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      氣體分布器的制作方法

      文檔序號:4988791閱讀:240來源:國知局
      專利名稱:氣體分布器的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本實用新型涉及一種沸騰爐式三氯氫硅反應(yīng)器內(nèi)的氣體分布器。
      背景技術(shù)
      沸騰爐式三氯氫硅反應(yīng)器內(nèi)的氣體分布器有對進料氣流的分布作用,特別是對加 大進料氣對硅粉層的沖擊范圍、提高氣體與硅粉的接觸面積作用明顯。氣體分布器由噴板 和噴嘴構(gòu)成。沸騰爐內(nèi)以往的氣體分布器由噴板3和噴嘴4組成,噴嘴4由噴嘴螺紋8固定在 噴板3上。噴嘴4中有氯化氫通道5,噴板上堆積硅粉6,氯化氫通道5包括噴嘴下端的氣 體進口 7、噴嘴側(cè)上端的氣體出口 9。在噴板3上每四個噴嘴按正方形分布(見圖5),噴嘴 氣體出口 9與氣體進口 7間呈90°的夾角(見圖4)。該氣體分布器工作時,氣體由氣體進口 7頂端進入后,由氯化氫通道5上行,從噴 嘴氣體出口 9頂端出來,對噴板上噴嘴周圍堆積的硅粉6進行吹動。由于噴嘴氣體出口 9與 氣體進口 7垂直,噴嘴氣體出口方向以下的硅粉很難吹動,容易形成死角,從而使硅粉堆積 形成死硅粉,降低了硅粉的使用率,三氯氫硅的產(chǎn)量低;而且容易造成硅粉堆積堵塞噴嘴, 檢修工作量大,檢修頻繁。
      發(fā)明內(nèi)容本實用新型的目的是針對上述現(xiàn)狀,旨在提供一種能有效沖動硅粉,避免死角形 成的氣體分布器。本實用新型目的的實現(xiàn)方式為,氣體分布器,由噴板和噴嘴組成,噴嘴由噴嘴 螺紋固定在噴板上,噴嘴中有氯化氫通道,噴板上堆積硅粉,氯化氫通道下端有氣體進 口、上端有氣體出口,在噴板上每三個噴嘴按正三角形分布,噴嘴氣體出口與氣體進口呈 40° -50°的夾角。本實用新型經(jīng)在噴板上每三個噴嘴按正三角形分布設(shè)計,噴嘴氣體出口 9與氣體 進口 7間呈40° -50°的夾角的改進后有以下顯著效果1、能更加有效分布氣體,有效沖動硅粉,避免死角的形成;2、加大氣體與硅粉的有效接觸面積,提高硅粉的使用率;3、減少硅粉在氣體分布器周圍的總停留時間,減少硅粉在噴板上的堆積量,有效 減少噴嘴的堵塞次數(shù),減少檢修工作量;4、氣體與硅粉充分反應(yīng),傳熱效果更佳,反應(yīng)溫度穩(wěn)定,減少副產(chǎn)品四氯化硅的生 成。經(jīng)生產(chǎn)證明,采用本實用新型,半成品含量能達到90%。
      圖1為本實用新型結(jié)構(gòu)示意圖,[0014]圖2為實用新型噴嘴結(jié)構(gòu)示意圖,圖3為實用新型噴嘴在噴板上的分布圖,圖4為現(xiàn)有噴嘴結(jié)構(gòu)示意圖,圖5為現(xiàn)有噴嘴在噴板上的分布圖。
      具體實施方式
      參照圖1、2、3,本實用新型氣體分布器由噴板3和噴嘴4組成,噴嘴4由噴嘴螺紋 8固定在噴板3上。噴嘴4中有氯化氫通道5,噴板上堆積硅粉6,氯化氫通道5下端有氣體 進口 7、上端有氣體出口 9。在噴板3上每三個噴嘴按正三角形分布(見圖3),噴嘴氣體出 口 9與氣體進口 7呈40° -50°的夾角(見圖2)。噴嘴氣體出口 9與氯化氫通道5間呈40°、42°、45°、48°或50°的夾角。本實用新型工作時,氣體由氣體進口 7頂端進入后,由氯化氫通道5上行,從噴嘴 氣體出口 9頂端出來,對噴板上噴嘴周圍堆積的硅粉6進行吹動。由于噴嘴氣體出口 9與 氣體進口 7間呈40° -50°的夾角,方便吹動噴嘴氣體出口方向以下的硅粉,不會形成硅粉 死角,減少了硅粉在氣體分布器周圍的總停留時間,減少了硅粉在噴板上的堆積量,有效減 少了噴嘴的堵塞次數(shù),減少了檢修工作量。在噴板上每三個噴嘴按正三角形分布,加大氣體與硅粉的有效接觸面積,更能有 效沖動硅粉,提高硅粉的使用率,使氣體與硅粉充分反應(yīng),傳熱效果更佳,使之反應(yīng)溫度穩(wěn) 定,減少副產(chǎn)品四氯化硅的生成。經(jīng)生產(chǎn)證明,采用本實用新型,半成品含量能達到90%。
      權(quán)利要求1.氣體分布器,由噴板和噴嘴組成,噴嘴由噴嘴螺紋固定在噴板上,噴嘴中有氯化氫通 道,噴板上堆積硅粉,其特征在于在氯化氫通道下端有氣體進口、上端有氣體出口,在噴板 上每三個噴嘴按正三角形分布,噴嘴氣體出口與氣體進口呈40° -50°的夾角。
      專利摘要本實用新型涉及一種沸騰爐式三氯氫硅反應(yīng)器內(nèi)的氣體分布器。由噴板和噴嘴組成,噴嘴中有氯化氫通道,噴板上堆積硅粉,在噴板上每三個噴嘴按正三角形分布,噴嘴氣體出口與氯化氫通道間呈40°-50°的夾角。本實用新型噴嘴在噴板上按正三角形分布,噴嘴氣體出口與氯化氫通道間呈40°-50°的夾角,能更加有效分布氣體,有效沖動硅粉,避免死角的形成;加大氣體與硅粉的有效接觸面積,提高硅粉的使用率;減少硅粉在氣體分布器周圍的總停留時間,減少硅粉在噴板上的堆積量,有效減少噴嘴的堵塞次數(shù),減少檢修工作量;氣體與硅粉充分反應(yīng),傳熱效果更佳,反應(yīng)溫度穩(wěn)定,減少副產(chǎn)品四氯化硅的生成。經(jīng)生產(chǎn)證明,采用本實用新型,半成品含量能達到90%。
      文檔編號B01J8/24GK201906597SQ20102065367
      公開日2011年7月27日 申請日期2010年12月8日 優(yōu)先權(quán)日2010年12月8日
      發(fā)明者徐智, 楊霖, 石明勝, 羅濤, 閔運豪 申請人:湖北江鉆天祥化工有限公司
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