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      單塔雙漿液池脫硫裝置的制造方法

      文檔序號(hào):10043389閱讀:359來源:國知局
      單塔雙漿液池脫硫裝置的制造方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本實(shí)用新型涉及一種單塔雙漿液池脫硫裝置,尤其涉及一種在同一標(biāo)準(zhǔn)6%含氧量下,不僅能夠保持脫硫前后氮氧化物的排出濃度恒定不變的單塔雙漿液池脫硫裝置,而且還使脫硫后煙氣中硫氧化物濃度相對(duì)變小,提高了脫硫效率。
      【背景技術(shù)】
      [0002]近年來,隨著國家環(huán)保政策的出臺(tái),環(huán)保排放標(biāo)準(zhǔn)要求也越來越高。在傳統(tǒng)的煙氣脫硫吸收塔系統(tǒng)技術(shù)領(lǐng)域中,一方面,為了防止脫硫吸收塔內(nèi)結(jié)垢現(xiàn)象的發(fā)生,通常需要鼓入過量的氧化空氣。另一方面,由于通入了過量的氧化空氣,致使在同一環(huán)保標(biāo)準(zhǔn)(6%含氧量)的情形下,進(jìn)入脫硫吸收塔系統(tǒng)前已達(dá)標(biāo)的氮氧化物濃度在通過脫硫吸收塔系統(tǒng)后其排放濃度又達(dá)不到國標(biāo)的合格水平。因此,為了重新達(dá)到國家的合格排放標(biāo)準(zhǔn),現(xiàn)有技術(shù)一般都是通過改造鍋爐,引入SCNR或SCR裝置,采用含氨基的還原劑(如氨水,尿素溶液等)噴入爐內(nèi),將煙氣中的氮氧化物還原脫除,生成氮?dú)夂退那鍧嵜撓跫夹g(shù),降低了煙氣中氮氧化物的含量,即使煙氣通過脫硫系統(tǒng),也不能使其超出氮氧化物的排放標(biāo)準(zhǔn);且脫硫后煙氣中硫氧化物濃度相對(duì)變小,提高了脫硫效率。然而由于額外增加了生產(chǎn)設(shè)備,并且脫硝設(shè)備的工作環(huán)境要求都非常高,導(dǎo)致增加了不必要的額外生產(chǎn)成本,還占據(jù)了脫硫吸收塔額外的工作空間。
      【實(shí)用新型內(nèi)容】
      [0003]為了克服現(xiàn)有煙氣脫硫吸收塔系統(tǒng)前后氮氧化物排出濃度不一致的技術(shù)缺陷,本實(shí)用新型提供一種新型的單塔雙漿液池脫硫裝置。
      [0004]為實(shí)現(xiàn)上述實(shí)用新型目的,本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案為:一種單塔雙漿液池脫硫裝置,包括吸收塔漿液池,所述吸收塔漿液池底部設(shè)有漿液栗,所述漿液栗通過連通管與塔外漿液氧化池的入口連接,所述塔外漿液氧化池的出口處設(shè)有石膏排出栗,所述石膏排出栗與石膏排出管道連接,所述塔外漿液氧化池上安裝有氧化空氣管道。
      [0005]上述方案中,所述吸收塔漿液池上設(shè)有排污口、液位計(jì)、攪拌器、漿液循環(huán)管道、溢流管口和供楽管道。
      [0006]上述方案中,所述攪拌器為側(cè)入式攪拌器,所述攪拌器的轉(zhuǎn)動(dòng)軸線與水平面呈10°夾角,所述攪拌器距所述吸收塔漿液池底部的距離為800~1200mm。
      [0007]上述方案中,所述液位計(jì)的接口距所述吸收塔漿液池底部的距離為500 mm。
      [0008]上述方案中,所述供漿管道的接口距煙道進(jìn)口下端的距離為500~1000mm。
      [0009]上述方案中,所述漿液循環(huán)管道的接口距所述吸收塔漿液池底部的距離為1500?2500mmo
