氯化氫氣體中微量水分去除裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型屬于化工領(lǐng)域，具體涉及一種氯化氫氣體中微量水分去除裝置。包括干燥器，干燥器頂部設(shè)置氣體出口，氣體出口與氣體罐相連，干燥器底部設(shè)置氯化鈣出口，干燥器下部一側(cè)設(shè)置氣體進(jìn)口，氣體進(jìn)口與氣體制備裝置相連，在氣體進(jìn)口上方的干燥器內(nèi)壁上設(shè)置擋板，擋板上設(shè)置小孔，擋板上方有氯化鈣。氯化鈣出口與收集器相連；在擋板上方干燥器的壁上設(shè)置氯化鈣填裝口。在擋板與氯化鈣填裝口之間的干燥器的壁上設(shè)置視鏡口。小孔的孔徑優(yōu)選為∮10mm。氯化鈣出口的孔徑優(yōu)選為DN100。本實用新型能有效的出去氯化氫氣體中微量水分，裝置簡單易操作，去除水分效果好，安全且成本低。
【專利說明】氯化氫氣體中微量水分去除裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型屬于化工領(lǐng)域，具體涉及一種氯化氫氣體中微量水分去除裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]氯化氫氣體是化工領(lǐng)域常用的一種原料，能夠制備氯化物、膠、藥品、染料和有機合成催化劑等。由于氯氣和氫氣燃燒的方式制備氯化氫的方法成本高不易操作等因素，中小企業(yè)一般不采用這種方法制備氯化氫，而是采用濃鹽酸滴加三氯化磷或濃鹽酸配置的氯化鈉溶液滴加濃硫酸制備氯化氫，但采用這兩種方式得到的氯化氫氣體都不可避免的夾帶水分，而氯化氫參與反應(yīng)時一般要求禁止有水分，所以去除氯化氫氣體中的微量水分非常重要。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實用新型的目的是提供一種氯化氫氣體中微量水分去除裝置，能有效的出去氯化氫氣體中微量水分，裝置簡單易操作，去除水分效果好，安全且成本低。
[0004]本實用新型所述的氯化氫氣體中微量水分去除裝置，包括干燥器，干燥器頂部設(shè)置氣體出口，氣體出口與氣體罐相連，干燥器底部設(shè)置氯化鈣出口，干燥器下部一側(cè)設(shè)置氣體進(jìn)口，氣體進(jìn)口與氣體制備裝置相連，在氣體進(jìn)口上方的干燥器內(nèi)壁上設(shè)置擋板，擋板上設(shè)置小孔，擋板上方有氯化鈣。氯化鈣出口與收集器相連；在擋板上方干燥器的壁上設(shè)置氯化鈣填裝口。在擋板與氯化鈣填裝口之間的干燥器的壁上設(shè)置視鏡口。小孔的孔徑優(yōu)選為^ 10mm。氯化鈣出口的孔徑優(yōu)選為DN100。
[0005]使用時，氣體制備裝置中制備好的氯化氫氣體由氣體進(jìn)口進(jìn)入干燥器中，經(jīng)擋板上方的氯化鈣吸收水分后得到干燥的氯化氫氣體，干燥后的氯化氫氣體經(jīng)氣體出口進(jìn)入氣體罐中儲存?zhèn)溆?。?dāng)大塊的氯化鈣吸水后，會粉化或小塊化，通過擋板上的小孔，掉到擋板下面，經(jīng)氯化鈣出口進(jìn)入收集器，收集后集中處理。當(dāng)擋板上大塊的氯化鈣由于吸水掉到擋板下方而下降到視鏡口的位置時，需要補加氯化鈣，氯化鈣從氯化鈣填裝口填裝到干燥器中。
[0006]綜上所述，本實用新型具有以下優(yōu)點:
[0007]本實用新型能有效的出去氯化氫氣體中微量水分，裝置簡單易操作，去除水分效果好，安全且成本低。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0008]圖1是本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0009]圖中:1-干燥器，2-氣體出口，3-氣體罐，4-氣體制備裝置，5-氣體進(jìn)口，6-氯化鈣出口，7-收集器，8-小孔，9-擋板，10-視鏡口，11-氯化鈣填裝口。
【具體實施方式】[0010]下面結(jié)合具體實施例對本實用新型做進(jìn)一步描述。
[0011]實施例
[0012]如圖1所示，包括干燥器1，干燥器I頂部設(shè)置氣體出口 2，氣體出口 2與氣體罐3相連，干燥器I底部設(shè)置氯化鈣出口 6，干燥器I下部一側(cè)設(shè)置氣體進(jìn)口 5，氣體進(jìn)口 5與氣體制備裝置4相連，在氣體進(jìn)口 5的上方干燥器I的內(nèi)壁上設(shè)置擋板9，擋板9上設(shè)置小孔8，擋板9上方有氯化鈣。氯化鈣出口 6與收集器7相連，在擋板9上方干燥器I的壁上設(shè)置氯化鈣填裝口 11。在擋板9與氯化鈣填裝口 11之間的干燥器I的壁上設(shè)置視鏡口 10。小孔8的孔徑為f 10mm。氯化鈣出口 6的孔徑為DN100。
[0013]使用時，氣體制備裝置4中制備好的氯化氫氣體由氣體進(jìn)口 5進(jìn)入干燥器I中，經(jīng)擋板9上方的氯化鈣吸收水分后得到干燥的氯化氫氣體，干燥后的氯化氫氣體經(jīng)氣體出口2進(jìn)入氣體罐3中儲存?zhèn)溆?。?dāng)大塊的氯化鈣吸水后，會粉化或小塊化，通過擋板9上的小孔8，掉到擋板9下面，經(jīng)氯化鈣出口 6進(jìn)入收集器7，收集后集中處理。當(dāng)擋板9上大塊的氯化鈣由于吸水掉到擋板9下方而下降到視鏡口 10的位置時，需要補加氯化鈣，氯化鈣從氯化鈣填裝口 11填裝到干燥器I中。
【權(quán)利要求】
1.一種氯化氫氣體中微量水分去除裝置，其特征在于:包括干燥器(1)，干燥器(I)頂部設(shè)置氣體出口(2)，氣體出口(2)與氣體罐(3)相連，干燥器(I)底部設(shè)置氯化鈣出口(6)，干燥器(I)下部一側(cè)設(shè)置氣體進(jìn)口(5)，氣體進(jìn)口(5)與氣體制備裝置(4)相連，在氣體進(jìn)口(5)上方的干燥器(I)內(nèi)壁上設(shè)置擋板(9)，擋板(9)上設(shè)置小孔(8)，擋板(9)上方有氯化鈣。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氯化氫氣體中微量水分去除裝置，其特征在于:氯化鈣出口(6)與收集器(7)相連。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氯化氫氣體中微量水分去除裝置，其特征在于:在擋板(9)上方的干燥器(I)的壁上設(shè)置氯化鈣填裝口(11)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的氯化氫氣體中微量水分去除裝置，其特征在于:在擋板(9 )與氯化鈣填裝口( 11)之間的干燥器(I)的壁上設(shè)置視鏡口( 10 )。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氯化氫氣體中微量水分去除裝置，其特征在于:小孔(8)的孔徑為Φ 10_。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的氯化氫氣體中微量水分去除裝置，其特征在于:氯化鈣出口(6)的孔徑為DN100。
【文檔編號】B01D53/28GK203484040SQ201320559864
【公開日】2014年3月19日 申請日期:2013年9月10日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月10日
【發(fā)明者】崔麗芳, 陳波 申請人:淄博匯港川化工科技有限公司