一種鈉鈣雙堿法煙氣脫硫自動(dòng)循環(huán)回流再生系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種鈉鈣雙堿法煙氣脫硫自動(dòng)循環(huán)回流再生系統(tǒng)，屬于煙氣脫硫技術(shù)領(lǐng)域。其包括加藥裝置、pH傳感器、再生裝置、沉淀裝置和PLC系統(tǒng)，加藥裝置配合pH傳感器及PLC系統(tǒng)控制再生裝置內(nèi)液體的pH值，沉淀裝置配合pH傳感器及PLC系統(tǒng)自動(dòng)排泥；沉淀裝置的沉淀池底部設(shè)有石膏助排器，石膏助排器的刮板與豎直方向呈60°角，沉淀池表面負(fù)荷為0.6～0.8m3/m2·h，沉淀池底部斜坡坡度大于55°。本實(shí)用新型實(shí)現(xiàn)了高度的自動(dòng)化，減少了人力需求，同時(shí)能夠更加精準(zhǔn)的把握系統(tǒng)的處理情況及處理效果，有效的減少了人工判斷存在的誤差，排泥順暢，堵塞現(xiàn)象少。
【專利說明】
-種納巧雙堿法煙氣脫硫自動(dòng)循環(huán)回流再生系統(tǒng)
技術(shù)領(lǐng)域
[0001 ]本實(shí)用新型設(shè)及一種鋼巧雙堿法煙氣脫硫自動(dòng)循環(huán)回流再生系統(tǒng)，屬于煙氣脫硫
技術(shù)領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002] 目前，濕式石灰石/石灰-石膏法在當(dāng)今煙氣脫硫技術(shù)中占主導(dǎo)地位，但脫硫塔容 易結(jié)垢甚至堵塞。為了克服石灰石/石灰-石膏濕法容易結(jié)垢和堵塞的缺點(diǎn)，發(fā)展了雙堿法。
[0003] 鋼巧雙堿法是W鋼堿(氨氧化鋼或碳酸鋼)作為吸收劑，并采用石灰對(duì)鋼堿再生的 工藝。鋼堿溶解度大，化學(xué)活性高，脫硫效率高，但價(jià)格昂貴，所W采用價(jià)格低廉的石灰與亞 硫酸鋼、亞硫酸氨鋼、硫酸鋼反應(yīng)進(jìn)行鋼堿再生，W降低運(yùn)行費(fèi)用。
[0004] 國內(nèi)目前已建立了多套鋼巧雙堿法的裝置，但是往往存在W下幾點(diǎn)問題:第一，自 動(dòng)化程度低，需要人工現(xiàn)場觀察沉淀情況，難W做到精準(zhǔn)地把握;第二，經(jīng)過沉淀之后，往往 液體偏渾濁，容易帶出大量的巧離子;第Ξ，沉淀后的渺泥，由人工判斷排放時(shí)間，不易掌 控，造成堆積，而且很難排放徹底;第四，系統(tǒng)在持續(xù)的高抑值環(huán)境下運(yùn)行，容易結(jié)垢，造成 堵塞。 【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0005] 本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述不足，而提供一種自動(dòng)化程度 高、沉淀更完全、不易結(jié)垢堵塞的鋼巧雙堿法煙氣脫硫自動(dòng)循環(huán)回流再生系統(tǒng)。
[0006] 本實(shí)用新型解決上述問題所采用的技術(shù)方案是:一種鋼巧雙堿法煙氣脫硫自動(dòng)循 環(huán)回流再生系統(tǒng)，其特征在于:包括加藥裝置、抑傳感器、再生裝置、沉淀裝置和PLC系統(tǒng)，所 述再生裝置包括再生池、再生池?cái)埌铏C(jī)和再生池提升累，所述沉淀裝置包括沉淀池、穩(wěn)流中 屯、桶、石膏助排器、密度儀傳感器和排泥累，所述沉淀池底部內(nèi)面為一個(gè)斜度不同的兩截式 圓錐狀斜坡，內(nèi)截斜坡傾斜度大于外截斜坡;石膏助排器的若干刮板倚靠外截斜坡平行布 置；
