專利名稱：：具有用臭氧分解nox的廢氣清潔系統(tǒng)的滅菌器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及用于醫(yī)療器械例如醫(yī)用的剪刀和導(dǎo)管以及其他滅菌可靠性要求提高的待滅菌物品的滅菌裝置、引入滅菌裝置的排氣系統(tǒng)和通過使用滅菌裝置實(shí)施的滅菌方法。
背景技術(shù)：
：按照慣例，已經(jīng)廣泛地使用用于殺滅例如存在于待滅菌物品上的細(xì)菌和病毒的氣體滅菌裝置，其中，將待滅菌物品例如醫(yī)療器械在殺菌劑氣體例如氮氧化物(下文也簡(jiǎn)稱作“NOx”)、臭氧和H2A的氣氛中容納一段時(shí)期。然而，由于許多滅菌方法在市區(qū)在例如醫(yī)院和實(shí)驗(yàn)室實(shí)施，因此用過的殺菌劑氣體需要在進(jìn)行中性化處理后釋放至大氣中。例如，在使用通過殺菌劑氣體生成組合物(composition)例如碳類二醇二氮烯鐺化合物產(chǎn)生的一氧化氮(下文也簡(jiǎn)稱作“NO”)或NO和二氧化氮(下文也簡(jiǎn)稱作“N02”)的混合物的滅菌裝置中，已采用處理方法，通過該處理方法，使用用于將NO轉(zhuǎn)化成NO2的氧化劑和用于收集NO2的吸收劑去除殺菌劑氣體。通過使用該方法，報(bào)道稱可以將NO、NO2和NOx的濃度降低至LTWA水平(日本未經(jīng)審查的專利公開第521118Λ007號(hào))。另外可選地，在使用環(huán)氧乙烷的滅菌裝置中，通過下述方法純化廢氣在填充有吸收劑例如活性炭、水和稀硝酸或熱催化劑的氣體處理池中使廢氣循環(huán)多次，以吸收環(huán)氧乙烷氣體(日本未經(jīng)審查的專利公開第312709/2000號(hào))。另一方面，作為去除柴油機(jī)的廢氣中的NOx的方法，已采用所謂的SCR方法，其中在發(fā)動(dòng)機(jī)的廢氣通道中提供SCR催化劑，在SCR催化劑的上游側(cè)設(shè)置用于供應(yīng)還原劑例如氨的還原劑進(jìn)料裝置，以便通過SCR催化劑的催化作用使用從還原劑進(jìn)料裝置供應(yīng)的氨來還原廢氣中的Ν0χ(日本未經(jīng)審查的專利公開第303^6/^2000號(hào))。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的發(fā)明人發(fā)明了已在另一專利申請(qǐng)中提交的高濃度NO2發(fā)生方法，并且已研發(fā)出通過使用經(jīng)上述方法獲得的高濃度NO2氣體而可靠性大大增強(qiáng)的滅菌裝置。然而，由于從滅菌裝置中排出的廢氣含有高濃度NO2氣體，通過任何常規(guī)的NOx處理方法和裝置均無法使所述廢氣在預(yù)定時(shí)間內(nèi)變得無害至安全級(jí)別。結(jié)果，存在如下問題使用高濃度NO2氣體的滅菌裝置在諸如醫(yī)療點(diǎn)不能實(shí)際應(yīng)用。鑒于上述情形，在設(shè)置臭氧發(fā)生器、利用通過臭氧或NO2的五氧化二氮(N2O5)或硝酸的轉(zhuǎn)化反應(yīng)的廢氣處理裝置和用于排出廢氣的排氣裝置的基礎(chǔ)上，本發(fā)明意在提供排氣系統(tǒng)，其可以有效并可靠地純化濃度超出正常水平的高濃度NO2廢氣。本發(fā)明的排氣系統(tǒng)是通過使用高濃度NO2氣體將對(duì)待滅菌物品進(jìn)行滅菌用過的廢氣排出的排氣系統(tǒng)，其包括臭氧發(fā)生器(ozonegenerator)、用于吸附臭氧發(fā)生器產(chǎn)生的臭氧和廢氣中的NO2并通過臭氧和NO2的反應(yīng)加速五氧化二氮或硝酸的產(chǎn)生以保留生成物(resultant)的氣體處理裝置、以及用于排出廢氣的排氣裝置。4換句話說，本發(fā)明是通過使用高濃度NO2氣體將對(duì)待滅菌物品進(jìn)行滅菌用過的廢氣排出的排氣系統(tǒng)，其包括臭氧發(fā)生器；用于吸附臭氧發(fā)生器產(chǎn)生的臭氧和廢氣中的no2、并通過臭氧和NO2的反應(yīng)加速五氧化二氮或硝酸的產(chǎn)生以保留生成物的氣體處理裝置；以及用于排出廢氣的排氣裝置。優(yōu)選地，臭氧發(fā)生器包括臭氧化發(fā)生器(ozonizer)和用于儲(chǔ)存臭氧化發(fā)生器產(chǎn)生的臭氧的臭氧室。優(yōu)選地，在氣體處理裝置的上游側(cè)還設(shè)置有用于調(diào)節(jié)廢氣中的NO2與臭氧的混合比的緩沖部。優(yōu)選地，氣體處理裝置使用吸附催化劑。優(yōu)選地，排氣裝置多次排出滅菌用過的廢氣。本發(fā)明是包括下述構(gòu)造的滅菌裝置。所述滅菌裝置包括(a)通過循環(huán)路徑配置的NO2氣體供應(yīng)系統(tǒng)，其中連接有用于儲(chǔ)存高濃度NO2氣體的腔室、等離子體發(fā)生器和循環(huán)裝置，(b)經(jīng)由第一開/關(guān)裝置與腔室連接的滅菌室，和(c)經(jīng)由第二開/關(guān)裝置與滅菌室連接的排氣系統(tǒng)。優(yōu)選地，腔室經(jīng)由第三開/關(guān)裝置與排氣系統(tǒng)連接。優(yōu)選地，滅菌室設(shè)置有用于將滅菌室中的高濃度N02氣體經(jīng)由NO2傳感器返回至滅菌室的測(cè)量路徑。優(yōu)選地，多個(gè)滅菌室與單個(gè)排氣系統(tǒng)連接。此外，本發(fā)明是使用滅菌裝置的滅菌方法，其中在排出對(duì)待滅菌物品進(jìn)行滅菌用過的高濃度NO2氣體的排出步驟中，將高濃度NO2氣體以預(yù)定的NO2氣體含量部分排出至排氣系統(tǒng)。