      [0010]上述方案中,所述溢流管的接口位于吸收塔漿液池正常液位下800~1000mm,所述溢流管的最高端位于溢流管的接口上方1500~2000_處。
      [0011 ] 上述方案中,所述氧化空氣管與水平面的夾角呈30 °,所述氧化空氣管出口端距所述塔外漿液氧化池底部的距離為3000~4500mm。
      [0012]上述方案中,所述塔外漿液氧化池頂部設(shè)有呼吸閥。
      [0013]上述方案中,所述塔外漿液氧化池位于地面或地下。
      [0014]本實(shí)用新型具有積極的效果:(1) 一方面,將吸收塔漿液池與塔外漿液氧化池通過底部附有漿液栗的連通管連接,可以利用漿液栗的流量調(diào)節(jié)來調(diào)整控制吸收塔漿液池內(nèi)漿液的密度,在防止結(jié)垢沉淀的同時(shí)提高脫硫的效率;另一方面,通過氧化空氣管道向塔外漿液氧化池中注入氧化空氣,將漿液中亞硫酸鈣或亞硫酸氫鈣氧化成硫酸鈣,通過石膏排出栗將形成的石膏漿液通過石膏排出管道排出,從而實(shí)現(xiàn)了氧化系統(tǒng)與脫硫吸收系統(tǒng)的完全分離,杜絕了再向脫硫系統(tǒng)中鼓入氧化空氣,從而使脫硫系統(tǒng)前后氮氧化物排出濃度保持不變。(2)此單塔雙漿液池的設(shè)計(jì)方式,在降低吸收塔液位高度的同時(shí),也降低了對(duì)吸收塔的壁板強(qiáng)度要求,減少了生產(chǎn)成本,且設(shè)備結(jié)構(gòu)簡單,操作方便。(3)塔外漿液池的設(shè)計(jì)方式,可作為事故漿液池來使用,不僅降低了成本,且合理利用了空間。
      【附圖說明】
      [0015]為了使本實(shí)用新型的內(nèi)容更容易被清楚地理解,下面根據(jù)具體實(shí)施例并結(jié)合附圖,對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。
      [0016]圖1是本實(shí)用新型的單塔雙漿液池示意圖。
      [0017]圖中:1.塔外漿液氧化池;2.氧化空氣管道;3.呼吸閥;4.石膏排出管道;5.連通管;6.攪拌器;7.吸收塔漿液池;8.排污口;9.液位計(jì);10.漿液循環(huán)管道;11.供楽管道;12.溢流管;13.煙道進(jìn)口。
      【具體實(shí)施方式】
      [0018]如圖1所示,本實(shí)用新型的單塔雙漿液池脫硫裝置,包括吸收塔漿液池7和塔外漿液氧化池1,所述吸收塔漿液池7底部設(shè)有漿液栗,漿液栗通過連通管5與塔外漿液氧化池1的入口連接。所述吸收塔漿液池7上自下而上依次設(shè)有排污口 8、液位計(jì)9、攪拌器6、供漿管道11、溢流管12和漿液循環(huán)管道10,所述排污口 8用于漿液排空;所述攪拌器6為側(cè)入式攪拌器,攪拌器6與水平面傾斜10°,其吸收塔漿液池7底部的距離為800~1200mm,有利于漿液的充分混合,從而防止沉淀結(jié)垢;漿液循環(huán)管道10用于吸收塔漿液池內(nèi)漿液的循環(huán)運(yùn)轉(zhuǎn)。所述塔外漿液氧化池1位于地面上,或者為了節(jié)約空間,也可以設(shè)置在地下。所示塔外漿液氧化池1的出口處設(shè)有石膏排出栗,所述石膏排出栗與石膏排出管道4連接,頂部設(shè)有呼吸閥3,所述塔外漿液氧化池1上還安裝有氧化空氣管道2。優(yōu)選的,所述氧化空氣管2與水平面的夾角呈30°,所述氧化空氣管2出口端距所述塔外漿液氧化池1底部的距離為3000~4500mm。本實(shí)施例的優(yōu)選尺寸如下:優(yōu)選的,所述液位計(jì)9的接口距所述吸收塔漿液池7底部的距離為500 mm。優(yōu)選的,所述供漿管道11的接口距煙道進(jìn)口 13下端的距離為500~1000mm。優(yōu)選的,所述漿液循環(huán)管道10的接口距所述吸收塔漿液池7底部的距離為1500~2500mm。優(yōu)選的,所述溢流管12的接口位于吸收塔漿液池正常液位下800~1000mm,所述溢流管12的最高端位于溢流管的接口上方1500~2000mm處,以防止吸收塔漿液池7內(nèi)的煙氣從溢流管12處溢出。
