篩式顆粒原料鐵雜質(zhì)清除裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種篩式顆粒原料鐵雜質(zhì)清除裝置，其特征在于包括上篩和下篩，上篩位于下篩上部，上篩為陣列分布在料斗內(nèi)的條形格柵條構(gòu)成，格柵條兩側(cè)空隙構(gòu)成上層流道；下篩為陣列分布在料斗內(nèi)的條形吸附條構(gòu)成，吸附條兩側(cè)空隙構(gòu)成下層流道，下層流道截面積小于上層流道截面積；吸附條為中空結(jié)構(gòu)，兩端貫穿料斗側(cè)壁在料斗外部形成開放口，吸附條處于料斗內(nèi)部分的側(cè)面設(shè)有縱向的側(cè)開口，吸附條內(nèi)側(cè)開口上方的槽內(nèi)固定鋪設(shè)有永磁體條，永磁體條下面高于側(cè)開口邊緣，吸附條內(nèi)側(cè)開口下方槽為收集槽，吸附條兩端內(nèi)面設(shè)有與側(cè)開口連接的導(dǎo)向槽；確保了顆粒原料的純度。
【專利說明】篩式顆粒原料鐵雜質(zhì)清除裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種工業(yè)生產(chǎn)顆粒原料的除鐵設(shè)備，特別是涉及一種篩式顆粒原料鐵雜質(zhì)清除裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]在一些工業(yè)生產(chǎn)中常常要用到顆粒原料，如塑膠加工和食品加工行業(yè)，為了確保原料的純度，特別是一些容易弄傷機(jī)器和影響產(chǎn)成品電導(dǎo)率的鐵雜質(zhì)，必須要在進(jìn)入機(jī)器生產(chǎn)前剔除，這就要用到除鐵裝置，現(xiàn)有都是通過在入料口處放置永磁體來吸附清除鐵雜質(zhì)，含鐵雜質(zhì)吸附在永磁體表面，由于永磁體處在流料中，在吸附的含鐵雜質(zhì)不能及時(shí)分離排出，積累到一定程度，在流料沖擊裹挾下又會(huì)混在流料內(nèi)進(jìn)入生產(chǎn)設(shè)備，進(jìn)而損壞生產(chǎn)設(shè)備，影響產(chǎn)品性能，這仍有待于改進(jìn)完善。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0003]為了解決上述問題，本實(shí)用新型提供了一種篩式顆粒原料鐵雜質(zhì)清除裝置。
[0004]本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案為:一種篩式顆粒原料鐵雜質(zhì)清除裝置，其特征在于包括上篩和下篩，上篩位于下篩上部，上篩為陣列分布在料斗內(nèi)的條形格柵條構(gòu)成，格柵條兩側(cè)空隙構(gòu)成上層流道；下篩為陣列分布在料斗內(nèi)的條形吸附條構(gòu)成，吸附條兩側(cè)空隙構(gòu)成下層流道，下層流道截面積小于上層流道截面積；吸附條為中空結(jié)構(gòu)，兩端貫穿料斗側(cè)壁在料斗外部形成開放口，吸附條處于料斗內(nèi)部分的側(cè)面設(shè)有縱向的側(cè)開口，吸附條內(nèi)側(cè)開口上方的槽內(nèi)固定鋪設(shè)有永磁體條，永磁體條下面高于側(cè)開口邊緣，吸附條內(nèi)側(cè)開口下方槽為收集槽，吸附條兩端內(nèi)面設(shè)有與側(cè)開口連接的導(dǎo)向槽；設(shè)有一可由吸附條中空位置穿過的清除條，清除條為前端開放的槽型，清除條兩側(cè)板外面設(shè)有吻合在導(dǎo)向槽和側(cè)開口內(nèi)的側(cè)滑凸條，清除條槽內(nèi)設(shè)有一上端彈出槽上口的刮板。
[0005]進(jìn)一步的，所述吸附條前端為下視可見的斜面。
[0006]進(jìn)一步的，所述側(cè)滑凸條突出于吸附條的前端。
[0007]本實(shí)用新型上層流道截面積大于下層流道截面積，流過下篩的顆粒不擁堵，顆粒原料流過時(shí)，鐵雜質(zhì)在永磁體條吸力下由吸附條的側(cè)開口進(jìn)入，吸附在永磁體條的下面而不會(huì)隨料流進(jìn)入下一道工序，積累到一定程度后將清除條前端開放端插入吸附條內(nèi)，在刮板作用下將鐵雜質(zhì)前推并剝落到清除條的槽體內(nèi)，將清除條由另一端抽出，即可倒出鐵雜質(zhì)，確保了顆粒原料的純度。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0008]圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例整體結(jié)構(gòu)示意圖。