使用滅菌裝置的滅菌方法，其中在對(duì)待滅菌物品進(jìn)行滅菌的滅菌步驟之后排出用過的高濃度NO2氣體的氣體排出步驟中，重復(fù)下述操作當(dāng)?shù)谝婚_/關(guān)裝置關(guān)閉、且第二開/關(guān)裝置打開時(shí)，通過排氣系統(tǒng)的排氣裝置將滅菌室中的高濃度N02氣體排出至廢氣處理裝置，以在滅菌室中獲得負(fù)壓，隨后，通過打開第一開/關(guān)裝置和關(guān)閉第二開/關(guān)裝置，通過負(fù)壓將殘留在室中的高濃度NO2氣體抽吸至滅菌室內(nèi)。另外，本發(fā)明是使用滅菌裝置的滅菌方法，其包括以下步驟(d)將待滅菌物品放置在滅菌室中(放置步驟)，(e)對(duì)滅菌室的內(nèi)部進(jìn)行抽真空(抽真空步驟)，(f)對(duì)滅菌室的內(nèi)部進(jìn)行增濕(增濕步驟)，(g)打開第一開/關(guān)裝置，以將通過NO2氣體系統(tǒng)產(chǎn)生并儲(chǔ)存在腔室中的NO2氣體供應(yīng)至滅菌室(供應(yīng)步)，(h)將干燥的氣體混合物充入腔室中(充氣步驟)，和(i)通過驅(qū)動(dòng)NO2氣體供應(yīng)系統(tǒng)產(chǎn)生NO2氣體(循環(huán)步驟)，其中步驟(g)至(i)重復(fù)多次。優(yōu)選地，在步驟(h)充氣步驟之前，進(jìn)行以下步驟關(guān)閉第一開/關(guān)裝置并打開第三開/關(guān)裝置步驟，以將腔室和排氣系統(tǒng)直接連接，以用排氣系統(tǒng)將殘留在腔室中的NO2氣體排出，并對(duì)腔室進(jìn)行抽真空(排氣步驟)。圖1是示例說明根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的排氣系統(tǒng)的構(gòu)造的解釋性視圖。圖2是示例說明根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的排氣系統(tǒng)的構(gòu)造中的等離子體發(fā)生部的解釋性視圖。圖3是示例說明根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的排氣系統(tǒng)的構(gòu)造中的等離子體發(fā)生器的解釋性視圖。圖4是示例說明根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的排氣系統(tǒng)的解釋性視圖。具體實(shí)施例方式下文通過參照附圖描述本發(fā)明的實(shí)施方式。排氣系統(tǒng)是如下系統(tǒng)通過該系統(tǒng)將用高濃度NO2氣體對(duì)待滅菌物品進(jìn)行滅菌用過的廢氣排出。在本實(shí)施方式中，將該系統(tǒng)用于能在醫(yī)療器械和其它待滅菌物品上有效地實(shí)施滅菌操作的滅菌裝置。下文首先描述所述滅菌裝置的實(shí)施方式。在本實(shí)施方式的滅菌裝置中，示例說明滅菌裝置，將該裝置配置成包括用于產(chǎn)生高濃度NO2氣體的NO2氣體供應(yīng)系統(tǒng)、用于將容納的待滅菌物品用高濃度NO2氣體滅菌的滅菌室、和用于使廢氣即滅菌用過的高濃度NO2氣體無害的排氣系統(tǒng)。如圖1所示，NO2氣體供應(yīng)系統(tǒng)包括將腔室1、等離子體發(fā)生器2和循環(huán)裝置3連接的循環(huán)路徑4。更具體地，循環(huán)路徑4配置成包括腔室1、在所述路徑的下游側(cè)經(jīng)導(dǎo)管與腔室1連接的流阻部(flowresistiveportion)5、在所述路徑的下游側(cè)經(jīng)導(dǎo)管與流阻部5連接的等離子體發(fā)生器2和在所述路徑的下游側(cè)經(jīng)導(dǎo)管與等離子體發(fā)生器2連接的循環(huán)裝置3。循環(huán)裝置3在所述路徑的下游側(cè)進(jìn)一步經(jīng)導(dǎo)管與腔室1連接，使得由腔室1、流阻部5、等離子體發(fā)生器2和循環(huán)裝置3形成環(huán)狀循環(huán)路徑4。通過運(yùn)行循環(huán)裝置3，使包括氮?dú)夂脱鯕獾臍怏w混合物在循環(huán)路徑4中循環(huán)，以產(chǎn)生N02。在本說明書中，從外部供應(yīng)至高濃度NO2發(fā)生系統(tǒng)的作為成分的包括氮?dú)夂脱鯕獾臍怏w稱作氣體混合物，通過經(jīng)由等離子體發(fā)生器2循環(huán)至少一次產(chǎn)生的包括NOx的氣體稱作NOx氣體混合物，并且通過重復(fù)上述循環(huán)實(shí)現(xiàn)所需的NO2濃度水平的氣體稱作高濃度NO2氣體。腔室1是用于容納要產(chǎn)生的高濃度NO2氣體的密封隔間。在本實(shí)施方式中，腔室1為矩形盒狀，然而，它可以為球形或圓柱形。由于本實(shí)施方式的腔室1形成循環(huán)路徑4，因此形成有流出口、流入口和用于帶出(takeout)高濃度NO2的可開關(guān)的氣體供應(yīng)口。在本實(shí)施方式中，流阻部5由孔板(orifice)fe形成?？装錰e設(shè)置在腔室1下游側(cè)的管道中，并形成孔板流量計(jì)。因此，在本實(shí)施方式中，有利之處在于可以測(cè)量從腔室1循環(huán)出去的氣體的流量。除了孔板如之外，流阻部5還可以設(shè)置成將腔室1下游側(cè)的管道的一部分設(shè)為窄管，以增加該部分的流阻率。如圖2和3所示，等離子體發(fā)生器2是能夠在常溫常壓下通過使用微波產(chǎn)生等離子體的單元，并且通常配置成包括用于產(chǎn)生具有預(yù)定波長(zhǎng)微波的微波發(fā)生裝置2a、與微波發(fā)生裝置加連接以傳送微波的波導(dǎo)2b、和與波導(dǎo)2b整體設(shè)置的等離子體發(fā)生部2c。微波發(fā)生裝置加產(chǎn)生例如2.45GHz的微波，并將微波傳送至波導(dǎo)2b內(nèi)。