本實(shí)用新型涉及一種導(dǎo)流反射型上噴噴頭，尤其是應(yīng)用于冷卻塔配水系統(tǒng)中的噴頭。

背景技術(shù)：

冷卻塔是用于將攜帶廢熱的冷卻水在塔內(nèi)與空氣進(jìn)行熱交換，使廢熱傳輸給空氣并散入大氣，冷卻塔在能源、石化、冶金等行業(yè)有著廣泛應(yīng)用，冷卻塔主要由塔體、填料、包括有配水管和噴濺裝置的配水系統(tǒng)、收水器、集水池等部件構(gòu)成。

噴頭是冷卻塔配水系統(tǒng)的重要組成部分,其作用是將冷卻水噴濺成細(xì)小水滴，均勻地布灑到填料上，以達(dá)到較高的冷卻效果。冷卻塔工作性能的優(yōu)劣與所采用的噴濺裝置的形式以及工作狀況的好壞有很大關(guān)系，進(jìn)入冷卻塔中的水能否沿著淋水面均勻地分配，對(duì)冷卻塔的冷卻效果具有十分重大的影響。當(dāng)水的分配不當(dāng)時(shí),會(huì)出現(xiàn)大片非淋水區(qū)或不良淋水區(qū)，從而減小了冷卻面積，降低通風(fēng)能力。有資料表明，如果4000m²冷卻塔的不均勻系數(shù)由0.0增加到0.2，出塔循片水溫度將會(huì)升高0.5℃，其變化呈幾何級(jí)數(shù)增加的趨勢(shì)。因此，在其它條件不變的情況下，改善冷卻塔的布水情況和淋灑的分散均勻性，將會(huì)提高冷卻塔的換熱效率。而提高淋水的分散均勻性主要由噴濺裝置的水力特性來(lái)保證，其包括流量系數(shù)、不均勻系數(shù)和噴濺半徑等，不同結(jié)構(gòu)形式的噴濺裝置由于水力特性不同將會(huì)有不同的冷卻換熱效率。

現(xiàn)有技術(shù)中的噴濺裝置結(jié)構(gòu)形式較多，目前在雙曲線自然濕式冷卻塔和機(jī)力通風(fēng)冷卻塔上投入較多的噴濺裝置，按其與配水管的連接形式大致分為兩大類，一類是安裝在配水管下方的下噴式噴頭，另一類是安裝在配水管上方的上噴噴頭。

目前投入使用的上噴噴頭存在的問(wèn)題是：在低水壓下噴頭噴出的射流成股狀，水滴粒徑大，噴濺半徑小，布水不均等問(wèn)題。由于配水壓力較低，采用上噴噴頭的噴濺裝置在這類技術(shù)性能上的不足已經(jīng)制約了冷卻塔冷卻效率的進(jìn)一步提高。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型是為避免上述現(xiàn)有技術(shù)所存在的不足，提供一種導(dǎo)流反射型上噴噴頭，以達(dá)到布水均勻、濺水半徑大、水滴細(xì)小、水滴滯空時(shí)間長(zhǎng)的噴水效果，進(jìn)行提高冷卻塔的冷卻效率。

本實(shí)用新型為解決技術(shù)問(wèn)題采用如下技術(shù)方案：

本實(shí)用新型導(dǎo)流反射型上噴噴頭的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)是：在呈豎直的噴頭進(jìn)水接頭中設(shè)置噴管，在噴頭本體的頂部設(shè)置環(huán)形濺水碟，在所述環(huán)形濺水碟的外圓周上不同半徑位置上分別設(shè)置內(nèi)圈濺水齒和外圈濺水齒，所述外圈濺水齒與內(nèi)圈濺水齒在圓周上一一間隔；在所述噴管的出水管口的正上方設(shè)置導(dǎo)流體，噴管中的出水經(jīng)導(dǎo)流體的引導(dǎo)落入所述環(huán)形濺水碟或沿導(dǎo)流體的出口下沿向周向散射，周向散射的射流在所述內(nèi)圈濺水齒和外圈濺水齒上濺散，從而形成立體濺水。

本實(shí)用新型導(dǎo)流反射型上噴噴頭的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)也在于：

