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      調(diào)節(jié)和確定氧化層循環(huán)位置的方法

      文檔序號(hào):5140711閱讀:381來源:國知局
      調(diào)節(jié)和確定氧化層循環(huán)位置的方法
      【專利摘要】調(diào)節(jié)和確定氧化層循環(huán)位置的方法,涉及煤氣的生產(chǎn)方法,調(diào)節(jié)氣化劑蒸氣流量和蒸氣壓力,依據(jù)氣化效率,確定氧化層循環(huán)位置在爐篦以上100-450mm;渣層溫度低,氧化層循環(huán)位置高,渣層溫度高,氧化層循環(huán)位置低;維持確定的氧化層循環(huán)位置穩(wěn)定。減少或消除氧化層循環(huán)位置底線,高于溫度顯示的氧化層底線,減少二底線距離波動(dòng)。改變氧化層循環(huán)位置,渣層溫度穩(wěn)定了,氣化效率穩(wěn)定,顯示升或降。調(diào)節(jié)氣化劑中蒸氣含量的方法。調(diào)節(jié)氧化層循環(huán)位置的方法。氧化層循環(huán)的第三個(gè)環(huán)節(jié)探火,時(shí)間固定;開氣封,爐內(nèi)煤氣壓力增量相等。開關(guān)氣封引起的氧化層變化與氧化層循環(huán)同步。本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于,減少結(jié)渣,提高、穩(wěn)定氣化效率。
      【專利說明】調(diào)節(jié)和確定氧化層循環(huán)位置的方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本發(fā)明涉及煤氣的生產(chǎn)方法。
      【背景技術(shù)】
      [0002]現(xiàn)有技術(shù),沒有指出氧化層循環(huán)位置,沒有調(diào)節(jié)和確定氧化層循環(huán)位置的方法,氣化效率低或不穩(wěn)定。有時(shí)氧化層循環(huán)位置低,縮短爐篦壽命。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0003]為解決上述問題,本發(fā)明的目的是提供調(diào)節(jié)氣化劑蒸氣流量和蒸氣壓力,確定氧化層循環(huán)位置的方法。
      [0004]為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采取下述技術(shù)方案:
      [0005]調(diào)節(jié)氣化劑蒸氣流量和蒸氣壓力,依據(jù)氣化效率,確定氧化層循環(huán)位置在爐篦以上100-450mm,氣化劑蒸氣含量適當(dāng),范圍是飽和溫度50_65°C對(duì)應(yīng)的氣化劑蒸氣含量,預(yù)熱后氣化劑溫度適當(dāng),氧化層循環(huán)的第三個(gè)環(huán)節(jié),預(yù)熱后氣化劑溫度范圍380-420°C,防止燒壞爐篦,減少結(jié)渣,氣化效率高;
      [0006]渣層溫度低,氧化層循環(huán)位置高,渣層溫度高,氧化層循環(huán)位置低,底部渣層溫度范圍350-450°C,維持穩(wěn)定 ,預(yù)熱后氣化劑溫度適當(dāng),氣化效率高;
      [0007]維持確定的氧化層循環(huán)位置穩(wěn)定,氣化劑蒸氣含量適當(dāng)、穩(wěn)定,預(yù)熱后氣化劑溫度適當(dāng)、穩(wěn)定,氣化效率高、穩(wěn)定。
      [0008]減少或消除氧化層循環(huán)位置底線,高于溫度顯示的氧化層底線,減少二底線距離波動(dòng),預(yù)熱后氣化劑溫度適當(dāng),氣化效率高、穩(wěn)定。
      [0009]氧化層循環(huán)位置改變5h后,渣層溫度逐步穩(wěn)定,預(yù)熱后氣化劑溫度逐步穩(wěn)定,氣化效率逐步穩(wěn)定顯示升或降,明確了改變氧化層循環(huán)位置后,判斷氣化效率升或降的時(shí)間。
      [0010]渣層溫度穩(wěn)定,底部渣層溫度降低10°C,氧化層循環(huán)位置升高8-15mm。