因此，微波發(fā)生裝置加包括例如用于產(chǎn)生微波的磁控管的微波發(fā)生源、用于將在微波發(fā)生源處產(chǎn)生的微波的功率調(diào)節(jié)至預(yù)定功率強(qiáng)度的放大器、和用于將微波發(fā)射至波導(dǎo)2b內(nèi)的微波傳送天線。作為用于等離子體發(fā)生器2的微波發(fā)生裝置加，例如能夠輸出IW至3W微波能量的連續(xù)可變型(continuousvariabletype)裝置是適用的。波導(dǎo)2b由非磁性金屬(例如鋁)制成，例如，為具有矩形橫截面的管狀，并將微波發(fā)生裝置加產(chǎn)生的微波傳送至等離子體發(fā)生部2c。本實(shí)施方式的波導(dǎo)2b通過方形管狀組件進(jìn)行設(shè)置，使用由金屬平板制成的頂板和底板以及兩個(gè)側(cè)板。除該板狀組件之外，波導(dǎo)也可以通過例如板部件的擠壓或彎曲處理而形成。而且，除具有矩形橫截面的波導(dǎo)2b之外，也可以使用具有卵形(oval)橫截面的波導(dǎo)2b。此外，不僅僅是非磁性金屬，波導(dǎo)也可以由各種具有波導(dǎo)特性的元件設(shè)置而成。在本實(shí)施方式中，波導(dǎo)2b是接地的。等離子體發(fā)生部2c與波導(dǎo)2b整體配置，并包括穿過波導(dǎo)2b插入的棒狀傳導(dǎo)軸2d以及管狀傳導(dǎo)管2e。傳導(dǎo)軸2d進(jìn)一步設(shè)置有插入到波導(dǎo)2b中以接收微波的天線部2f、和在本實(shí)施方式中經(jīng)電絕緣體穿過波導(dǎo)2b插入的從波導(dǎo)2b向外突出的中央電極2g。本實(shí)施方式的傳導(dǎo)軸2d具有圓形橫截面，然而，可以采用具有橢圓形、卵形或長(zhǎng)卵形橫截面的傳導(dǎo)軸。本實(shí)施方式的傳導(dǎo)軸2d使用鈦形成，然而，也可以使用能夠傳送微波的材料例如鈦合金、銅、鉬、金和銀。在傳導(dǎo)軸2d(中央電極2g)的端部(tip)形成有由陶瓷制成的屏蔽膜2h，以防止電弧放電并保護(hù)電極。在本實(shí)施方式中，傳導(dǎo)管加具有大體的圓柱形，其內(nèi)徑形成為要大于傳導(dǎo)軸2d的外徑。傳導(dǎo)管設(shè)置成覆蓋從波導(dǎo)2b向外突出的中央電極2g，且中央電極在中心處，并且在中央電極2g和傳導(dǎo)管加之間形成有環(huán)形空間2i。傳導(dǎo)管加的底端(baseend)是導(dǎo)電性的，且相對(duì)于波導(dǎo)2b固定，傳導(dǎo)管2e由此經(jīng)波導(dǎo)2b接地。除了圓形橫截面之外，傳導(dǎo)管2e還可以具有例如矩形橫截面或卵形橫截面。然而，形成其端部形成為其長(zhǎng)度在與中央電極2g的端部基本上相同的位置終止。應(yīng)注意的是本實(shí)施方式的傳導(dǎo)管加使用不銹鋼制成，然而，它可以由例如鋁制成。在本實(shí)施方式的傳導(dǎo)管加中，在朝向其底端的位置設(shè)置有通風(fēng)口。通過將從流阻部5延伸的管道2j與通風(fēng)口連接，配置從流阻部5連接至等離子體發(fā)生器2的循環(huán)路徑4。在循環(huán)路徑4中流動(dòng)的氣體混合物經(jīng)過環(huán)形空間2i內(nèi)部向中央電極2g的端部移動(dòng)。此外，在傳導(dǎo)管加的外邊緣(outsideedge)，插入有陶瓷屏蔽管業(yè)，以防止相對(duì)于中央電極2g的電弧放電。屏蔽管業(yè)的外邊緣與進(jìn)一步導(dǎo)向路徑下游的管道2j連接，從而形成循環(huán)路徑4。在由此配置的等離子體發(fā)生部2c中，微波發(fā)生裝置2a(磁控管)產(chǎn)生的2.45GHz的微波(功率可調(diào))從設(shè)置在波導(dǎo)2b—端的微波發(fā)生裝置加的微波被傳送天線發(fā)射至等離子體發(fā)生部2c。發(fā)射的微波在波導(dǎo)2b中傳送，并由等離子體發(fā)生部2c中的傳導(dǎo)軸2d的天線部2f接收。由此由天線部2f接收的微波在傳導(dǎo)軸2d的表面上傳送，并達(dá)到中央電極2g的端部。中央電極2g的端部與波導(dǎo)2b電連接，并設(shè)置在地電位(groundpotential)的傳導(dǎo)管2e的端部附近。通過微波到達(dá)中央電極2g的端部，在傳導(dǎo)管2e的端部和中央電極2g的端部之間，尤其是在中央電極2g的端部附近，形成有強(qiáng)電場(chǎng)。應(yīng)注意的是，傳導(dǎo)軸2d形成為在2.45GHz波段具有諧振點(diǎn)，使得在中央電極2g的端部部分有效地形成強(qiáng)電場(chǎng)。通過由此形成的強(qiáng)電場(chǎng)，在經(jīng)循環(huán)路徑4供應(yīng)的氣體混合物中包括的氮?dú)夂脱鯕庵邪l(fā)生部分離子化。結(jié)果，組成數(shù)萬攝氏度下的電子、基本常溫下的離子、基本常溫下的中性原子和基本常溫下的中性分子的集合體(aggregate)。廣泛地，該條件是電中性的，換句話說，形成等離子體狀態(tài)，更具體地說，形成低溫等離子體(非平衡等離子體)狀態(tài)。換句話說，在中央電極2g的末端附近的氣體混合物的氮?dú)夂脱鯕馔ㄟ^微波形成的強(qiáng)電場(chǎng)被激發(fā)，從而發(fā)生介電擊穿，并從分子狀態(tài)轉(zhuǎn)換為低溫等離子體(非平衡等離子體)狀態(tài)。低溫等離子體狀態(tài)下的氣體具有相對(duì)于其他低溫等離子體狀態(tài)或分子狀態(tài)下的氣體的高反應(yīng)性。因此，將主要包括氮?dú)夂脱鯕獾臍怏w混合物引入等離子體發(fā)生部2c中時(shí)，其部分轉(zhuǎn)化成例如一氧化氧和二氧化氮的氮氧化物或者轉(zhuǎn)化成臭氧。1·Ν2+02—2N02.Ν2+202—2Ν023.302—203應(yīng)注意的是轉(zhuǎn)化比例在式1的情況下最高。