一種新型電子產(chǎn)品清洗劑中金屬離子去除裝置制造方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種新型電子產(chǎn)品清洗劑中金屬離子去除裝置，包括物料儲(chǔ)罐、去離子水儲(chǔ)罐、陰離子交換塔、陽(yáng)離子交換塔、循環(huán)泵、噴射器、鹽酸儲(chǔ)罐、氫氧化鈉儲(chǔ)罐；將所述物料儲(chǔ)罐、所述循環(huán)泵、所述噴射器、所述去離子水儲(chǔ)罐、所述陽(yáng)離子交換塔、所述陰離子交換塔從左到右進(jìn)行連接；所述鹽酸儲(chǔ)罐、所述氫氧化鈉儲(chǔ)罐分別與所述陽(yáng)離子交換塔、所述陰離子交換塔自上而下按順序連接。本發(fā)明為處理二甘醇胺中的多種金屬離子，處理后的二甘醇胺能作為電子產(chǎn)品的清洗劑，不會(huì)腐蝕電子產(chǎn)品，清洗效果更佳。
【專(zhuān)利說(shuō)明】一種新型電子產(chǎn)品清洗劑中金屬離子去除裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及清洗劑中金屬離子的去除領(lǐng)域，尤其涉及一種新型電子產(chǎn)品清洗劑中 金屬離子去除裝置。

【背景技術(shù)】
[0002] 隨著現(xiàn)代電子產(chǎn)品快速地向短、小、輕和薄等方向發(fā)展及產(chǎn)品復(fù)雜程度的提高，在 電子制造工藝過(guò)程中引入了越來(lái)越多的非極性污染物（松香/樹(shù)脂和油等）、極性污染物 (助焊劑活性劑和鹽等）及顆粒狀污染物，如果這些污染物得不到及時(shí)有效的清除，會(huì)直接 造成半導(dǎo)體器件和集成電路表面等電子產(chǎn)品漏電、短路、斷路或形成腐蝕導(dǎo)致失效，必然會(huì) 影響到工藝的順利實(shí)施或產(chǎn)品的質(zhì)量和可靠性。因此，必須在工藝實(shí)施的許多環(huán)節(jié)導(dǎo)入清 洗工序，使用清洗劑及配套的清洗設(shè)備。而隨著組裝的高密度化和引腳的細(xì)間距化，對(duì)半導(dǎo) 體器件和集成電路等電子產(chǎn)品的潔凈度提出了越來(lái)越高的要求，對(duì)清洗工藝的要求也越來(lái) 越1?。
[0003] 清洗工藝在半導(dǎo)體器件和集成電路等電子產(chǎn)品生產(chǎn)中的極端重要性眾所周知的。 如果沒(méi)有有效的清洗工藝便沒(méi)有今天半導(dǎo)體器件和集成電路等電子產(chǎn)品的發(fā)展。目前，半 導(dǎo)體器件和集成電路等電子產(chǎn)品已經(jīng)有了舉世屬目的發(fā)展，而生產(chǎn)中所用清洗工藝仍然沿 用40余年的常規(guī)清洗工藝。常規(guī)的清洗工藝通常使用硫酸、鹽酸、雙氧水、氨水、甲苯、三氯 乙烯、三氯乙烷和氟利昂等化學(xué)試劑。這些試劑不僅成本高，而且有很強(qiáng)的腐蝕作用，有點(diǎn) 毒性很大，危害操作人員的安全與健康，污染環(huán)境。
[0004] 二甘醇胺（DGA)以其低成本，高沸點(diǎn)，無(wú)腐蝕，無(wú)污染等優(yōu)點(diǎn)，作為一種新型的電 子產(chǎn)品清洗劑的替代品，已經(jīng)受到了廣泛的關(guān)注，但其產(chǎn)品中金屬含量高、種類(lèi)多，這些會(huì) 導(dǎo)致在電子產(chǎn)品的清洗過(guò)程中腐蝕電子產(chǎn)品。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0005] 本發(fā)明的目的是提供一種新型電子產(chǎn)品清洗劑中金屬離子去除裝置，對(duì)二甘醇胺 中金屬離子的去除率高且成本低。
[0006] 為達(dá)到上述目的，本發(fā)明的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案：
[0007] -種新型電子產(chǎn)品清洗劑中金屬離子去除裝置，包括物料儲(chǔ)罐、去離子水儲(chǔ)罐、陰 離子交換塔、陽(yáng)離子交換塔、循環(huán)泵、噴射器、鹽酸儲(chǔ)罐、氫氧化鈉儲(chǔ)罐；將所述物料儲(chǔ)罐、所 述循環(huán)泵、所述噴射器、所述去離子水儲(chǔ)罐、所述陽(yáng)離子交換塔、所述陰離子交換塔從左到 右進(jìn)行連接；所述鹽酸儲(chǔ)罐、所述氫氧化鈉儲(chǔ)罐分別與所述陽(yáng)離子交換塔、所述陰離子交換 塔自上而下按順序連接。
[0008] 依照本發(fā)明的一個(gè)方面，所述的清洗劑中金屬離子去除的裝置，利用噴射器的作 用，將鹽酸和氫氧化鈉分別噴射注入到陽(yáng)離子交換塔和陰離子交換塔里面。
