流動方向一致;以及多個混合部件陣列,所述多個混合部件陣列沿每個細長構件的長度以隔開的間隔排列,其中所述多個混合部件陣列在每個細長構件周圍創(chuàng)建四個渦旋,形成方形渦旋陣列。本發(fā)明的實施方案包括,其中每個細長構件是紫外光源,并且其中所述混合部件包括具有三角形的混合部件,所述三角形具有指向上游的一個頂點并且與所述流動方向成一角度。


      現(xiàn)在參考附圖,其中在全部所參考的視圖中同樣的數字表示相同或相應的部分。圖1是示出在每厘米55% (虛線)和65%的水透射率下隨著與所示的照射器/ 石英組合的距離的增加相對應的UV輻照的曲線圖。圖2是示出方形照射器陣列中的4個照射器之間的中心點處的相對輻照對該陣列中的相鄰照射器之間的照射器間距的曲線圖。圖3是示出三角翼下游2cm處的渦旋的速度渦旋圖。圖4是示出三角翼下游40cm處的渦旋的速度渦旋圖。圖fe是沿照射器的長度被等距間隔的零個、一個、三個以及四個三角翼的陣列對微生物失活性能的影響曲線圖。圖恥是根據本發(fā)明的實施方案的在67%的透射率下具有三角翼(虛線)和不具有三角翼的MS2減少等效劑量(“RED”(ReduCti0n Equivalent Dose))對每個照射器的流率的先導(Pilot)生物鑒定測試數據。圖6是根據本發(fā)明的實施方案的在60%的透射率下具有三角翼(虛線)和不具有三角翼的MS2 RED的先導生物鑒定測試數據。圖7是根據本發(fā)明的實施方案的在50%的透射率下具有三角翼(虛線)和不具有三角翼的MS2 RED的先導生物鑒定測驗數據。圖8示出使用三角翼的現(xiàn)有技術的實施方案已采用在每個照射器周圍生成8個渦旋的三角翼陣列。該附圖取自于美國專利No. 6,015,2 的圖4。圖9示出專利No. 6,015,229中提出的具有較小的石英直徑與照射器間距比的渦旋圖案(vortex pattern),示出靠近照射器的被高度處理的水區(qū)域沒有被渦旋卷攪 (sweep)走。圖10是根據本發(fā)明的實施方案的在每個照射器周圍具有四個渦旋的渦旋圖案, 示出靠近照射器的水的改進的卷攪。圖11示出產生圖10所示的渦旋圖案的三角形混合部件。圖12是根據本發(fā)明的實施方案的具有三角形混合部件的照射器機架的示意圖。圖13是根據本發(fā)明的實施方案的具有在一起的三個照射器機架的剖視圖,示出支架、刮擦器(wiper)驅動臂、石英管以及三角形混合部件。圖14是根據本發(fā)明的實施方案的照射器機架的剖視圖,示出引導更多水流過石英管的寬支架。圖15是根據現(xiàn)有技術的照射器機架的剖視,示出引導水從石英管流走的窄支架。圖16a根據本發(fā)明的實施方案示出頂端被移除的三角形混合部件。圖16b示出頂端未被移除的三角形混合部件。圖17根據本發(fā)明的實施方案示出在通道底部的半三角形混合部件。圖18是根據本發(fā)明的實施方案的半三角形混合部件的示意圖。圖19a和19b是根據本發(fā)明的實施方案示出開放式通道中的照射器機架的側面視圖和端部視圖,其中在該通道的頂部和底部水位處具有半三角形混合部件。圖20是根據本發(fā)明的實施方案的具有固定的垂直支撐桿或條的可替換的三角形混合部件支撐件布局。圖21是根據本發(fā)明的實施方案的具有可移除的垂直支撐桿或條的可替換的三角形混合部件支撐件布局。圖22是根據本發(fā)明的實施方案的用于具有四個照射器的陣列的封閉容器反應器的可能的布局。圖23根據本發(fā)明的實施方案示出封閉容器反應器的立體圖。
      圖24是圖23的封閉容器反應器的縱向剖視圖。圖25是圖23的封閉容器反應器的剖視端部圖。圖26是根據本發(fā)明的實施方案的示出石英清潔機制的封閉容器反應器的端部剖視圖。圖27是根據本發(fā)明的實施方案的用于具有十六個照射器的陣列的封閉容器反應器的布局。
