一種氣體分布裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及風排瓦斯技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種氣體分布裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]每年全國煤礦風排瓦斯排放的甲烷約200億立方米。由于風排瓦斯的甲烷濃度低，無法用常規(guī)方法點燃，因此長期以來風排瓦斯一直沒有得到有效利用，而是直接排放到大
Ho
[0003]蓄熱式氧化方法是通過將風排瓦斯中的甲烷氧化后釋放的熱量蓄積在流向變換反應(yīng)器中，來維持氧化所需的溫度，使甲烷能持續(xù)氧化。氧化后熱量可以供熱或進行蒸汽發(fā)電。該方法既減少溫室氣體排放，又把浪費掉的瓦斯作為清潔資源加以利用。
[0004]無論是熱氧化方法，還是催化氧化方法，風排瓦斯從輸送管線進入氧化裝置中，由于兩者的截面面積相差較大，需要在氧化裝置的進口處作為氧化裝置的過渡段，使風排瓦斯的流速經(jīng)過氣體分布裝置后即可沿氧化裝置的截面均勻，使蓄熱陶瓷(催化劑)床層得到充分利用，甲烷氧化反應(yīng)沿氧化裝置的截面均勻進行，避免氧化裝置內(nèi)出現(xiàn)局部過熱。因此進出口氣體分布裝置對提高氧化裝置的甲烷摧毀效率、改善裝置的整體性能至關(guān)重要。
[0005]申請?zhí)枮?00810224909.X的中國專利公開了一種礦井通風瓦斯處理裝置的乏風進氣整流器，其是采用內(nèi)外錐管與布風板結(jié)構(gòu)實現(xiàn)進口處氣體的分配。該裝置的缺點是結(jié)構(gòu)復(fù)雜、重量大，難以保證氣體均勻分配的效果;且從結(jié)構(gòu)上看不出風排瓦斯聚集在進口較小的截面上，如何在進入氧化裝置后快速分散均勻地沿截面分布；該專利僅給出了 500 X600mm截面上的實施方案，該方案很難放大設(shè)計應(yīng)用到大型氧化裝置中。因此，提供一種結(jié)構(gòu)簡單，且可使氣體均勻分布的用于風排瓦斯氧化裝置進出口的氣體分布裝置是十分必要的。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明解決的技術(shù)問題在于提供一種可使氣體沿截面均勻流動的氣體分布裝置。
[0007]有鑒于此，本申請?zhí)峁┝艘环N氣體分布裝置，包括:過渡段與分布板，所述過渡段設(shè)置有氣體進口與氣體出口，所述過渡段內(nèi)部設(shè)置有一個分布板或若干相隔設(shè)置的分布板，所述若干相隔設(shè)置的分布板沿氣體進口至氣體出口的方向依次排布，每個所述分布板的邊緣與所述過渡段的內(nèi)壁連接，所述分布板上設(shè)置有若干通孔。
[0008]優(yōu)選的，靠近氣體進口的所述分布板與所述氣體進口之間設(shè)置有一定的距離。
[0009]優(yōu)選的，所述若干分布板中分布板的數(shù)目大于等于2。
[0010]優(yōu)選的，所述通孔的形狀為圓形、橢圓形、矩形、三角形和多邊形中的一種或多種。
[0011]優(yōu)選的，所述過渡段為自氣體進口至氣體出口橫截面積依次增大的四棱柱或自氣體進口至氣體出口橫截面積依次增大的圓臺。
[0012]本申請?zhí)峁┝艘环N氣體分布裝置，其包括過渡段與分布板，所述過渡段設(shè)置有氣體進口與氣體出口，所述過渡段內(nèi)部設(shè)置有一個分布板或若干相隔設(shè)置的分布板，所述若干相隔設(shè)置的分布板沿氣體進口至氣體出口的方向依次排布，每個所述分布板的邊緣與所述過渡段的內(nèi)壁連接，所述分布板上設(shè)置有若干通孔。風排瓦斯通過氣體分布裝置的進口進入氣體分布裝置，利用靠近氣體進口段的分布板上的通孔可初步調(diào)整風排瓦斯沿截面上的沿程阻力，風排瓦斯再進入其它分布板上的通孔可再次調(diào)整風排瓦斯沿截面上的沿程阻力，使氣體沿氣體分布裝置截面上的流動速度均勻，從而達到氣體沿氧化裝置截面均勻流動的目的。