[0009]圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例剖視圖。
[0010]圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例吸附條結(jié)構(gòu)視圖。
[0011]圖中標(biāo)號(hào)名稱:1格柵條；2吸附條；3側(cè)開口 ；4永磁體條；5收集槽；6導(dǎo)向槽；7清除條；8側(cè)滑凸條；9刮板。

【具體實(shí)施方式】
[0012]本實(shí)用新型實(shí)施例如圖1、2、3所示，該篩式顆粒原料鐵雜質(zhì)清除裝置設(shè)有上篩和下篩，上篩位于下篩上部，上篩為陣列分布在料斗內(nèi)的條形格柵條I構(gòu)成，格柵條兩側(cè)空隙構(gòu)成上層流道；下篩為陣列分布在料斗內(nèi)的條形吸附條2構(gòu)成，吸附條兩側(cè)空隙構(gòu)成下層流道，下層流道截面積小于上層流道截面積；吸附條為中空結(jié)構(gòu)，兩端貫穿料斗側(cè)壁在料斗外部形成開放口，吸附條處于料斗內(nèi)部分的側(cè)面設(shè)有縱向的側(cè)開口 3，吸附條內(nèi)側(cè)開口上方的槽內(nèi)固定鋪設(shè)有永磁體條4，永磁體條下面高于側(cè)開口邊緣，形成鐵雜質(zhì)容置空間，吸附條內(nèi)側(cè)開口下方槽為收集槽5，吸附條兩端內(nèi)面設(shè)有與側(cè)開口連接的導(dǎo)向槽6;設(shè)有一可由吸附條中空位置穿過的清除條7，清除條為前端開放的槽型，清除條兩側(cè)板外面設(shè)有吻合在導(dǎo)向槽和側(cè)開口內(nèi)的側(cè)滑凸條8，清除條槽內(nèi)設(shè)有一上端彈出槽上口的刮板9，吸附條前端為下視可見的斜面，插入時(shí)先行封堵側(cè)開口，防止清理鐵雜質(zhì)在前端淤積后由側(cè)開口落出。本實(shí)用新型上層流道截面積大于下層流道截面積，流過下篩的顆粒不擁堵，顆粒原料流過時(shí)，鐵雜質(zhì)在永磁體條吸力下由吸附條的側(cè)開口進(jìn)入，吸附在永磁體條的下面而不會(huì)隨料流進(jìn)入下一道工序，積累到一定程度后將清除條前端開放端插入吸附條內(nèi)，在刮板作用下將鐵雜質(zhì)前推并剝落到清除條的槽體內(nèi)，將清除條由另一端抽出，即可倒出鐵雜質(zhì)，確保了顆粒原料的純度。
[0013]本實(shí)用新型實(shí)施時(shí)，可將側(cè)滑凸條突出于吸附條的前端，清理時(shí)實(shí)施更好地預(yù)先封堵。
[0014]綜上所述僅為本實(shí)用新型較佳實(shí)施例，凡依本申請(qǐng)所做的等效修飾和現(xiàn)有技術(shù)添加均視為本實(shí)用新型技術(shù)范疇。
【權(quán)利要求】
1.篩式顆粒原料鐵雜質(zhì)清除裝置，其特征在于包括上篩和下篩，上篩位于下篩上部，上篩為陣列分布在料斗內(nèi)的條形格柵條構(gòu)成，格柵條兩側(cè)空隙構(gòu)成上層流道；下篩為陣列分布在料斗內(nèi)的條形吸附條構(gòu)成，吸附條兩側(cè)空隙構(gòu)成下層流道，下層流道截面積小于上層流道截面積；吸附條為中空結(jié)構(gòu)，兩端貫穿料斗側(cè)壁在料斗外部形成開放口，吸附條處于料斗內(nèi)部分的側(cè)面設(shè)有縱向的側(cè)開口，吸附條內(nèi)側(cè)開口上方的槽內(nèi)固定鋪設(shè)有永磁體條，永磁體條下面高于側(cè)開口邊緣，吸附條內(nèi)側(cè)開口下方槽為收集槽，吸附條兩端內(nèi)面設(shè)有與側(cè)開口連接的導(dǎo)向槽；設(shè)有一可由吸附條中空位置穿過的清除條，清除條為前端開放的槽型，清除條兩側(cè)板外面設(shè)有吻合在導(dǎo)向槽和側(cè)開口內(nèi)的側(cè)滑凸條，清除條槽內(nèi)設(shè)有一上端彈出槽上口的刮板， 且:所述側(cè)滑凸條突出于吸附條的前端。
【文檔編號(hào)】B03C1/30GK204234203SQ201420643219
【公開日】2015年4月1日 申請(qǐng)日期:2014年11月2日 優(yōu)先權(quán)日:2014年11月2日
【發(fā)明者】王振環(huán) 申請(qǐng)人:王振環(huán)