      [0019]本實(shí)用新型的技術(shù)實(shí)現(xiàn)機(jī)理是通過將漿液輸出到塔外進(jìn)行氧化,從而調(diào)整和控制吸收塔漿液池7內(nèi)漿液的密度,防止了吸收塔漿液池7內(nèi)結(jié)垢沉淀的產(chǎn)生。本實(shí)施例的具體實(shí)現(xiàn)過程為:當(dāng)吸收塔漿液池7內(nèi)的漿液密度達(dá)到規(guī)定值時(shí),例如達(dá)到最優(yōu)值1030 kg/m3時(shí),漿液栗自動(dòng)開啟,利用漿液栗排出吸收塔漿液池7中約1/10的漿液,在液位計(jì)9的探測下,不足正常液位深度,需向吸收塔漿液池7內(nèi)通過供漿管道11輸入新的漿液,當(dāng)輸入的漿液滿足正常液位深度后,供漿管道11自行停止工作;由于漿液栗排走了吸收塔漿液池7內(nèi)部分高密度的漿液,能夠有效防止和緩解吸收塔漿液池7內(nèi)結(jié)垢沉淀的產(chǎn)生,同時(shí),也使得吸收塔漿液池7的脫硫效率有所提高。當(dāng)塔外漿液氧化池1內(nèi)被連通管5輸入高密度漿液后,氧化空氣管道2向塔外漿液氧化池1中注入氧化空氣,將塔外漿液氧化池1內(nèi)漿液含有的亞硫酸鈣或亞硫酸氫鈣氧化成硫酸鈣,并通過石膏排出栗將形成的石膏漿液通過石膏排出管道4排出。優(yōu)選的,所述呼吸閥3位于塔外漿液氧化池1的頂部,主要用于平衡氧化池內(nèi)氣壓和外界大氣壓,防止爆炸現(xiàn)象的發(fā)生。例外的,當(dāng)液位計(jì)9出現(xiàn)某些故障后,超過正常液位的漿液將通過溢流管12排出。本實(shí)用新型通過將原有脫硫塔內(nèi)一體漿液池轉(zhuǎn)化為一個(gè)吸收塔漿液池和一個(gè)塔外漿液氧化池,實(shí)現(xiàn)了氧化系統(tǒng)與脫硫吸收系統(tǒng)的完全分離,杜絕了再向吸收塔漿液池中鼓入氧化空氣,在同一標(biāo)準(zhǔn)6%含氧量下,使吸收塔漿液池前后氮氧化物排出濃度保持不變;且使脫硫后煙氣中硫氧化物濃度相對(duì)變小,提高了脫硫效率。
      [0020]以上所述的具體實(shí)施例,對(duì)本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案和有益效果進(jìn)行了進(jìn)一步詳細(xì)說明,所應(yīng)理解的是,以上所述僅為本實(shí)用新型的具體實(shí)施例而已,并不用于限制本實(shí)用新型,凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi),所做的任何修改、等同替換、改進(jìn)等,均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
      【主權(quán)項(xiàng)】