      [0011]渣層溫度穩(wěn)定,底部渣層溫度升高10°C,氧化層循環(huán)位置降低8-15_。
      [0012]氣化劑中蒸氣含量高,升高蒸氣壓力,減少氣化劑中蒸氣流量,氣化劑中蒸氣含量適當(dāng),氧化層循環(huán)位置不變,氣化效率升高,確定氣化劑中蒸氣含量,提高氣化效率。
      [0013]氣化劑中蒸氣含量低,降低蒸氣壓力,增加氣化劑中蒸氣流量,氣化劑中蒸氣含量適當(dāng),氧化層循環(huán)位置不變,氣化效率升高,確定氣化劑中蒸氣含量,減少結(jié)渣,提高氣化效率。
      [0014]調(diào)節(jié)氣化劑蒸氣流量和蒸氣壓力,氧化層循環(huán)位置升高或降低至適當(dāng)位置,氣化劑中蒸氣含量適當(dāng)且不變,氣化效率升高,確定氧化層循環(huán)位置,確定預(yù)熱后氣化劑溫度,提高氣化效率。
      [0015]氧化層循環(huán)的第三個(gè)環(huán)節(jié),氧化層開始上升5min后探火,增加一次氧化層小幅度上下移動(dòng),提高氣化效率;開汽封,爐內(nèi)煤氣壓力增量相等,溫度顯示的氧化層循環(huán)位置上部消失相等高度,當(dāng)做氧化層循環(huán)位置,氧化層循環(huán)長度有可比性。[0016]開汽封,減少外排蒸汽流量,蒸氣壓力不變或減少;關(guān)汽封,增加外排蒸汽流量,蒸氣壓力不變或增加,氧化層溫度波動(dòng)少,氣化效率穩(wěn)定。
      [0017]本發(fā)明的有益效果,爐篦壽命長,減少結(jié)渣,提高、穩(wěn)定氣化效率。
      【具體實(shí)施方式】
      [0018]本發(fā)明所述的調(diào)節(jié)和確定氧化層循環(huán)位置的方法,包括下述步驟:
      [0019]調(diào)節(jié)氣化劑蒸氣流量和蒸氣壓力,依據(jù)氣化效率,確定氧化層循環(huán)位置在爐篦以上100-450mm,氣化劑蒸氣含量適當(dāng),范圍是飽和溫度50_65°C對(duì)應(yīng)的氣化劑蒸氣含量,預(yù)熱后氣化劑溫度適當(dāng),氧化層循環(huán)的第三個(gè)環(huán)節(jié),預(yù)熱后氣化劑溫度范圍380-420°C,防止燒壞爐篦,減少結(jié)渣,氣化效率高;
      [0020]渣層溫度低,氧化層循環(huán)位置高,渣層溫度高,氧化層循環(huán)位置低,底部渣層溫度范圍350-450°C,維持穩(wěn)定,預(yù)熱后氣化劑溫度適當(dāng),氧化層循環(huán)的第三個(gè)環(huán)節(jié),預(yù)熱后氣化劑溫度范圍380-420°C,渣層溫度低,氧化層循環(huán)位置在爐篦以上100-450mm,渣層溫度高,氧化層循環(huán)位置在爐篦以上100-300mm,氣化效率高。
      [0021]維持確定的氧化層循環(huán)位置穩(wěn)定,氣化劑蒸氣含量適當(dāng)、穩(wěn)定,預(yù)熱后氣化劑溫度適當(dāng)、穩(wěn)定,氣化效率高、穩(wěn)定。
      [0022]減少或消除氧化層循環(huán)位置底線,高于溫度顯示的氧化層底線,減少二底線距離波動(dòng),氧化層循環(huán)位置底線重合于或低于溫度顯示的氧化層底線,減少二底線距離波動(dòng),預(yù)熱后氣化劑溫度適當(dāng)、穩(wěn)定,氣化效率高、穩(wěn)定,氧化層循環(huán)位置底線高于溫度顯示的氧化層底線,氣化效率低,不探火。
      [0023]渣層溫度穩(wěn)定,底部渣層溫度降低10°C,氧化層循環(huán)位置升高8-15_。
      [0024]渣層溫度穩(wěn)定,底部渣層溫度升高10°C,氧化層循環(huán)位置降低8_15mm。
      [0025]氣化劑中蒸氣含量高,升高蒸氣壓力,減少氣化劑中蒸氣流量,氣化劑中蒸氣含量適當(dāng),氧化層循環(huán)位置不變,氣化效率升高,確定氣化劑中蒸氣含量,提高氣化效率,氣化劑中蒸氣含量最佳,氣化效率最佳。
      [0026]氣化劑中蒸氣含量低,降低蒸氣壓力,增加氣化劑中蒸氣流量,氣化劑中蒸氣含量適當(dāng),氧化層循環(huán)位置不變,氣化效率升高,確定氣化劑中蒸氣含量,減少結(jié)渣,提高氣化效率,氣化劑中蒸氣含量最佳,氣化效率最佳。