根據(jù)式1產(chǎn)生的部分一氧化氮與等離子體發(fā)生部2c中處于低溫等離子體狀態(tài)下的氧結(jié)合，并轉(zhuǎn)化成二氧化氮。4.2N0+02—2N02由此產(chǎn)生的包括NO2的NOx氣體混合物經(jīng)由循環(huán)路徑4循環(huán)，或者保留在腔室1中。此時(shí)，根據(jù)式1產(chǎn)生的一氧化氮逐步與NOx氣體混合物中的氧或者與根據(jù)式3產(chǎn)生的臭氧反應(yīng)，并進(jìn)一步轉(zhuǎn)化成二氧化氮，如式5和6所示。結(jié)果，NO2濃度增加。5.2N0+02—2N026.N0+03—N02+02根據(jù)式3產(chǎn)生的臭氧與NOx氣體混合物中的氮?dú)夥磻?yīng)，產(chǎn)生一氧化氮。7.N2+203—2N0+202該一氧化氮也通過式5和6的反應(yīng)轉(zhuǎn)化成二氧化氮。以這種方式，當(dāng)NOx氣體混合物反復(fù)在循環(huán)路徑中循環(huán)時(shí)，二氧化氮的濃度逐漸增加，就獲得具有所需NO2濃度水平的高濃度NO2氣體。然而，當(dāng)產(chǎn)生的一氧化氮氧化氮再次通過等離子體發(fā)生器2時(shí)，發(fā)生如下現(xiàn)象其中一部分通過離解反應(yīng)再次變成低溫等離子體狀態(tài)，從而變回至氮?dú)饣蜓鯕?。因而，?dāng)NOx氣體混合物的濃度通過反復(fù)循環(huán)達(dá)到一定水平的高濃度NO2氣體時(shí)，氮氧化物的產(chǎn)生和氮氧化物的解離落入平衡狀態(tài)，因此在一定的濃度下，加強(qiáng)不會(huì)再繼續(xù)。在本實(shí)施方式的高濃度NO2氣體發(fā)生系統(tǒng)中，包括單個(gè)等離子體發(fā)生器2的循環(huán)路徑4如圖1所示示例說明。然而，可以將兩個(gè)或三個(gè)或更多個(gè)等離子體發(fā)生器2并行連接以形成循環(huán)路徑4。由于在該情況下可以在短時(shí)間內(nèi)產(chǎn)生高濃度NO2氣體，這更為優(yōu)選。此外，循環(huán)路徑4可以在等離子體發(fā)生器2中分叉，以便為每個(gè)分叉路徑提供等離子體發(fā)生部2c。在本實(shí)施方式中，循環(huán)裝置3通過使用壓力裝置6配置。也可以使用風(fēng)扇作為循環(huán)裝置3。作為壓力裝置6，可以優(yōu)選采用空氣泵，也可以使用鼓風(fēng)機(jī)或空氣壓縮機(jī)。對(duì)于空氣泵，可以使用功率約20至100瓦并且由氟橡膠制成的隔膜泵、由陶瓷制成的柱塞泵或風(fēng)箱式泵(bellowspump)。壓力裝置6設(shè)置在用于連接等離子體發(fā)生器2和室1的管道中，并在路徑的下游側(cè)與腔室1連接以施加壓力。如上所述，本實(shí)施方式的高濃度NO2氣體發(fā)生系統(tǒng)通過將腔室1、流阻部5、等離子體發(fā)生器2和壓力裝置6經(jīng)管道循環(huán)連接而構(gòu)成循環(huán)路徑4。通過運(yùn)行壓力裝置6，從入口部7引入的空氣(氣體混合物)經(jīng)過循環(huán)路徑4流動(dòng)，并產(chǎn)生NOx氣體混合物，該氣體混合物包括由經(jīng)過等離子體發(fā)生器2時(shí)置換成低溫等離子體(非平衡等離子體)狀態(tài)的氮和氧的反應(yīng)而產(chǎn)生的一氧化氮和二氧化氮。當(dāng)一氧化氮逐步與NOx氣體混合物中的氧以及與臭8氧反應(yīng)時(shí)，其轉(zhuǎn)化成二氧化氮。由此可以通過二氧化氮濃度的逐漸增加來產(chǎn)生高濃度N02氣體。在本實(shí)施方式中，在腔室1的下游側(cè)設(shè)置有NO2濃度測(cè)量傳感器8。用該傳感器，可以測(cè)量NO2的濃度。此外，氣體干燥裝置9，用于調(diào)節(jié)要引入腔室1中的空氣的露點(diǎn)。對(duì)于氣體干燥裝置9，例如可以使用依靠裝填在兩個(gè)管中的分子篩的自再生系統(tǒng)。另外，腔室1設(shè)置有壓力計(jì)la，等離子體發(fā)生器2設(shè)置有壓力表(未顯示)。于是，可以控制腔室1和等離子體發(fā)生器2中的壓力，且可以檢查壓力是否異常。在本實(shí)施方式中，滅菌室10構(gòu)成用于醫(yī)療器械的滅菌裝置的主要部分，其包括用于裝卸待滅菌物品的開口、能夠密封開口的屏蔽門、用于引入高濃度NO2氣體的氣體供應(yīng)口和用于在滅菌后排出廢氣的氣體排出口。屏蔽門在外周設(shè)置有密封材料用于獲得密封特性。對(duì)于本實(shí)施方式的密封材料，從氣密性和耐腐蝕性的觀點(diǎn)來看，使用含氟彈性體。優(yōu)選地，當(dāng)屏蔽門設(shè)置有聯(lián)鎖(interlock)時(shí)安全性增加，所述聯(lián)鎖在下述情況下不允許打開門滅菌室10中的NO2氣體濃度等于或高于對(duì)人類有害的水平。供應(yīng)管IOa從氣體供應(yīng)口設(shè)置至NO2氣體供應(yīng)系統(tǒng)的腔室1。儲(chǔ)存在腔室1中的高濃度NO2氣體通過供應(yīng)管并從氣體供應(yīng)口供應(yīng)至滅菌室10。另外，供應(yīng)管設(shè)置有使用空氣驅(qū)動(dòng)閥的第一開/關(guān)裝置10b，并且通過第一開/關(guān)裝置IOb的開/關(guān)控制來控制高濃度NO2氣體到滅菌室10的供應(yīng)。滅菌室10設(shè)置有測(cè)量路徑，其通過泵抽吸腔室中的NO2氣體，以用NO2傳感器11測(cè)量其濃度并將氣體返回至滅菌室10。在本實(shí)施方式的測(cè)量路徑中，該路徑在中間分成兩條路徑，以分別設(shè)置用于高濃度測(cè)量和低濃度測(cè)量的兩個(gè)NO2傳感器lla、llb，使得可以高精度地進(jìn)行濃度測(cè)量。