      具體實施例方式本發(fā)明的實施方案沿系統(tǒng)中的UV照射器的長度以隔開的間隔采用多于一個的三角翼(三角形混合部件)陣列,該系統(tǒng)使用UV照射器進行流體消毒。三角形混合部件陣列的布局被測試過,該測試使用計算流體動態(tài)學模型結合輻照領域的模型來模擬微生物失活。圖fe中示出沿照射器的長度被等距間隔的零個、一個、三個以及四個三角形混合部件的陣列對微生物失活性能的影響??梢钥闯觯刂丈淦鞅婚g隔的三個三角形混合部件的排列具有超過僅具有一個三角形混合部件陣列的布局的改進性能。沿UV照射器的長度被間隔的三個三角形混合部件陣列的這種布局在污水處理廠利用先導系統(tǒng)被測試過,所述污水處理廠在具有和不具有該三角形混合部件的情況下,使用替代(surrogate)微生物MS2噬菌體和Tl噬菌體(被用于生物鑒定測試中的已知替代生物體)。所述照射器在試驗系統(tǒng)上的間距為6英寸(15cm)。除了測試,未處理的水為約67%的UV透射率,使用腐殖酸將該透射率調整至60% T和50% T,以模擬天然的低透射率的水。圖恥、6和7示出在具有和不具有該三個三角形混合部件陣列的情況下所達到的性能改善。使用三角形混合部件的先前實施方案已經采用在每個照射器周圍生成八個渦旋的三角形混合部件陣列。這在美國專利No. 6,015,2 的圖4中被示出,在此被重現(xiàn)為圖8,其中UV照射器5被管13包圍并且各三角形混合部件產生一對相反旋轉的 (counter-rotating)潤方寵 10。美國專利No. 6,015,229中提出的構想是取得靠近照射器的被高度處理的水并將其從該照射器移走,以及取得遠離該照射器的未被處理的或被少量處理的水并將其移至靠近該照射器處。該布局不適合于這樣的系統(tǒng),在該系統(tǒng)中石英直徑與照射器間距之比低于美國專利No. 6,015,229中所提出的系統(tǒng),因為如圖9中所圖示說明的,該渦旋不卷攪靠近照射器的大部分被高度處理的水。具體地,圖9圖示說明如果美國專利No. 6,015,229中公開的布局與較小的石英直徑與照射器間距比一起使用,將會發(fā)生什么。如圖示說明的,渦旋圖案示出靠近照射器的不受渦旋影響或不被卷攪走的被高度處理的水區(qū)域。本發(fā)明的實施方案的布局更適合于這樣的系統(tǒng),在該系統(tǒng)中石英直徑與照射器間距之比低于美國專利No. 6,015,229中所提出的系統(tǒng)。在本發(fā)明的實施方案中,如圖10中所示,四個大渦旋20包圍每個照射器22,形成方形渦旋陣列??梢钥闯觯摐u旋被設置為鄰近照射器22,取得所述被高度處理的水并將其從照射器22移走,并且反過來取得遠離該照射器的(在四個照射器22之間的中心點M處)水并將其移至靠近照射器22處。如圖11所示,本發(fā)明的布局具有產生渦旋圖案的三角翼或三角形混合部件沈,該渦旋圖案具有四個被設置為鄰近照射器的渦旋20。每個三角形混合部件沈以一個頂點指向上游并且與流動方向成一角度地被排列。如圖11所圖示說明的,三角形混合部件沈對被背對背地排列,以致每個三角形混合部件26的最長邊觀被排列為與所述對中的另一個三角形混合部件26的最長邊(后緣)觀平行且相鄰。每個三角形混合部件沈產生一對相反旋轉的渦旋20,并且該背對背的三角形混合部件沈產生四個相反旋轉的渦旋20,該四個相反旋轉的渦旋20基本上旋轉在每對周圍的四個照射器22之間空間中的所有的水。就更高的旋轉速率和更長的持續(xù)性而言,這種相反旋轉在渦旋20彼此增強方面是重要的。三角形混合部件沈的這種布局從機械角度上也是優(yōu)選的,因為該三角形混合部件26可以被附接至其各自的照射器機架,并且整個照射器機架組件可以被撤走而不影響相鄰的照射器機架。