      1.一種單塔雙漿液池脫硫裝置,包括吸收塔漿液池(7),其特征在于,所述吸收塔漿液池(7)底部設(shè)有漿液栗,所述漿液栗通過連通管(5)與塔外漿液氧化池(1)的入口連接,所述塔外漿液氧化池(1)的出口處設(shè)有石膏排出栗,所述石膏排出栗與石膏排出管道(4)連接,所述塔外漿液氧化池(1)上安裝有氧化空氣管道(2)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種單塔雙漿液池脫硫裝置,其特征在于,所述吸收塔漿液池(7)上設(shè)有排污口(8)、液位計(jì)(9)、攪拌器(6)、漿液循環(huán)管道(10)、溢流管(12)和供漿管道(11)。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種單塔雙漿液池脫硫裝置,其特征在于,所述攪拌器(6)為側(cè)入式攪拌器,所述攪拌器(6)的轉(zhuǎn)動(dòng)軸線與水平面呈10°夾角,所述攪拌器(6)距所述吸收塔漿液池(7)底部的距離為800~1200mm。4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種單塔雙漿液池脫硫裝置,其特征在于,所述液位計(jì)(9)的接口距所述吸收塔漿液池(7)底部的距離為500 mm。5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種單塔雙漿液池脫硫裝置,其特征在于,所述供漿管道(11)的接口距煙道進(jìn)口(13)下端的距離為500~1000mm。6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種單塔雙漿液池脫硫裝置,其特征在于,所述漿液循環(huán)管道(10)的接口距所述吸收塔漿液池(7)底部的距離為1500~2500mm。7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種單塔雙漿液池脫硫裝置,其特征在于,所述溢流管(12)的接口位于吸收塔漿液池正常液位下800~1000mm,所述溢流管(12)的最高端位于溢流管的接口上方1500~2000mm處。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種單塔雙漿液池脫硫裝置,其特征在于,所述氧化空氣管(2)與水平面的夾角呈30°,所述氧化空氣管(2)出口端距所述塔外漿液氧化池(1)底部的距離為 3000~4500mm。9.根據(jù)權(quán)利要求1或2或8所述的一種單塔雙漿液池脫硫裝置,其特征在于,所述塔外漿液氧化池(1)頂部設(shè)有呼吸閥(3 )。10.根據(jù)權(quán)利要求1或2或8所述的一種單塔雙漿液池脫硫裝置,其特征在于,所述塔外漿液氧化池(1)位于地面或地下。
      【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種單塔雙漿液池脫硫裝置,包括吸收塔漿液池,所述吸收塔漿液池底部設(shè)有漿液泵,所述漿液泵通過連通管與塔外漿液氧化池的入口連接,所述塔外漿液氧化池的出口處設(shè)有石膏排出泵,所述石膏排出泵與石膏排出管道連接,所述塔外漿液氧化池上安裝有氧化空氣管道。本實(shí)用新型通過將原有技術(shù)塔內(nèi)一體的漿液池轉(zhuǎn)化為一個(gè)塔內(nèi)漿液池和一個(gè)塔外漿液氧化池,將吸收塔漿液池的氧化系統(tǒng)與吸收系統(tǒng)相分離,從而杜絕吸收塔內(nèi)煙氣中氧氣的含量,在同一標(biāo)準(zhǔn)6%含氧量下,使脫硫前后煙氣中氮氧化物濃度恒定不變;且脫硫后煙氣中硫氧化物濃度相對(duì)變小,提高了脫硫效率。
      【IPC分類】B01D53/96, B01D53/80, B01D53/50
      【公開號(hào)】CN204952657
      【申請?zhí)枴緾N201520707119
      【發(fā)明人】楊正鵬, 周存華, 武興華
      【申請人】江蘇鯤鵬環(huán)保工程技術(shù)有限公司
      【公開日】2016年1月13日
      【申請日】2015年9月14日
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