如圖1和4所示，排氣系統(tǒng)12在滅菌操作后生成高濃度NO2氣體(廢氣)，并充在滅菌室10中以對(duì)于排出無害。排氣系統(tǒng)配置成包括臭氧發(fā)生器13、用于調(diào)節(jié)從臭氧發(fā)生器13供應(yīng)的臭氧和廢氣的混合比的緩沖部14、氣體處理裝置15、臭氧處理裝置16和排氣裝置17。在排氣裝置17的下游和緩沖部的上游，配置成包括除濕部Dl和廢氣流量計(jì)(flowmeter)Flο在本實(shí)施方式中，除濕部Dl由硅膠組成。硅膠的作用在于防止因流量計(jì)內(nèi)部的露滴造成的廢氣流量計(jì)的故障，并通過吸附高濃度NO2氣體(廢氣)中包括的濕氣來提高下游氣體處理裝置15的效率。應(yīng)注意的是部分NO2被硅膠吸收。廢氣流量計(jì)Fl測(cè)量要排出的廢氣的流量。在本實(shí)施方式中，臭氧發(fā)生器13包括臭氧化發(fā)生器18、臭氧室19、臭氧排出裝置20和臭氧流量控制器21。臭氧化發(fā)生器18(臭氧發(fā)生器)是用于在電極之間應(yīng)用高電壓的裝置，所述電極設(shè)置有電解質(zhì)以對(duì)填充在放電間隙中的空氣和氧氣放電，以將空氣或氧氣轉(zhuǎn)化成臭氧。臭氧發(fā)生器廣泛用作環(huán)境設(shè)備。臭氧室19是體積約40至80L的容器形式的小空間，其與臭氧化發(fā)生器18連接，以暫時(shí)儲(chǔ)存臭氧化發(fā)生器18產(chǎn)生的臭氧。通過設(shè)置該臭氧室19，通過與高濃度NO2氣體的化學(xué)反應(yīng)產(chǎn)生的五氧化二氮或硝化作用所需的臭氧就可以通過低功率的臭氧發(fā)生器13供應(yīng)，使得可以安全地使高濃度NO2氣體無害。通過臭氧排出裝置20和臭氧流量控制器21調(diào)節(jié)來自臭氧室19的臭氧排出體積。9具體地，臭氧流量控制器21是基于廢氣流量計(jì)Fl測(cè)得的廢氣流量可以控制臭氧流量的調(diào)節(jié)閥。因此，可以調(diào)節(jié)高濃度NO2的流量和臭氧流的混合比，而且可以傳輸相對(duì)于廢氣中包括的NO2W充足的臭氧。緩沖部14是具有約IOL體積的容器形式的小空間。取決于壓力填充臭氧用的泵中壓力波動(dòng)，供應(yīng)的臭氧的量發(fā)生波動(dòng)，相對(duì)于時(shí)間軸落入過量側(cè)(excessive)或短缺側(cè)(shortside)。然而，供應(yīng)的波動(dòng)大的臭氧的量可以通過如下方法加以平均化基于廢氣流量計(jì)Fl用臭氧流量控制器21控制來自臭氧室19的臭氧的流量，并將臭氧送至緩沖部14用于混合，以及將氣體混合物保留在緩沖部14中。在本實(shí)施方式中，氣體處理裝置15通過在位于緩沖部14下游側(cè)的廢氣路徑上設(shè)置有含有吸附催化劑的處理部而配置。吸附催化劑是用于優(yōu)異地吸附NO2和臭氧、并加速吸附的NO2和臭氧的反應(yīng)以化學(xué)轉(zhuǎn)化成N2O5的催化劑，或者用于通過NO2與殘留蒸汽的反應(yīng)產(chǎn)生HNO3的催化劑。在本實(shí)施方式中，使用沸石作為吸附催化劑。在沸石當(dāng)中，由于可以有效地吸附NO2，優(yōu)選使用硅沸石。臭氧處理裝置16位于氣體處理裝置15的下游，并用作分解與NO2的反應(yīng)中的過量臭氧的臭氧分解裝置。以該設(shè)置，可以通過將臭氧濃度控制至預(yù)定水平或更低水平而將其排出。由此配置的氣體處理裝置15吸附其中的NO2和臭氧在緩沖部14中被調(diào)節(jié)至適當(dāng)混合比的氣體混合物，并通過NO2和臭氧將氣體化學(xué)轉(zhuǎn)化成隊(duì)05，或者通過NO2和殘留蒸汽的反應(yīng)加速HNO3W產(chǎn)生。由此去除廢氣中的NO2,使廢氣無害。此外，由于NO2通過與臭氧發(fā)生化學(xué)反應(yīng)產(chǎn)生隊(duì)05或HNO3來清除，即使NO2的濃度高，也可以有效地清除N02。在使用高濃度NO2的滅菌裝置中，可以在實(shí)際上適當(dāng)?shù)臅r(shí)間內(nèi)實(shí)施可靠的廢氣處理。另外，在本實(shí)施方式中，在臭氧處理裝置16的下游側(cè)設(shè)置有NO2傳感器和臭氧傳感器，以檢查是否已使廢氣無害。在氣體處理裝置15中，由于氣體混合物的NO2和臭氧被化學(xué)轉(zhuǎn)化而產(chǎn)生隊(duì)05或HNO3,緩沖部14中存在的氣體混合物中的NO2*臭氧的適當(dāng)?shù)幕旌媳瓤紤]為21。然而，實(shí)際上，由于臭氧很可能在高壓環(huán)境下分解，特別是由于管道和各個(gè)容器由金屬制成，那些金屬起到催化劑的作用，進(jìn)一步加速了分解。由此，使氣體混合物中的NO2和臭氧的混合比成為例如臭氧的比例大于21，且混合比優(yōu)選為21至12。在本實(shí)施方式中，該比例為32。由此配置的排氣系統(tǒng)通過其間的排氣管22與滅菌室10的氣體排出口連接。更具體地，從滅菌室10延伸的排氣管22與緩沖部14連接，以便于將從滅菌室10排出的廢氣轉(zhuǎn)移至緩沖部14。另外，排氣管22設(shè)置有使用空氣驅(qū)動(dòng)閥的第二開/關(guān)裝置23，且通過第二開/關(guān)裝置23的開/關(guān)控制來控制廢氣至緩沖部14的轉(zhuǎn)移。排出裝置17用于抽吸殘留在滅菌室10中的廢氣并將氣體轉(zhuǎn)移至排氣系統(tǒng)，且在通過氣體處理裝置15使氣體無害后，通過使用例如空氣泵和風(fēng)扇賦予廢氣流能量。在本實(shí)施方式中，將空氣泵設(shè)置在排出管22中。控制本實(shí)施方式的排氣裝置17，使得滅菌室10中的廢氣立刻排出。然而，可以控制該裝置使得將氣體多次排出至緩沖部14。通過該方式，在將廢氣多次供應(yīng)至廢氣處理裝置15的情況下，有利的是可以可靠地使廢氣無害。