這對于通道內UV消毒系統(tǒng)的日常維護是重要的。將三角形混合部件26保持在適當位置的支撐桿30也在圖11中被示出。如在此可以看出的,這些桿30被這樣放置以處于由每個三角形混合部件沈產生的兩個相反旋轉的渦旋20的卷攪范圍之外,但是仍然處于有利位置以能夠固定該三角形混合部件沈的后緣。該系統(tǒng)的優(yōu)選實施方案中的組裝好的照射器機架32 (每個機架32具有三個照射器2 在圖12中被示出。附加的支撐件34被更朝向各三角形混合部件沈的頂端(先導角)35放置。該第二支撐件34被用來恰當地使三角形混合部件沈的該角(迎角)與流動方向一致,并且進一步將該三角形混合部件沈固定在適當的位置。該第二支撐件34也被定位于三角形混合部件26的中心線以便不干擾該渦旋20的旋轉卷攪。在本發(fā)明的實施方案中,照射器機架布局32被提供有每個機架32四個、六個或者八個垂直的照射器22。然而,任何數目的照射器22都可以被包括在單個機架32中。數個機架32被彼此相鄰地排列,以形成照射器陣列用于在開放式通道UV消毒系統(tǒng)中使用。圖 13圖示說明三個照射器機架32 —起的剖視圖,示出支架36、刮擦器驅動臂38、包含照射器 22的石英管以及三角形混合部件26。照射器22在這個以及其他公開的實施方案中被排列在方形陣列中,以致每個照射器22與照射器的相鄰列中的照射器22水平排齊,并且與照射器的相鄰行中的照射器22垂直排齊。大多數安裝于UV系統(tǒng)的開放式通道機架在照射器機架的每個端部具有垂直支撐構件40,以支承該石英管和照射器22。如圖15的剖視圖所示,在現(xiàn)有技術系統(tǒng)中的該垂直支撐件被設置為靠近照射器。這趨于迫使水遠離照射器、進入照射器之間的區(qū)域,并且導致該UV系統(tǒng)的性能降低。如圖14所示,在本發(fā)明的實施方案中,對此進行的改進在于具有寬支架36,該寬支架36阻礙離照射器22最遠的垂直平面上的水,并且引導更多的在照射器22的垂直平面上的水。圖14還圖示說明在照射器22周圍的開放區(qū)域的位置所在,并且對流動的障礙(支架腿)被遠離于照射器22。用于測量水中UV輻照的UV傳感器(未示出)被放置在照射器機架中的兩個石英管之間。利用沿照射器的長度周期性移動的刮刀(scraper)或刮擦器部件清潔該傳感器以及該石英管是合乎期望的。該刮擦器組件可以由被約束于(tied to)馬達驅動的螺桿驅動件41的垂直刮擦器驅動臂38驅動。刮刀的例子在美國專利No. 7,159,264中被公開,其公開內容通過引入被引并入本文中。本發(fā)明的實施方案具有將頂端移除的改進的三角形混合部件沈0。該改進的三角形混合部件260在傳感器刮擦器和三角形混合部件260之間提供充分的間隙。該三角形混合部件260的頂端可能會干擾該UV傳感器刮擦器的運動。圖16a 和16b示出頂端被移除的三角形混合部件260和頂端未被移除的三角形混合部件26。圖 13圖示說明用于該刮擦器驅動臂38的必要間隙。CFD和輻照強度場的計算機建模已被完成,以通過反應器示出該頂端移除對微生物失活具有很小的影響。本發(fā)明的實施方案還在照射器機架的頂部和底部使用半三角形混合部件42。如圖 17所示,這以與完整的三角形混合部件生成一對渦旋相同的方式生成單個完整渦旋。由于通道底部位于兩個照射器之間的中心點上,該半三角形混合部件42上移約0. 7cm,以容納該支撐桿30。圖18示出半三角形混合部件42。圖19a和19b示出在開放式通道中的照射器機架,其中在該通道的頂部和底部水位處具有半三角形混合部件42。如圖20所示,支撐該三角形混合部件沈的可替換的布局是通過使用垂直支撐桿或條44。這相對上述水平支撐布局有一些劣勢和優(yōu)勢。