【附圖說明】
[0013]圖1為本發(fā)明氣體分布裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實施方式】
[0014]為了進一步理解本發(fā)明，下面結(jié)合實施例對本發(fā)明優(yōu)選實施方案進行描述，但是應(yīng)當理解，這些描述只是為進一步說明本發(fā)明的特征和優(yōu)點，而不是對本發(fā)明權(quán)利要求的限制。
[0015]本發(fā)明實施例公開了一種氣體分布裝置，包括:過渡段與分布板，所述過渡段設(shè)置有氣體進口與氣體出口，所述過渡段內(nèi)部設(shè)置有一個分布板或若干相隔設(shè)置的分布板，所述若干相隔設(shè)置的分布板沿氣體進口至氣體出口的方向依次排布，每個所述分布板的邊緣與所述過渡段的內(nèi)壁連接，所述分布板上設(shè)置有若干通孔。
[0016]如圖1所示，圖1為本申請氣體分布裝置的結(jié)構(gòu)示意圖，圖中I為氣體進口，2為第一分布板，3為第一通孔，4為第二分布板，5為第二通孔。
[0017]本申請的氣體分布裝置由于在過渡段內(nèi)部設(shè)置了若干分布板，可使風排瓦斯在氣體分布裝置沿截面中流動速度均勻，最終使風排瓦斯沿氧化裝置的截面均勻分布。
[0018]本申請所述氣體分布裝置分別設(shè)置于氧化裝置的進口與出口，其作用是作為氧化裝置的過渡段，使風排瓦斯在進入氧化裝置后能夠分布均勻，因此，本領(lǐng)域技術(shù)人員熟知的，所述氣體分布裝置的過渡段的氣體進口截面積與氣體出口截面積是不同的，自氣體進口至氣體出口截面積逐漸增大，即氣體進口橫截面面積遠遠小于氣體出口橫截面積。但是只有氣體分布裝置過渡段的面積漸擴，不能解決氣體均勻分布問題，必須設(shè)置有分布板，需要進一步設(shè)置若干分布板來達到氣流氣體分布裝置截面上均勻分布的目的。按照本發(fā)明，靠近氣體進口的所述分布板與所述氣體進口之間設(shè)置有一定的距離，即靠近氣體進口的分布板與所述氣體進口相隔一定的距離。本申請優(yōu)選在氣體進口與靠近氣體進口的分布板設(shè)置有一定的距離，可有效避免風排瓦斯集中在氧化裝置軸線附近，而出現(xiàn)氣流分布不均勻的問題。
[0019]為了保證氣體分布裝置中的氣體在經(jīng)過分布板時能夠調(diào)整風排瓦斯的沿程阻力，促使氣體在氧化裝置中分布均勻，本申請所述若干相隔設(shè)置的分布板的每個分布板的邊緣與所述氣體分布裝置的過渡段的內(nèi)壁連接，即分布板與所述過渡段內(nèi)部之間不存在空隙，兩者緊密接觸。
[0020]若進口截面與氧化裝置截面的面積相差較大，較難用一層分布板達到氣體沿裝置截面均勻分布的目的，因此本申請優(yōu)選采用若干個相隔設(shè)置的氣體分布板組合，即分布板的數(shù)目大于等于2，作為優(yōu)選方案，所述分布板為兩個即可達到目的；若進口截面與氧化裝置截面的面積相差較小，則在過渡段設(shè)置一層分布板即可實現(xiàn)氣體的均勻分布。
[0021]本申請所述分布板上設(shè)置有若干通孔，本申請對所述通孔的形狀沒有特別的限制，可根據(jù)具體的情況選擇通孔的形狀，所述通孔的形狀可以是圓形、橢圓、矩形、三角形和多邊形等多種開孔形狀。本申請在確定若干分布板在氣體分布裝置的位置、通孔的形狀、尺寸的結(jié)構(gòu)參數(shù)中，需要根