在本實(shí)施方式中，NO2氣體供應(yīng)系統(tǒng)的腔室1與排氣系統(tǒng)通過設(shè)置有第三開/關(guān)裝置M的旁通管25連接。通過打開第三開/關(guān)裝置對(duì)，可以通過驅(qū)動(dòng)排氣系統(tǒng)的排氣裝置17來進(jìn)行對(duì)腔室1內(nèi)部進(jìn)行抽真空的排氣步驟。此外，通過排氣系統(tǒng)使殘留在腔室1中的NO2氣體無害以安全排出。在本實(shí)施方式中，配置滅菌裝置，其中一個(gè)滅菌室10與排氣系統(tǒng)經(jīng)排出管22連接。另外可選地，可以設(shè)置多型裝置，其中來自多個(gè)滅菌室10的排氣管22與單個(gè)排氣系統(tǒng)連接，而且可以控制僅在排出廢氣時(shí)需要的排氣系統(tǒng)，使得系統(tǒng)在共享的情況下被驅(qū)動(dòng)。由于共享的排氣系統(tǒng)可以相對(duì)于多個(gè)滅菌室10起作用，作為整個(gè)滅菌裝置就不存在多余部分，可以使該裝置緊湊。下文描述通過使用滅菌裝置的本發(fā)明的滅菌方法的實(shí)施方式。所述滅菌方法包括下述步驟(1)將待滅菌的物品放置在滅菌室10中(放置步驟)，(2)對(duì)滅菌室10的內(nèi)部進(jìn)行抽真空(抽真空步驟)，(3)對(duì)滅菌室10的內(nèi)部進(jìn)行增濕(增濕步驟)，(4)打開第一開/關(guān)裝置10b，以將通過NO2氣體系統(tǒng)產(chǎn)生并儲(chǔ)存在腔室1中的NO2供應(yīng)至滅菌室10(供應(yīng)步驟)，(5)關(guān)閉第一開/關(guān)裝置IOb并打開第三開/關(guān)裝置24，以將腔室1和排氣系統(tǒng)直接連接，以用排氣系統(tǒng)將殘留在腔室1中的NO2氣體排出，并對(duì)腔室進(jìn)行抽真空(排氣步驟)，(6)將干燥的氣體混合物充入腔室1中(充氣步驟)，(7)通過驅(qū)動(dòng)NO2氣體供應(yīng)系統(tǒng)產(chǎn)生NO2氣體(循環(huán)步驟)，(8)通過滅菌室10中充入的高濃度NO2氣體對(duì)待滅菌物品進(jìn)行滅菌(滅菌步驟)，(9)從滅菌室10中排出用過的高濃度NO2氣體(排氣步驟)。在放置步驟中，滅菌室10的屏蔽門為開，待滅菌物品通過將其從開口插入內(nèi)部而放置。為了不防止與高濃度NO2氣體的接觸，待滅菌物品可以根據(jù)其形態(tài)適當(dāng)?shù)胤旁诎仓门_(tái)(placementtable)上。在將多個(gè)待滅菌物品同時(shí)滅菌的情況下，可以以如下方式排列架子他們不相互重疊，且物品置于其上。在抽真空步驟中，通過驅(qū)動(dòng)排氣裝置的空氣泵排出腔室中的空氣，從而降低滅菌室10內(nèi)部的壓力。經(jīng)過該降壓，將細(xì)微的最里部例如待滅菌物品的孔中的空氣排出。當(dāng)在隨后的滅菌步驟中充入高濃度NO2氣體時(shí)，NO2氣體由此迅速進(jìn)入最里的細(xì)微部例如待滅菌物品的孔內(nèi)。結(jié)果，滅菌可靠性得以增加。增濕步驟使用設(shè)置在滅菌室10中的增濕裝置沈通過將蒸汽供應(yīng)至滅菌室10中而進(jìn)行。蒸汽經(jīng)過增濕步驟滲入例如待滅菌物品的孔的最里細(xì)微部，在該狀態(tài)下充入高濃度NO2氣體。在待滅菌物品的細(xì)微的最里部中達(dá)到用于滅菌的適當(dāng)?shù)臐穸群蚇O2濃度，結(jié)果滅菌的可靠性優(yōu)選地增加。充足的濕度和NO2濃度的結(jié)合有利于在微生物的表面上產(chǎn)生硝酸，并增強(qiáng)滅菌效果。除此之外，在本實(shí)施方式中還在增濕之后填充高濃度NO2氣體。因此，根據(jù)將高濃度NO2氣體充入滅菌室10中時(shí)出現(xiàn)的壓力增加，NO2進(jìn)入已經(jīng)增濕的待滅菌物品的細(xì)微的最里部并迅速轉(zhuǎn)化成硝酸。結(jié)果，有效地實(shí)現(xiàn)滅菌效果。在本實(shí)施方式中，增濕在減壓下經(jīng)過排空(evacuation)進(jìn)行。優(yōu)選地，在增濕裝置沈中在相對(duì)低的溫度下因此獲得蒸汽的產(chǎn)生，且蒸汽迅速進(jìn)入待滅菌物品的細(xì)微部。在供應(yīng)步驟中，通過首先驅(qū)動(dòng)NO2氣體系統(tǒng)，儲(chǔ)存在腔室1中的高濃度NO2氣體通過滅菌室10中的負(fù)壓而抽吸，所述滅菌室的壓力已經(jīng)通過真空化步驟而降低。高濃度NO2氣體通過具有打開的第一開/關(guān)裝置IOb的供應(yīng)管IOa以被供應(yīng)至滅菌室10。在完成供應(yīng)步驟時(shí)，第一開/關(guān)裝置IOb是關(guān)閉的。在排氣步驟中，通過打開第三開/關(guān)裝置M將腔室1和排氣系統(tǒng)經(jīng)由旁路管25連通。通過驅(qū)動(dòng)排氣系統(tǒng)的排氣裝置17(空氣泵)，抽吸殘留在腔室1中的NO2氣體，并通過用排氣系統(tǒng)使氣體無害而排出。同時(shí)，可以用抽吸力對(duì)腔室1進(jìn)行抽真空(排氣步驟)。因此，在本實(shí)施方式中，殘留在腔室1中的NO2氣體可以通過使氣體無害而排出，并且可以通過該系統(tǒng)的排氣裝置17的抽吸功能進(jìn)行腔室1的排氣步(抽真空)。于是，有利的是滅菌裝置有機(jī)協(xié)作以作為整體發(fā)揮作用。在充氣步驟中，新的干燥的氣體混合物通過在排氣步驟中已抽真空的腔室1的負(fù)壓而抽吸。在循環(huán)步驟中，等離子體發(fā)生器2的微波發(fā)生裝置加和壓力裝置6相對(duì)(arestared)。隨即，氣體混合物在循環(huán)路徑4中循環(huán)，氣體混合物的氮?dú)夂脱鯕庠诘入x子體發(fā)生器2的等離子體發(fā)生部2c中置換成低溫等離子體狀態(tài)。