垂直支撐件44對水流動產生更多障礙,造成通過反應器的更高的水頭損失,并且也在一定程度上破壞了渦旋。然而,在大的照射器機架(例如垂直堆疊八個照射器)中,每根桿支承七個完整的三角形混合部件以及兩個半三角形混合部件。這與在水平支撐布局中每根桿三個三角形混合部件形成對照。因此,這降低了系統(tǒng)成本。另外,使用垂直支撐桿44使之可能移除該三角形混合部件(例如為了清潔)而不必須移除整個機架。這在較臟的水中是重要的,在較臟的水中三角形混合部件可能具有累積廢棄物串(藻類)的趨勢,這在二級污水處理廠的污水中很普遍。具有可移除的垂直支撐桿或條440的可替換的支撐布局在圖21中被示出。另外, 單個桿支撐照射器機架之間的三角形混合部件對中的二者是可能的,在這種情況下,在上面引用的八個照射器機架的實施例中,單個桿支撐十四個完整的三角形混合部件以及四個半三角形混合部件,進一步降低了成本。如圖22至27所示,本發(fā)明的實施方案包括在封閉容器反應器中的布局。類似于上面在開放式通道實施方案中所描述的,渦旋陣列可以被生成于封閉容器UV消毒系統(tǒng)中, 其中照射器被裝入在容器長度方向上具有流動的該管狀容器,并且照射器平行于該流動。圖22示出四個照射器22的管狀反應器46。三角形混合部件沈提供的附加混合使該反應器能夠被用于具有較低UV透射率的水,因為在開放式通道布局中,三角形混合部件沈生成的渦旋20將離照射器22最遠的水帶至靠近照射器22處并且將最靠近照射器22 的水從照射器22移走。如圖23所示,這樣的反應器46可以具有入口 48和出口 50,其中入口 48使得水平行于照射器流動并且出口 50使得水橫向于照射器流動。由于在開放式通道反應器中,一組或更多組三角形混合部件沈沿照射器的長度以隔開的間隔被放置。圖M示出三組。驅動石英清潔部件52的螺桿驅動件410 (圖M-26) 在中心運動通過反應器46的長度。圖27示出具有四行每行四個照射器22的十六個照射器的陣列。以類似的方式, 九個、二十五個或三十六個照射器的陣列可以分別由三行每行三個照射器22、五行每行五個照射器22或者六行每行六個照射器22產生。在較大陣列中,可以包括一些擋板(未圖示說明)以防止水流入未被渦旋覆蓋的壁附近的區(qū)域。本文中如果不是另有聲明,在此被討論或者被提及的任何及所有的專利、專利公開、文章以及其他印刷出版物通過引用被并入本文,猶如在此對其全部內容進行了闡述。
      應當理解的是,本發(fā)明的裝置和方法可以被配置并實施為適合用于目前的任何環(huán)境。上述實施方案應被認為是在各方面都是說明性的而不是限制性的。
      權利要求
      1.一種用于混合至少一種流經流體系統(tǒng)的流體的裝置,所述裝置包括細長構件的行和列的陣列,其中每個細長構件與相鄰列中的細長構件水平排齊,并且與細長構件的相鄰行中的細長構件垂直排齊,并且其中每個細長構件的軸線基本上與流體流動方向一致;以及多個混合部件陣列,所述多個混合部件陣列沿每個細長構件的長度以隔開的間隔排列,其中所述多個混合部件陣列在每個細長構件周圍創(chuàng)建四個渦旋,形成方形渦旋陣列。
      2.如權利要求1所述的裝置,其中每個細長構件是紫外光源。
      3.如權利要求2所述的裝置,其中所述混合部件包括具有三角形的混合部件,所述三角形具有指向上游的一個頂點的并且與所述流動方向成一角度。
      4.如權利要求3所述的裝置,其中所述混合部件包括具有半三角形的混合部件,并且其中所述半三角形混合部件在所述裝置不被四個細長構件包圍的區(qū)域中沿所述細長構件排列。
      5.如權利要求3所述的裝置,其中所述流體系統(tǒng)是開放式通道系統(tǒng),并且其中混合部件被安裝在水平支撐桿上。