      [0027]調(diào)節(jié)氣化劑蒸氣流量和蒸氣壓力,氧化層循環(huán)位置升高或降低至適當(dāng)位置,氣化劑中蒸氣含量適當(dāng)且不變,指飽和溫度不變,氣化效率升高,確定氧化層循環(huán)位置,確定預(yù)熱后氣化劑溫度,提高氣化效率,預(yù)熱后氣化劑溫度最佳,氣化效率最佳。
      [0028]氧化層循環(huán)的第三個(gè)環(huán)節(jié),氧化層開始上升5min后探火,增加一次氧化層小幅度上下移動(dòng),提高氣化效率;開汽封,爐內(nèi)煤氣壓力增量相等,溫度顯示的氧化層循環(huán)位置上部消失相等高度,當(dāng) 做氧化層循環(huán)位置,氧化層循環(huán)長度有可比性。
      [0029]開汽封,減少外排蒸汽流量,蒸氣壓力不變或減少;關(guān)汽封,增加外排蒸汽流量,蒸氣壓力不變或增加,氧化層溫度波動(dòng)少,氣化效率穩(wěn)定。
      【權(quán)利要求】
      1.調(diào)節(jié)和確定氧化層循環(huán)位置的方法,其特征在于,包括: 調(diào)節(jié)氣化劑蒸氣流量和蒸氣壓力,依據(jù)氣化效率,確定氧化層循環(huán)位置在爐篦以上100-450mm ; 渣層溫度低,氧化層循環(huán)位置高,渣層溫度高,氧化層循環(huán)位置低; 維持確定的氧化層循環(huán)位置穩(wěn)定。
      2.如權(quán)利要求1所述的調(diào)節(jié)和確定氧化層循環(huán)位置的方法,其特征在于:減少或消除氧化層循環(huán)位置底線,高于溫度顯示的氧化層底線,減少二底線距離波動(dòng)。
      3.如權(quán)利要求1所述的調(diào)節(jié)和確定氧化層循環(huán)位置的方法,其特征在于:改變氧化層循環(huán)位置,5h后,氣化效率逐步穩(wěn)定顯示升或降。
      4.如權(quán)利要求1所述的調(diào)節(jié)和確定氧化層循環(huán)位置的方法,其特征在于:渣層溫度穩(wěn)定,底部渣層溫度降低10°C,氧化層循環(huán)位置升高8-15mm。
      5.如權(quán)利要求1所述的調(diào)節(jié)和確定氧化層循環(huán)位置的方法,其特征在于:渣層溫度穩(wěn)定,底部渣層溫度升高10°c,氧化層循環(huán)位置降低8-15mm。
      6.如權(quán)利要求1所述的調(diào)節(jié)和確定氧化層循環(huán)位置的方法,其特征在于:氣化劑中蒸氣含量高,升高蒸氣壓力,減少氣化劑中蒸氣流量,氣化劑中蒸氣含量適當(dāng),氧化層循環(huán)位置不變,氣化效率升高。
      7.如權(quán)利要求1所述的調(diào)節(jié)和確定氧化層循環(huán)位置的方法,其特征在于:氣化劑中蒸氣含量低,降低蒸氣壓力,增加氣化劑蒸氣流量,氣化劑中蒸氣含量適當(dāng),氧化層循環(huán)位置不變,氣化效率升高。
      8.如權(quán)利要求1、6、7所述的調(diào)節(jié)和確定氧化層循環(huán)位置的方法,其特征在于:調(diào)節(jié)氣化劑蒸氣流量和蒸氣壓力,氧化層循環(huán)位置升高或降低至適當(dāng)位置,氣化劑中蒸氣含量適當(dāng)且不變,氣化效率升高。
      9.如權(quán)利要求1所述的調(diào)節(jié)和確定氧化層循環(huán)位置的方法,其特征在于:氧化層循環(huán)的第三個(gè)環(huán)節(jié),氧化層開始上升5min后探火;開氣封,爐內(nèi)煤氣壓力增量相等。
      10.如權(quán)利要求1所述的調(diào)節(jié)和確定氧化層循環(huán)位置的方法,其特征在于:開汽封,減少外排蒸汽流量,蒸氣壓力不變或減少;關(guān)汽封,增加外排蒸汽流量,蒸氣壓力不變或增加。
      【文檔編號(hào)】C10J3/00GK103789041SQ201410084100
      【公開日】2014年5月14日 申請(qǐng)日期:2014年3月10日 優(yōu)先權(quán)日:2014年3月10日
      【發(fā)明者】王萬利 申請(qǐng)人:王萬利
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