結(jié)果，產(chǎn)生氮氧化物例如一氧化氮和二氧化氮以及臭氧，以產(chǎn)生NOx氣體混合物。通過進(jìn)一步使NOx氣體混合物循環(huán)，NO2的濃度如上所述逐步增加，產(chǎn)生濃度5，000至100，OOOppm的高濃度NO2氣體。將循環(huán)步驟中產(chǎn)生的高濃度NO2氣體再次通過進(jìn)行供應(yīng)步驟而供應(yīng)至滅菌室10。以這種方式，在本實(shí)施方式中，通過重復(fù)排氣步驟、充氣步驟、循環(huán)步驟和供應(yīng)步驟，體積要大于腔室1體積的滅菌室10已在抽真空步驟中降低的內(nèi)部壓力增加，且NO2的濃度也逐步增加。通過填充NO2濃度為5，000至100，OOOppm的高濃度NO2氣體，將滅菌室10中的NO2濃度調(diào)節(jié)至9至100mg/L，更優(yōu)選地20至80mg/L，在本實(shí)施方式中為20至40mg/L。在NO2濃度低于9mg/L的情況下，不能獲得針對(duì)任意微生物需要的充足的滅菌效果。另一方面，在濃度高于100mg/L的情況下，在該濃度以上預(yù)計(jì)不會(huì)出現(xiàn)縮短滅菌時(shí)間的顯著差異，反而，與廢氣處理相關(guān)的問題變得很麻煩。在滅菌步驟中，通過放置步驟負(fù)載的待滅菌物品在充有具有預(yù)定NO2濃度的NO2氣體的滅菌室10中保留一段時(shí)間。盡管，滅菌的持續(xù)時(shí)間取決于例如滅菌室10中的NO2*度和待滅菌物品的類型的因素而不同，但滅菌優(yōu)選地維持10至480分鐘。在持續(xù)時(shí)間少于10分鐘的情況下，不會(huì)獲得針對(duì)任意微生物需要的充足的滅菌效果。另一方面，在持續(xù)時(shí)間超過480分鐘的情況下，超過該持續(xù)時(shí)間的滅菌效果沒有顯著差異，而且處理時(shí)間很可能不必要地延長(zhǎng)。在排氣步驟中，第二開/關(guān)裝置23為開，驅(qū)動(dòng)排氣系統(tǒng)的排氣裝置17。隨即，從滅菌室10中抽吸用過的高濃度NO2氣體(廢氣)，去除NO2,并通過氣體處理裝置15使其無害。在本實(shí)施方式中，根據(jù)氣體處理裝置15的處理能力，抽吸殘留在滅菌室10中的廢氣，并將其以預(yù)定的NO2氣體含量部分排出，即約3至10次。于是，有利的是即使對(duì)于具有高濃度NO2W廢氣也不需要過分地配置廢氣處理裝置，且可以可靠地使廢氣無害。當(dāng)?shù)谝婚_/關(guān)裝置為關(guān)、且第二開/關(guān)裝置為開時(shí)，驅(qū)動(dòng)排氣裝置17，以將滅菌室中的一定量高濃度NO2氣體排出至廢氣處理裝置15，使得滅菌室10的壓力為負(fù)。隨后，通過打開第一開/關(guān)裝置、并關(guān)閉第二開/關(guān)裝置，將殘留在腔室1中的高濃度NO2氣體通過負(fù)壓抽吸至滅菌室10。通過重復(fù)所述步驟多次，可以使殘留在滅菌室10和腔室1中的廢氣無害用于排出。于是，有利的是，也將保留在連接腔室1和滅菌室10的路徑(包括第一開/關(guān)裝置IOb)中的NO2氣體排出，并且整個(gè)滅菌裝置的排氣可以通過有效地使用排氣裝置17的抽吸能量而實(shí)施。下文通過實(shí)施例獲得在本發(fā)明的排氣系統(tǒng)中的NO2和臭氧之間的適當(dāng)?shù)幕旌媳取?shí)施例實(shí)施例1(制備高濃度NO2氣體)高濃度NO2氣體通過NO2氣體供應(yīng)系統(tǒng)而制備。使用空氣(露點(diǎn)-60°C)作為成分，且在等離子體發(fā)生器中的等離子體放電時(shí)間(plasmalightningtime)為25分鐘。產(chǎn)生的高濃度NO2的濃度為47kppm，且該氣體儲(chǔ)存在腔室中。就大氣壓(IOlkPa(絕對(duì)壓力))的分壓而言，這時(shí)的壓力為_5kPa(相對(duì)壓力)。(制備臭氧)通過使用臭氧化發(fā)生器(SGA-01-PSA2,由SumitomoPrecisionProductsCo.，Ltd制造)，使用空氣作為成分制備40kppm的臭氧。將制備的臭氧引入臭氧室，以實(shí)施取代直到臭氧的濃度達(dá)到40kppm。(排氣步驟)通過打開第三開/關(guān)裝置開始排氣。在高濃度NO2氣體通過顆粒濾器(particlefilter,SFB200,由SMCCorporation制造)和硅膠層(硅膠A型5UP，由iTokaiChemicalIndustryCo.,Ltd.制造)后，將所述氣體通過廢氣流量計(jì)(8550，由KojimaInstrumentsInc.制造)調(diào)節(jié)，以便于相對(duì)于臭氧的組分比例為21。用臭氧流量控制器(由KojimaInstrumentshe.制造的8500)，將臭氧與上述流量已經(jīng)調(diào)節(jié)過的高濃度NO2氣體混合，使得組分比例為21。高濃度NO2氣體和臭氧的混合在緩沖部(緩沖罐)中進(jìn)行。將包括五氧化二氮的氣體混合物通過串聯(lián)布置的兩種硝酸吸附催化劑(ADS55，由AdsorptionTechnologyIndustries,Ltd.制造)。隨后，當(dāng)用于儲(chǔ)存高濃度的NO2的腔室中的壓力顯示某些值(-50、-65、-75、-85和_90kPa(相對(duì)壓力))時(shí)，不時(shí)對(duì)氣體混合物進(jìn)行取樣，以測(cè)量在通過硝酸吸附催化劑后殘留在廢氣中的NOx的濃度。結(jié)果顯示在表1中。實(shí)施例2除了使NO2氣體供應(yīng)系統(tǒng)中產(chǎn)生的高濃度NO2氣體的濃度為44kppm、且使排氣步驟中的高濃度NO2氣體和臭氧的組分比為52之外，將高濃度NO2氣體以與實(shí)施例1相同的方式處理，以測(cè)量殘留NOx的濃度。結(jié)果顯示在表1中。