顆粒原料鐵雜質(zhì)螺旋式清除器的制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種顆粒原料鐵雜質(zhì)螺旋式清除器，包括料斗和流道，其特征在于流道軸向豎直排布，流道下部連接有一側(cè)向出口，料斗置于流道上方；流道內(nèi)置軸線豎直的容置筒，容置筒縱向中部側(cè)壁開(kāi)有周向陣列的豎直條孔，容置筒外壁與流內(nèi)側(cè)壁間設(shè)有螺旋片，螺旋片間的流道截面積大于料斗下開(kāi)口截面積；容置筒上端口設(shè)有一上面為錐狀的上蓋，上蓋連接有一伸入容置筒的芯管，芯管上套有一上永磁體環(huán)，永磁體環(huán)置于豎直條孔上部容置筒空間內(nèi)且靠近容置筒內(nèi)壁，容置筒下端穿出側(cè)向出口下側(cè)板，容置筒下端口設(shè)有一下蓋，下蓋連接有一伸入容置筒的支撐桿，支撐桿上套有一下永磁體環(huán)；確保了顆粒原料的純度。
【專利說(shuō)明】顆粒原料鐵雜質(zhì)螺旋式清除器

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種工業(yè)生產(chǎn)顆粒原料的除鐵設(shè)備，特別是涉及一種顆粒原料鐵雜質(zhì)螺旋式清除器。

【背景技術(shù)】
[0002]在一些工業(yè)生產(chǎn)中常常要用到顆粒原料，如塑膠加工和食品加工行業(yè)，為了確保原料的純度，特別是一些容易弄傷機(jī)器和影響產(chǎn)成品電導(dǎo)率的鐵雜質(zhì)，必須要在進(jìn)入機(jī)器生產(chǎn)前剔除，這就要用到除鐵裝置，現(xiàn)有都是通過(guò)在入料口處放置永磁體來(lái)吸附清除鐵雜質(zhì)，含鐵雜質(zhì)吸附在永磁體表面，由于永磁體處在流料中，在吸附的含鐵雜質(zhì)不能及時(shí)分離排出，積累到一定程度，在流料沖擊裹挾下又會(huì)混在流料內(nèi)進(jìn)入生產(chǎn)設(shè)備，進(jìn)而損壞生產(chǎn)設(shè)備，影響產(chǎn)品性能，這仍有待于改進(jìn)完善。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0003]為了解決上述問(wèn)題，本實(shí)用新型提供了一種顆粒原料鐵雜質(zhì)螺旋式清除器。
[0004]本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案為:一種顆粒原料鐵雜質(zhì)螺旋式清除器，包括料斗和流道，其特征在于流道軸向豎直排布，流道下部連接有一側(cè)向出口，料斗置于流道上方；流道內(nèi)置軸線豎直的容置筒，容置筒縱向中部側(cè)壁開(kāi)有周向陣列的豎直條孔，容置筒外壁與流內(nèi)側(cè)壁間設(shè)有螺旋片，螺旋片間的流道截面積大于料斗下開(kāi)口截面積；容置筒上端口設(shè)有一上面為錐狀的上蓋，上蓋連接有一伸入容置筒的芯管，芯管上套有一上永磁體環(huán)，永磁體環(huán)置于豎直條孔上部容置筒空間內(nèi)且靠近容置筒內(nèi)壁，容置筒下端穿出側(cè)向出口下側(cè)板，容置筒下端口設(shè)有一下蓋，下蓋連接有一伸入容置筒的支撐桿，支撐桿上套有一下永磁體環(huán)，下永磁體環(huán)上端與豎直條孔上端平齊，下永磁體環(huán)與容置筒內(nèi)壁間設(shè)有容置空間。
[0005]進(jìn)一步的，所述螺旋片大于兩頭。
[0006]進(jìn)一步的，所述上蓋與料斗下開(kāi)口同軸。
[0007]本實(shí)用新型使用時(shí)，螺旋片間的流道截面積大于料斗下開(kāi)口截面積，通過(guò)螺旋片的顆粒原料不擁堵，顆粒料在離心力作用下沿外圈流動(dòng)下落，流經(jīng)上永磁體環(huán)時(shí)鐵雜質(zhì)在其吸力作用下向容置筒靠近，到達(dá)豎直條孔時(shí)在下永磁體環(huán)大吸力作用下進(jìn)入容置筒內(nèi)的容置空間，吸附在下永磁體環(huán)上，吸附一段時(shí)間后，旋下下蓋取出下永磁體環(huán)清理鐵雜質(zhì)，確保了顆粒原料的純度。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0008]圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例整體結(jié)構(gòu)示意圖。
[0009]圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例剖視圖及局部放大圖。
[0010]圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例螺旋片及連接部件分解視圖。
[0011]圖中標(biāo)號(hào)名稱:1料斗；2流道；3側(cè)向出口 ；4容置筒；5豎直條孔；6螺旋片；7上蓋；8芯管；9上永磁體環(huán)；10下蓋；11支撐桿；12下永磁體環(huán)。