[0009] 依照本發(fā)明的一個(gè)方面，陽(yáng)離子交換塔里面填充的是ZGC151~158系列陽(yáng)離子交 換樹(shù)脂。
[0010] 依照本發(fā)明的一個(gè)方面，陰離子交換塔里面填充的是ZGA351~358系列陰離子交 換樹(shù)脂。
[0011] 依照本發(fā)明的一個(gè)方面，在陰、陽(yáng)離子交換塔上方各安裝一套再生閥，通過(guò)與鹽酸 和氫氧化鈉管道接通，在交換樹(shù)脂飽和后實(shí)現(xiàn)再生。
[0012] 依照本發(fā)明的一個(gè)方面，整個(gè)離子去除過(guò)程中使用的水為去離子水。
[0013] 依照本發(fā)明的一個(gè)方面，使用氮?dú)鈱?duì)管路進(jìn)行疏通，并對(duì)清洗劑進(jìn)行保護(hù)。
[0014] 本發(fā)明實(shí)施例提供的一種新型電子產(chǎn)品清洗劑中金屬離子去除裝置，去除二甘醇 胺中金屬離子的去除率高且成本低。

【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0015] 為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例中所需要使用的 附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng) 域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附 圖。
[0016] 圖1為本發(fā)明的一種新型電子產(chǎn)品清洗劑中金屬離子去除的裝置結(jié)構(gòu)示意圖；
[0017] 圖中：
[0018] 1 DGA儲(chǔ)料罐，2去離子水罐，3循環(huán)泵，4 30%鹽酸儲(chǔ)罐，5 30%氫氧化鈉儲(chǔ)罐，6 噴射器，7陽(yáng)離子交換塔，8陰離子交換塔，9放空閥門(mén)，10閥門(mén)，11正洗排水閥，12進(jìn)料 閥，13再生閥，14反洗排水閥。

【具體實(shí)施方式】
[0019] 以下結(jié)合附圖與具體實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。
[0020] 如圖1所示，本發(fā)明提供一種電子產(chǎn)品清洗劑中金屬離子去除的裝置，包括 DGA (二甘醇胺）儲(chǔ)料罐1、去離子水罐2、循環(huán)泵3、噴射器6、陽(yáng)離子交換塔7、陰離子交換 塔8從左到右進(jìn)行連接；30 %鹽酸儲(chǔ)罐4、30 %氫氧化鈉儲(chǔ)罐8分別與陽(yáng)離子交換塔7、陰離 子交換塔8自上而下按順序進(jìn)行連接。
[0021] 將DGA (二甘醇胺）料通過(guò)管道進(jìn)入DGA儲(chǔ)料罐1中，然后通過(guò)循環(huán)泵3將含有金 屬離子的DGA輸送到陽(yáng)離子交換塔7,在陽(yáng)離子交換塔7中，二甘醇胺中的金屬離子（NH4+、 ?63+、&12+工(12+、1(+、1^+、似+等陽(yáng)離子）通過(guò)與陽(yáng)離子交換塔中的交換樹(shù)脂（26(：151?158) 的充分接觸后被交換，從而從DGA中被除去。然后去陽(yáng)離子的DGA被輸送到陰離子交換塔 8中，在陰離子交換塔8中，DGA中的陰離子（C1-、N03-等）通過(guò)與陽(yáng)離子交換塔中交換樹(shù) 脂（ZGA351~358)的充分接觸后被交換，從而從DGA中被去除。最終處理過(guò)后的DGA從出料 口出排除。經(jīng)過(guò)一定時(shí)間的處理后，關(guān)閉進(jìn)料閥12,打開(kāi)再生閥13,并關(guān)閉其他閥門(mén)的同時(shí) 打開(kāi)30%鹽酸儲(chǔ)罐4和30%氫氧化鈉儲(chǔ)罐5上方的閥門(mén)進(jìn)行陰、陽(yáng)交換樹(shù)脂的再生。經(jīng)過(guò) 一定時(shí)間的再生后，關(guān)閉再生閥13,開(kāi)啟反洗排水閥14,將再生后用去離子水對(duì)交換樹(shù)脂 進(jìn)行沖洗后的廢液排出，通過(guò)管道排放到廢水中和池里面。
[0022] 30%鹽酸儲(chǔ)罐4在整個(gè)裝置中所起的作用是存放陽(yáng)離子樹(shù)脂交換飽和后的再生 液。
[0023] 30%氫氧化鈉儲(chǔ)罐5在整個(gè)裝置中所起的作用是存放陰離子樹(shù)脂交換飽和后的 再生液。