實(shí)施例3除了使NO2氣體供應(yīng)系統(tǒng)中產(chǎn)生的高濃度NO2氣體的濃度為50kppm、且使排氣步驟中的高濃度NO2氣體和臭氧的組分比為31之外，將高濃度NO2氣體以與實(shí)施例1相同的方式處理，以測(cè)量殘留NOx的濃度。結(jié)果顯示在表1中。表權(quán)利要求1.一種用于排出廢氣的排氣系統(tǒng)，所述廢氣是使用高濃度NO2氣體對(duì)待滅菌物品進(jìn)行滅菌用過的廢氣，所述排氣系統(tǒng)包括臭氧發(fā)生器；用于吸附所述臭氧發(fā)生器產(chǎn)生的臭氧和所述廢氣中的NO2、并通過臭氧和NO2的反應(yīng)來加速五氧化二氮或硝酸的產(chǎn)生以保留生成物的氣體處理裝置；和用于排出所述廢氣的排氣裝置。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的排氣系統(tǒng)，其中所述臭氧發(fā)生器包括臭氧化發(fā)生器和用于儲(chǔ)存所述臭氧化發(fā)生器產(chǎn)生的臭氧的臭氧室。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的排氣系統(tǒng)，其中在所述氣體處理裝置的上游側(cè)還設(shè)置有用于調(diào)節(jié)所述廢氣中NO2和臭氧的混合比的緩沖部。4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的排氣系統(tǒng)，其中所述氣體處理裝置使用吸附催化劑。5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的排氣系統(tǒng)，其中所述排氣裝置多次排出滅菌用過的所述廢氣。6.一種滅菌裝置，其包括(a)通過循環(huán)路徑配置的NO2氣體供應(yīng)系統(tǒng)，其中連接有用于儲(chǔ)存高濃度NO2氣體的腔室、等離子體發(fā)生器和循環(huán)裝置；(b)經(jīng)由第一開/關(guān)裝置與所述腔室連接的滅菌室；和(c)經(jīng)由第二開/關(guān)裝置與所述滅菌室連接的根據(jù)權(quán)利要求1所述的排氣系統(tǒng)。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的滅菌裝置，其中所述腔室經(jīng)第三開/關(guān)裝置與所述排氣系統(tǒng)連接。8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的滅菌裝置，其中所述滅菌室設(shè)置有用于將所述滅菌室中的高濃度NO2氣體經(jīng)由NO2傳感器返回至所述滅菌室的測(cè)量路徑。9.根據(jù)權(quán)利要求6至8中任一項(xiàng)所述的滅菌裝置，其中多個(gè)滅菌室與單個(gè)排氣系統(tǒng)連接。10.一種使用根據(jù)權(quán)利要求6至9中任一項(xiàng)所述的滅菌裝置的滅菌方法，其中在排出對(duì)待滅菌物品進(jìn)行滅菌用過的高濃度NO2氣體的排氣步驟中，將高濃度NO2氣體以預(yù)定的NO2氣體含量部分排出至排氣系統(tǒng)。11.一種使用根據(jù)權(quán)利要求6至9中任一項(xiàng)所述的滅菌裝置的滅菌方法，其中在對(duì)待滅菌物品進(jìn)行滅菌的滅菌步驟之后排出用過的高濃度NO2氣體的氣體排出步驟中，重復(fù)下述步驟當(dāng)?shù)谝婚_/關(guān)裝置為關(guān)、且第二開/關(guān)裝置為開時(shí)，通過排氣系統(tǒng)的排出裝置將滅菌室中的高濃度NO2氣體排出至廢氣處理裝置，以在滅菌室中獲得負(fù)壓，隨后，通過打開第一開/關(guān)裝置和關(guān)閉第二開/關(guān)裝置，通過負(fù)壓將殘留在腔室中的高濃度NO2氣體抽吸至滅菌室內(nèi)。12.一種使用根據(jù)權(quán)利要求6至9中任一項(xiàng)所述的滅菌裝置的滅菌方法，其包括以下步驟(d)將待滅菌物品放置在滅菌室中(放置步驟)；(e)對(duì)滅菌室的內(nèi)部進(jìn)行抽真空(抽真空步驟)；(f)對(duì)滅菌室的內(nèi)部進(jìn)行增濕(增濕步驟)；(g)打開第一開/關(guān)裝置，以將通過NO2氣體系統(tǒng)產(chǎn)生并儲(chǔ)存在腔室中的NO2氣體供應(yīng)至滅菌室(供應(yīng)步驟)(h)將干燥的氣體混合物充入在腔室中(充氣步驟)；和(i)通過驅(qū)動(dòng)NO2氣體供應(yīng)系統(tǒng)產(chǎn)生NO2氣體(循環(huán)步驟)，其中步驟(g)至⑴重復(fù)多次。13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的滅菌方法，其中在步驟(h)充氣步驟之前，進(jìn)行以下步驟關(guān)閉第一開/關(guān)裝置并打開第三開/關(guān)裝置，以將腔室和排氣系統(tǒng)直接連接，以用排氣系統(tǒng)將殘留在腔室中的N02氣體排出，并對(duì)腔室進(jìn)行抽真空(排氣步驟)。全文摘要本發(fā)明提供一種用于將使用高濃度NO2氣體對(duì)待滅菌物品進(jìn)行滅菌用過的廢氣排出的排氣系統(tǒng)，其包括臭氧發(fā)生器、用于吸收通過臭氧發(fā)生器產(chǎn)生的臭氧和NO2以保留生成物的氣體處理裝置以及用于排出廢氣的排氣裝置。該排氣系統(tǒng)可以有效并可靠地將濃度超過正常水平的高濃度NO2廢氣純化。文檔編號(hào)B01D53/86GK102341128SQ20108001069公開日2012年2月1日申請(qǐng)日期2010年3月4日優(yōu)先權(quán)日2009年3月4日發(fā)明者奧村成喜,巖崎龍一,廣瀬智之,新井清孝,木村和宏申請(qǐng)人:株式會(huì)社賽安