[0007] 所述加藥裝置與化C系統(tǒng)連接，且出藥口置于再生池內(nèi)；所述抑傳感器檢測再生池 內(nèi)液體的抑值并將信號(hào)反饋給化C系統(tǒng);所述再生池?cái)埌铏C(jī)與再生池的上蓋板連接，懸置于 再生池內(nèi)；所述再生池提升累一端與再生池內(nèi)液體接觸，另一端通入所述穩(wěn)流中屯、桶內(nèi)；所 述穩(wěn)流中屯、桶固定于沉淀池的上蓋板中屯、位置;所述密度儀傳感器置于沉淀池底部中屯、位 置，密度儀傳感器通過導(dǎo)線與所述化C系統(tǒng)連接;所述排泥累一端穿透沉淀池與沉淀池底部 連接，另一端置于沉淀池之外，且受控于PCL系統(tǒng)。
[000引所述加藥裝置包括石灰儲(chǔ)倉、加藥箱和加藥累，所述石灰儲(chǔ)倉按一定的量將藥提 供給所述加藥箱，所述加藥箱與加藥累連接，所述加藥累與化C系統(tǒng)連接。
[0009]沉淀池表面負(fù)荷為0.6~O.SmVm2 · h，底部外截斜坡坡度大于55°。石膏助排器的 刮板為不誘鋼刮板，且排布朝向與豎直方向呈60°角。
[0010]本實(shí)用新型采用抑傳感器自動(dòng)感應(yīng)再生池內(nèi)液體的pH值，并將數(shù)據(jù)反饋到PLC#、 統(tǒng)，由系統(tǒng)自動(dòng)調(diào)整再生池內(nèi)液體的抑值，提高了系統(tǒng)的自動(dòng)化程度;沉淀池沉淀效果好， 上清液清澈，基本不帶出巧離子；同時(shí)采用經(jīng)過特殊設(shè)計(jì)的石膏助排裝置，排泥徹底，不堵 塞排泥管;此外，還兼具自動(dòng)排泥的功能，利用密度儀傳感器感應(yīng)系統(tǒng)內(nèi)底渣的含固情況， 及時(shí)排除渺泥。
[0011] 本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比，具有W下優(yōu)點(diǎn)和效果:采用抑傳感器及密度感應(yīng)器 和PCL控制系統(tǒng)的配合，實(shí)現(xiàn)了高度的自動(dòng)化，減少了人力需求，同時(shí)能夠更加精準(zhǔn)的把握 系統(tǒng)的處理情況及處理效果，有效的減少了人工判斷存在的誤差，排泥順楊，堵塞現(xiàn)象少。
【附圖說明】
[0012] 圖1為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖。
[0013] 附圖中：1為加藥箱，2為加藥累，3為pH傳感器，4為再生池，5為再生池?cái)埌铏C(jī)，6為 再生池提升累，7為沉淀池，8為穩(wěn)流中屯、桶，9為石膏助排器，10為密度儀傳感器，11為排泥 累，12為塔外循環(huán)池，13為石灰儲(chǔ)倉。
【具體實(shí)施方式】
[0014] 下面結(jié)合附圖并通過實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的詳細(xì)說明，W下實(shí)施例是對(duì) 本實(shí)用新型的解釋而本實(shí)用新型并不局限于W下實(shí)施例。
[001引參見圖1，本實(shí)施例包括加藥裝置、抑傳感器3、再生裝置、沉淀裝置、PLC系統(tǒng)和塔 外循環(huán)池12。加藥裝置包括石灰儲(chǔ)倉13、加藥箱1和加藥累2,再生裝置包括再生池4、再生池 攬拌機(jī)5和再生池提升累6，再生池?cái)埌铏C(jī)5包括電機(jī)一和攬拌漿葉;沉淀裝置包括沉淀池7、 穩(wěn)流中屯、桶8、石膏助排器9、密度儀傳感器10和排泥累11，石膏助排器9包括不誘鋼刮板和 電機(jī)二。