[0024] 去離子水罐2在整個(gè)裝置中所起的作用是為樹(shù)脂再生過(guò)程中提供沖洗液。
[0025] 放空閥9在整個(gè)裝置中所起的作用保護(hù)整個(gè)裝置處于一定安全的壓力范圍內(nèi)。
[0026] 氮?dú)夤艿涝谡麄€(gè)裝置中所起的作用是提供一定的動(dòng)力及保護(hù)DGA的氧化。
[0027] 本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)是：采用ZGC151~158系列陽(yáng)離子樹(shù)脂和ZGA351~358系列陰離子樹(shù) 脂對(duì)DGA中的離子進(jìn)行處理，處理效果大大提高；整個(gè)處理過(guò)程的自動(dòng)化程度非常高，可以 連續(xù)進(jìn)行運(yùn)行。
[0028] 以上所述，僅為本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何 熟悉本領(lǐng)域技術(shù)的技術(shù)人員在本發(fā)明公開(kāi)的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到的變化或替換，都應(yīng) 涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護(hù)范圍為 準(zhǔn)。
【權(quán)利要求】
1. 一種新型電子產(chǎn)品清洗劑中金屬離子去除裝置，其特征在于，包括物料儲(chǔ)罐、去離子 水儲(chǔ)罐、陰離子交換塔、陽(yáng)離子交換塔、循環(huán)泵、噴射器、鹽酸儲(chǔ)罐、氫氧化鈉儲(chǔ)罐；將物料儲(chǔ) 罐、循環(huán)泵、噴射器、去離子水儲(chǔ)罐、陽(yáng)離子交換塔、陰離子交換塔從左到右進(jìn)行連接；鹽酸 儲(chǔ)罐、氫氧化鈉儲(chǔ)罐分別與陽(yáng)離子交換塔、陰離子交換塔自上而下按順序連接。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型電子產(chǎn)品清洗劑中金屬離子去除裝置，其特征在于，利 用噴射器的作用，將鹽酸和氫氧化鈉分別噴射注入到陽(yáng)離子交換塔和陰離子交換塔里面。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型電子產(chǎn)品清洗劑中金屬離子去除裝置，其特征在于，陽(yáng) 離子交換塔里面填充的是ZGC151~158系列陽(yáng)離子交換樹(shù)脂。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型電子產(chǎn)品清洗劑中金屬離子去除裝置，其特征在于，陰 離子交換塔里面填充的是ZGA351~358系列陰離子交換樹(shù)脂。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型電子產(chǎn)品清洗劑中金屬離子去除裝置，其特征在于，在 陰、陽(yáng)離子交換塔上方各安裝一套再生閥，通過(guò)與鹽酸和氫氧化鈉管道接通，在交換樹(shù)脂飽 和后實(shí)現(xiàn)再生。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型電子產(chǎn)品清洗劑中金屬離子去除裝置，其特征在于，整 個(gè)離子去除過(guò)程中使用的水為去離子水。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型電子產(chǎn)品清洗劑中金屬離子去除裝置，其特征在于，使 用氮?dú)鈱?duì)管路進(jìn)行疏通，并對(duì)清洗劑進(jìn)行保護(hù)。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型電子產(chǎn)品清洗劑中金屬離子去除裝置，其特征在于所述 物料儲(chǔ)罐、所述循環(huán)泵、所述噴射器、所述去離子水儲(chǔ)罐、所述陽(yáng)離子交換塔、所述陰離子交 換塔從左到右進(jìn)行連接；所述鹽酸儲(chǔ)罐、所述氫氧化鈉儲(chǔ)罐分別與所述陽(yáng)離子交換塔、所述 陰離子交換塔自上而下按順序連接。
【文檔編號(hào)】B01D15/36GK104096383SQ201310127341
【公開(kāi)日】2014年10月15日 申請(qǐng)日期:2013年4月11日 優(yōu)先權(quán)日:2013年4月11日
【發(fā)明者】吳小飛, 張雷, 石耀洲 申請(qǐng)人:上海志誠(chéng)化工有限公司