1.一種脫氟氯裝置，其特征在于，包括：
塔體(10)，所述塔體(10)的內(nèi)部設(shè)置有反應(yīng)腔；
進氣部(20)，所述進氣部(20)設(shè)置在所述塔體(10)上，用于將氟氯煙氣導(dǎo)入至所述反應(yīng)腔；
進酸部(30)，所述進酸部(30)設(shè)置在所述塔體(10)上，用于將污酸導(dǎo)入至所述反應(yīng)腔。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的脫氟氯裝置，其特征在于，所述脫氟氯裝置還包括反應(yīng)增益部(40)，所述反應(yīng)增益部(40)設(shè)置在所述反應(yīng)腔中，所述反應(yīng)增益部(40)設(shè)置在所述進酸部(30)的下方。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的脫氟氯裝置，其特征在于，所述反應(yīng)增益部(40)包括旋流板裝置，所述旋流板裝置的軸線方向與所述塔體(10)的高度方向相一致。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的脫氟氯裝置，其特征在于，所述進酸部(30)包括：
進酸管(31)；
污酸分布裝置(32)，所述污酸分布裝置(32)設(shè)置在所述進酸管(31)上，用于使污酸均勻分布。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的脫氟氯裝置，其特征在于，所述污酸分布裝置(32)包括多個污酸噴頭(321)，多個所述污酸噴頭(321)沿所述進酸管(31)的長度方向均勻布置。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的脫氟氯裝置，其特征在于，所述脫氟氯裝置還包括降溫部(50)，所述降溫部(50)設(shè)置在所述進酸部(30)上方，用于對所述反應(yīng)腔內(nèi)的物質(zhì)進行降溫。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的脫氟氯裝置，其特征在于，所述降溫部(50)包括：
降溫管(51)；
降溫噴頭(52)，所述降溫噴頭(52)為多個，所述多個降溫噴頭(52)沿所述降溫管(51)的長度方向均勻地設(shè)置在所述降溫管(51)上。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的脫氟氯裝置，其特征在于，所述脫氟氯裝置還包括干燥部(60)，所述干燥部(60)設(shè)置在所述降溫部(50)的上方，所述干燥部(60)用于干燥所述反應(yīng)腔內(nèi)部的氣體。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的脫氟氯裝置，其特征在于，所述脫氟氯裝置還包括排污口(70)，所述排污口(70)設(shè)置在所述塔體(10)的側(cè)壁的靠近所述塔體(10)的底壁的一端。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的脫氟氯裝置，其特征在于，所述脫氟氯裝置還包括液位檢測口(80)和安裝在所述液位檢測口(80)處的液位計，所述液位檢測口(80)設(shè)置在所述塔體(10)的側(cè)壁的靠近所述塔體(10)的底壁的一端。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的脫氟氯裝置，其特征在于，所述脫氟氯裝置還包括溢流口(90)，所述溢流口(90)設(shè)置在所述塔體(10)的側(cè)壁上，所述溢流口(90)的高度大于所述排污口(70)的高度。
12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的脫氟氯裝置，其特征在于，所述塔體(10)的底壁上設(shè)置有向所述排污口(70)方向傾斜的導(dǎo)向面(11)。