[0016] 塔外循環(huán)池12通過管道和再生池4連接，用累將池內(nèi)的再生液體打入再生池4內(nèi)。 pH傳感器3直接置于再生池4內(nèi)，與再生液體接觸，抑傳感器3的一端通過導(dǎo)線與化C系統(tǒng)連 接，繼而根據(jù)事先設(shè)定好的pH值，由石灰儲(chǔ)倉13按一定的量將藥提供給加藥箱1，加藥累2也 受化C系統(tǒng)控制，自動(dòng)將藥加入再生池4內(nèi)。抑傳感器3實(shí)時(shí)反饋再生液體的抑值，由化C系統(tǒng) 根據(jù)反饋信息進(jìn)行調(diào)整。
[0017] 再生池4內(nèi)設(shè)有再生池?cái)埌铏C(jī)5，電機(jī)一固定于再生池4的上蓋板之上，攬拌棒懸置 于再生池4內(nèi)。再生池4的底部還設(shè)有再生池提升累6,由再生池提升累則尋溶液提升至沉淀 池7的穩(wěn)流中屯、桶8的桶內(nèi)。穩(wěn)流中屯、桶8固定于沉淀池7的上蓋板中屯、位置。
[001引沉淀池7表面負(fù)荷為0.6~O.Sm^m2 · h，沉淀池7底部內(nèi)面為兩個(gè)斜度不同的圓錐 狀的兩截式斜坡，外截斜坡W沉淀池7內(nèi)徑為最大直徑，向內(nèi)逐漸傾斜，且斜坡坡度大于 55%內(nèi)截斜坡W外截斜坡的最小直徑為最大直徑向內(nèi)逐漸傾斜，且內(nèi)截斜坡的坡度大于外 截斜坡的坡度。
[0019] 石膏助排器9的電機(jī)二固定于沉淀池7的上蓋板之上，不誘鋼刮板倚靠沉淀池7底 部的外截斜坡平行布置，每片刮板與豎直方向呈60°角。
[0020] 沉淀池7底部中屯、位置還設(shè)有密度儀傳感器10。密度儀傳感器10通過導(dǎo)線與化C系 統(tǒng)連接，將沉淀池底部渺泥的密度情況反饋給化C系統(tǒng)。
[0021] 排泥累11受控于化C系統(tǒng)。在化C系統(tǒng)接收到密度儀傳感器10的信息反饋并做合理 分析之后，控制排泥累11的開啟或關(guān)閉，做到及時(shí)將渺泥排出沉淀池4,避免底部渺泥渺積 堵塞。
[0022] 其使用方法如下：
[0023] 1)系統(tǒng)初運(yùn)行時(shí)，在所述加藥箱1內(nèi)配置體積濃度約為10%氨氧化巧待用。
[0024] 2)由系統(tǒng)前端的塔外循環(huán)池12根據(jù)特定的回流比例用累將溶液打入再生池4,啟 動(dòng)抑控制系統(tǒng)，pH設(shè)定在9.5~10。
[002引3)抑傳感器3實(shí)時(shí)檢測再生池4內(nèi)溶液的抑值，并將反饋信號(hào)傳輸至化C系統(tǒng)，再由 PLC系統(tǒng)開啟加藥累2, W調(diào)節(jié)再生池4內(nèi)溶液的pH值，使池內(nèi)的抑值維持在最佳再生和沉淀 效果最佳的抑值。
[0026] 4)同時(shí)，利用再生池4內(nèi)的攬拌機(jī)充分?jǐn)埌柙偕?內(nèi)的溶液，之后由再生池4提升 累將溶液輸送到沉淀池7內(nèi)進(jìn)行沉淀。
[0027] 5)沉淀池7底部的密度儀傳感器實(shí)時(shí)感應(yīng)沉淀池7內(nèi)底渣的含固情況，并將反饋信 號(hào)傳輸至化C系統(tǒng)，再由化C系統(tǒng)開啟排泥累11，將底渣排入后端氧化系統(tǒng)進(jìn)行氧化處理。 [00%]脫硫過程主要化學(xué)反應(yīng)如下：
[0029] (1)脫硫
[0030] S〇2+2NaOH=Na2S〇3+出 0
[0031] Na2S〇3+S〇2+出 0 = 2NaHS〇3