所述環(huán)形濺水碟的碟面成拱形，為上拱或?yàn)橄鹿啊?/p>

所述內(nèi)圈濺水齒垂直于環(huán)形濺水碟的表面，所述外圈濺水齒在環(huán)形濺水碟的表面朝向外周呈傾斜，根據(jù)所需要的濺水分別設(shè)置內(nèi)圈濺水齒的高度、外圈濺水齒的高度，以及外圈濺水齒的傾斜角度。

所述導(dǎo)流體通過(guò)支架固定設(shè)置在噴頭本體上。

與已有技術(shù)相比，本實(shí)用新型有益效果體現(xiàn)在：

本實(shí)用新型利用導(dǎo)流反射技術(shù)，水流自噴管垂直向上射出，遇導(dǎo)流體后折向四周散射，周向散射的射流遇濺水齒后射流被濺散成細(xì)小的水滴并被高高的向上拋起，然后沿拋物線軌跡落下，設(shè)置內(nèi)圈濺水齒和外圈濺水齒所處的半徑不同，其所濺散開(kāi)的水滴的運(yùn)動(dòng)軌跡也不相同，其濺散高度高，濺散半徑大，水滴細(xì)小，濺散均勻性好。

附圖說(shuō)明

圖1為本實(shí)用新型中噴頭結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本實(shí)用新型中噴頭主視示意圖；

圖3為本實(shí)用新型中噴頭俯視示意圖；

圖中標(biāo)號(hào)：1噴頭進(jìn)水接頭；2噴管；3濺水碟；4濺水齒；5導(dǎo)流體，6支架；4a外圈濺水齒；4b內(nèi)圈濺水齒；7噴頭本體。

具體實(shí)施方式

參見(jiàn)圖1、圖2和圖3，本實(shí)施例中導(dǎo)流反射型上噴噴頭的結(jié)構(gòu)形式是：在配水管管座上呈豎直安裝噴頭進(jìn)水接頭1，在噴頭進(jìn)水接頭1中設(shè)置噴管2，噴管2下段為直管進(jìn)水管段，噴管2的上段為上口小下口大的錐形射水管段，在噴頭本體7的頂部設(shè)置環(huán)形濺水碟3，在環(huán)形濺水碟3的外圓周上設(shè)置濺水齒4，具體是在環(huán)形濺水碟3的外圓周上不同半徑位置上分別設(shè)置內(nèi)圈濺水齒4b和外圈濺水齒4a，外圈濺水齒4a與內(nèi)圈濺水齒4b在圓周上一一間隔；在噴管2的出水管口的正上方設(shè)置導(dǎo)流體5，噴管2中的出水經(jīng)導(dǎo)流體5的引導(dǎo)落入環(huán)形濺水碟3或沿導(dǎo)流體5的出口下沿向周向散射，周向散射的射流在內(nèi)圈濺水齒4b和外圈濺水齒4a上濺散成細(xì)小的水滴并被高高地向上拋起，然后沿拋物線軌跡落下，由于內(nèi)圈濺水齒4b和外圈濺水齒4a所處的半徑不同，其所濺散開(kāi)的水滴的運(yùn)動(dòng)軌跡也不相同，從而形成立體濺水，其濺散高度高，濺散半徑大，水滴細(xì)小，濺散均勻性好，其在冷卻塔配水系統(tǒng)中的運(yùn)用可以顯著提高冷卻塔的冷卻效率，降低冷卻塔出塔水溫。

具體實(shí)施中，設(shè)置環(huán)形濺水碟3的碟面成拱形，為上拱或?yàn)橄鹿?；其?nèi)圈濺水齒4b垂直于環(huán)形濺水碟3的表面，外圈濺水齒4a在環(huán)形濺水碟3的表面朝向外周呈傾斜，根據(jù)所需要的濺水分別設(shè)置內(nèi)圈濺水齒4b的高度、外圈濺水齒4a的高度，以及外圈濺水齒4a的傾斜角度，以獲得不同的濺散半徑和濺散高度；導(dǎo)流體5通過(guò)支架6固定設(shè)置在噴頭本體7上。