【具體實(shí)施方式】
[0012]本實(shí)用新型實(shí)施例如圖1、2、3所示，該顆粒原料鐵雜質(zhì)螺旋式清除器設(shè)有料斗1和流道2，流道軸向豎直排布，流道下部連接有一側(cè)向出口 3，料斗置于流道上方；流道內(nèi)置軸線豎直的容置筒4，容置筒縱向中部側(cè)壁開(kāi)有周向陣列的豎直條孔5，容置筒外壁與流內(nèi)側(cè)壁間設(shè)有螺旋片6，螺旋片間的流道截面積大于料斗下開(kāi)口截面積；容置筒上端口設(shè)有一上面為錐狀的上蓋7，上蓋連接有一伸入容置筒的芯管8，芯管上套有一上永磁體環(huán)9，永磁體環(huán)置于豎直條孔上部容置筒空間內(nèi)且靠近容置筒內(nèi)壁，容置筒下端穿出側(cè)向出口下側(cè)板，容置筒下端口設(shè)有一下蓋10，下蓋連接有一伸入容置筒的支撐桿11，支撐桿上套有一下永磁體環(huán)12，下永磁體環(huán)上端與豎直條孔上端平齊，下永磁體環(huán)與容置筒內(nèi)壁間設(shè)有容置空間，本實(shí)施例螺旋片大于為四頭，實(shí)施時(shí)還可以一頭或兩頭及其他頭數(shù)，根據(jù)流量調(diào)節(jié)頭數(shù)，使螺旋流道內(nèi)的顆粒更疏散，提高效率，上蓋與料斗下開(kāi)口同軸，料斗下開(kāi)口落料均勻落入個(gè)螺旋。
[0013]本實(shí)用新型使用時(shí)，螺旋片間的流道截面積大于料斗下開(kāi)口截面積，通過(guò)螺旋片的顆粒原料不擁堵，顆粒料在離心力作用下沿外圈流動(dòng)下落，流經(jīng)上永磁體環(huán)時(shí)鐵雜質(zhì)在其吸力作用下向容置筒靠近，到達(dá)豎直條孔時(shí)在下永磁體環(huán)大吸力作用下進(jìn)入容置筒內(nèi)的容置空間，吸附在下永磁體環(huán)上，吸附一段時(shí)間后，旋下下蓋取出下永磁體環(huán)清理鐵雜質(zhì)，確保了顆粒原料的純度。
[0014]綜上所述僅為本實(shí)用新型較佳實(shí)施例，凡依本申請(qǐng)所做的等效修飾和現(xiàn)有技術(shù)添加均視為本實(shí)用新型技術(shù)范疇。
【權(quán)利要求】
1.一種顆粒原料鐵雜質(zhì)螺旋式清除器，包括料斗和流道，其特征在于流道軸向豎直排布，流道下部連接有一側(cè)向出口，料斗置于流道上方；流道內(nèi)置軸線豎直的容置筒，容置筒縱向中部側(cè)壁開(kāi)有周向陣列的豎直條孔，容置筒外壁與流內(nèi)側(cè)壁間設(shè)有螺旋片，螺旋片間的流道截面積大于料斗下開(kāi)口截面積；容置筒上端口設(shè)有一上面為錐狀的上蓋，上蓋連接有一伸入容置筒的芯管，芯管上套有一上永磁體環(huán)，永磁體環(huán)置于豎直條孔上部容置筒空間內(nèi)且靠近容置筒內(nèi)壁，容置筒下端穿出側(cè)向出口下側(cè)板，容置筒下端口設(shè)有一下蓋，下蓋連接有一伸入容置筒的支撐桿，支撐桿上套有一下永磁體環(huán)，下永磁體環(huán)上端與豎直條孔上端平齊，下永磁體環(huán)與容置筒內(nèi)壁間設(shè)有容置空間。
【文檔編號(hào)】B03C1/02GK204234193SQ201420643313
【公開(kāi)日】2015年4月1日 申請(qǐng)日期:2014年11月2日 優(yōu)先權(quán)日:2014年11月2日
【發(fā)明者】王振環(huán) 申請(qǐng)人:王振環(huán)