[0032] (2)再生
[0033] Na2S〇3+Ca(OH)2+l/2出0 = 2化OH+CaS〇3 · 1/2出0
[0034] 2船服〇3+〔曰（0扣2 =船25〇3+〔曰5〇3*1/2出0+3/2出0
[0035] (3)副反應(yīng)
[0036] Na2S〇3+l/2 化= Na2S〇4
[0037] (4)硫酸鋼再生
[0038] Na2S〇4+Ca(OH)2+2出0 = 2化OH+CaS〇4 · 2出0
[0039] 本實(shí)施例與現(xiàn)有技術(shù)的對(duì)比：
[0040]
[0041] 雖然本實(shí)用新型已W實(shí)施例公開如上，但其并非用W限定本實(shí)用新型的保護(hù)范 圍，任何熟悉該項(xiàng)技術(shù)的技術(shù)人員，在不脫離本實(shí)用新型的構(gòu)思和范圍內(nèi)所作的更動(dòng)與潤 飾，均應(yīng)屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種鈉鈣雙堿法煙氣脫硫自動(dòng)循環(huán)回流再生系統(tǒng)，其特征在于:包括加藥裝置、pH傳 感器、再生裝置、沉淀裝置和PLC系統(tǒng)，所述再生裝置包括再生池、再生池?cái)嚢铏C(jī)和再生池提 升栗，所述沉淀裝置包括沉淀池、穩(wěn)流中心桶、石膏助排器、密度儀傳感器和排泥栗，所述沉 淀池底部內(nèi)面為一個(gè)斜度不同的兩截式圓錐狀斜坡，內(nèi)截斜坡傾斜度大于外截斜坡;石膏 助排器的若干刮板倚靠外截斜坡平行布置； 所述加藥裝置與PLC系統(tǒng)連接，且出藥口置于再生池內(nèi)；所述pH傳感器檢測再生池內(nèi)液 體的pH值并將信號(hào)反饋給PLC系統(tǒng);所述再生池?cái)嚢铏C(jī)與再生池的上蓋板連接，懸置于再生 池內(nèi)；所述再生池提升栗一端與再生池內(nèi)液體接觸，另一端通入所述穩(wěn)流中心桶內(nèi)；所述穩(wěn) 流中心桶固定于沉淀池的上蓋板中心位置;所述密度儀傳感器置于沉淀池底部中心位置， 密度儀傳感器通過導(dǎo)線與所述PLC系統(tǒng)連接;所述排泥栗一端穿透沉淀池與沉淀池底部連 接，另一端置于沉淀池之外，且受控于PLC系統(tǒng)。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的鈉鈣雙堿法煙氣脫硫自動(dòng)循環(huán)回流再生系統(tǒng)，其特征在于:所 述加藥裝置包括給藥裝置、加藥箱和加藥栗，所述給藥裝置按一定的量將藥提供給所述加 藥箱，所述加藥箱與加藥栗連接，所述加藥栗與PLC系統(tǒng)連接。3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的鈉鈣雙堿法煙氣脫硫自動(dòng)循環(huán)回流再生系統(tǒng)，其特征在于:所 述沉淀池底部外截斜坡坡度大于55°。4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的鈉鈣雙堿法煙氣脫硫自動(dòng)循環(huán)回流再生系統(tǒng)，其特征在于:所 述石膏助排器的刮板為不銹鋼刮板，且排布朝向與豎直方向呈60°角。
【文檔編號(hào)】B01D53/50GK205613265SQ201620044857
【公開日】2016年10月5日
【申請(qǐng)日】2016年1月11日
【發(fā)明人】王偉能, 陳慶榮, 王衛(wèi)文, 裘余丹, 汪恩典, 張學(xué)峰, 陳國棟
【申請(qǐng)人】煤科集團(tuán)杭州環(huán)保研究院有限公司