      6.如權利要求3所述的裝置,其中所述流體系統(tǒng)是開放式通道系統(tǒng),并且其中混合部件被安裝在垂直支撐桿上。
      7.如權利要求3所述的裝置,其中所述流體系統(tǒng)是開放式通道系統(tǒng),并且其中所述細長構件被垂直排列在機架上,以用于從所述通道移除,并且所述混合部件被安裝在分別可從所述機架移除的垂直支撐桿上。
      8.如權利要求7所述的裝置,其中每個機架包括具有空間分隔垂直條的支架,其中所述空間分隔垂直條在所述細長構件周圍創(chuàng)建開放區(qū)域。
      9.如權利要求2所述的裝置,其中所述混合部件包括具有先導頂點被移除的三角形的混合部件。
      10.如權利要求3所述的裝置,所述流體系統(tǒng)是封閉式通道系統(tǒng),所述系統(tǒng)具有被設置在圓柱形容器中的所述裝置。
      11.一種用于混合至少一種流經流體系統(tǒng)的流體的方法,所述方法包括將細長構件的行和列的陣列浸沒在所述流體流中,其中每個細長構件與相鄰列中的細長構件水平排齊,并且與細長構件的相鄰行中的細長構件垂直排齊,并且其中每個細長構件的軸線與流體流動方向一致;將多個混合部件陣列沿每個細長構件的長度以隔開的間隔排列,其中所述多個混合部件陣列在每個細長構件周圍創(chuàng)建四個渦旋,形成方形渦旋陣列。
      12.如權利要求11所述的方法,其中每個細長構件是紫外光源。
      13.如權利要求12所述的方法,其中所述混合部件包括具有三角形的混合部件,所述三角形具有指向上游的一個頂點并且與所述流動方向成一角度。
      14.如權利要求13所述的方法,其中所述混合部件包括具有半三角形的混合部件,并且其中所述半三角形混合部件在所述裝置不被四個細長構件包圍的區(qū)域中沿所述細長構件排列。
      15.如權利要求13所述的方法,其中所述流體系統(tǒng)是開放式通道系統(tǒng),并且其中混合部件被安裝在水平支撐桿上。
      16.如權利要求13所述的方法,其中所述流體系統(tǒng)是開放式通道系統(tǒng),并且其中混合部件被安裝在垂直支撐桿上。
      17.如權利要求13所述的方法,其中所述流體系統(tǒng)是開放式通道系統(tǒng),并且其中所述細長構件被垂直排列在機架上,以用于從所述通道移除,并且所述混合部件被安裝在分別可從所述機架上移除的垂直支撐桿上。
      18.如權利要求17所述的方法,其中每個機架包括具有空間分隔垂直條的支架,其中所述空間分隔垂直條在所述細長構件周圍創(chuàng)建開放區(qū)域。
      19.如權利要求12所述的方法,其中所述混合部件包括具有先導頂點被移除的三角形的混合部件。
      20.如權利要求13所述的方法,所述流體系統(tǒng)是封閉式通道系統(tǒng),所述系統(tǒng)具有被設置在圓柱形容器中的所述裝置。
      全文摘要
      一種用于混合至少一種流經流體系統(tǒng)的流體的裝置和方法,所述流體系統(tǒng)使用紫外光控制生物體。紫外照射器被定位在流體流中,并且三角形混合部件陣列沿每個照射器的長度以隔開的間隔排列,其中多個三角形混合部件陣列在每個細長構件周圍創(chuàng)建四個渦旋,形成方形渦旋陣列。
      文檔編號B01J19/08GK102227256SQ200980147526
      公開日2011年10月26日 申請日期2009年11月25日 優(yōu)先權日2008年11月26日
      發(fā)明者K·伯奇爾 申請人:卡爾岡碳素公司
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