專利名稱：光偏轉(zhuǎn)器、光偏轉(zhuǎn)器的制造方法及圖像顯示裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及使用了 MEMS (Micro Electro Mechanical System，微電子機(jī)械系統(tǒng)) 技術(shù)的光偏轉(zhuǎn)器、光偏轉(zhuǎn)器的制造方法及圖像顯示裝置。
背景技術(shù)：
在旨在應(yīng)用于例如使用激光進(jìn)行圖像繪制的顯示器、打印機(jī)等的光偏轉(zhuǎn)器 中，為了提高圖像的分辨率，要求光掃描進(jìn)一步高速化。但是，目前使用的多角鏡和電 流鏡(galvano mirror)性能的提高是有限度的，作為替換這些設(shè)備的光偏轉(zhuǎn)器，利用 MEMS(MicroElectro Mechanical System，微電子機(jī)械系統(tǒng))對(duì)硅基板進(jìn)行加工而制成的反 射鏡(mirror)設(shè)備備受期待。這樣的MEMS反射鏡由于可以通過(guò)高于多角鏡和電流鏡的諧 振頻率來(lái)驅(qū)動(dòng)，所以能夠形成更高分辨率的圖像。在MEMS反射鏡中，將激光照射到反射鏡部，以向?qū)ο笪镎丈浞瓷涔猓瑥亩M(jìn)行圖 像繪制。如果光在反射鏡部以外被反射，則形成迷光(stray light)，有可能對(duì)圖像造成影 響。因此，設(shè)法通過(guò)在反射鏡部以外的部分上設(shè)置防反射膜來(lái)盡可能地防止迷光。例如，在專利文獻(xiàn)1中公開(kāi)了如下的平面型傳動(dòng)裝置，其具有平板狀的可動(dòng)板、用 于可旋轉(zhuǎn)地軸支承該可動(dòng)板的一對(duì)扭桿以及形成在可動(dòng)板上的反射鏡部，并且在反射鏡 部以外的部分上形成了防反射膜。并且，在專利文獻(xiàn)2中記載了如下的內(nèi)容在光掃描器中，使多余的光所入射的張 力部和固定部反射光的反射能力低于反射面。在先技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1日本特開(kāi)2006-39156號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2日本特開(kāi)2005-107069號(hào)公報(bào)當(dāng)使用濺射法或電鍍法等一般的成膜方法形成防反射膜時(shí)，如果將可動(dòng)板或扭桿 的側(cè)面形成為大致垂直于上表面，則難以在側(cè)面形成均勻的防反射膜。但是，由于通過(guò)旋 轉(zhuǎn)可動(dòng)板還引起側(cè)面上的反射，所以優(yōu)選在側(cè)面也設(shè)置防反射膜。在專利文獻(xiàn)1中記載的 傳動(dòng)裝置中，由于可動(dòng)板的側(cè)面大致垂直于表面，所以難以在側(cè)面形成均勻的防反射膜。并 且，專利文獻(xiàn)2中記載的光掃描器優(yōu)選在張力部和固定部的側(cè)面也形成均勻的防反射膜。這樣，在專利文獻(xiàn)1記載的傳動(dòng)裝置中，由于防止可動(dòng)板和扭桿等的側(cè)面的光反 射的功能不充分，所以存在如下的問(wèn)題當(dāng)使可動(dòng)板旋轉(zhuǎn)時(shí)，光在可動(dòng)板和扭桿等的側(cè)面反 射，該反射后的光成為迷光，對(duì)圖像產(chǎn)生不良影響。同樣地，在專利文獻(xiàn)2記載的光掃描器中，由于防止張力部和固定部等的側(cè)面的 光反射的功能不充分，所以存在由于迷光而對(duì)圖像產(chǎn)生不良影響的問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容
鑒于上述問(wèn)題，本發(fā)明的目的之一在于提供一種能夠防止迷光產(chǎn)生的光偏轉(zhuǎn)器、光偏轉(zhuǎn)器的制造方法及圖像顯示裝置。本發(fā)明涉及的光偏轉(zhuǎn)器包括可動(dòng)板；彈性支承部，所述彈性支承部的一端與所 述可動(dòng)板連接，并且所述彈性支承部能夠使所述可動(dòng)板繞規(guī)定的軸旋轉(zhuǎn)地支承所述可動(dòng) 板；以及支承部件，與所述彈性支承部的另一端連接，所述彈性支承部具有上表面、下表面 以及側(cè)面，所述側(cè)面由位于所述上表面或所述下表面的外側(cè)的一個(gè)或多個(gè)斜面形成，在所 述彈性支承部的上表面及側(cè)面上設(shè)置有光吸收部。由此，由于即使使用濺射法等一般的成膜方法，也可以在彈性支承部的側(cè)面上成 膜均勻的光吸收部，所以可以防止在彈性支承部的側(cè)面上的反射。本發(fā)明涉及的光偏轉(zhuǎn)器包括可動(dòng)板；彈性支承部，所述彈性支承部的一端與所 述可動(dòng)板連接，并且所述彈性支承部能夠使所述可動(dòng)板繞規(guī)定的軸旋轉(zhuǎn)地支承所述可動(dòng) 板；以及支承部件，與所述彈性支承部的另一端連接，所述支承部件具有上表面、下表面以 及側(cè)面，所述側(cè)面由位于所述上表面或所述下表面的外側(cè)的一個(gè)或多個(gè)斜面形成，在所述 支承部件的上表面及側(cè)面上設(shè)置有光吸收部。由此，由于即使使用濺射法等一般的成膜方法，也可以在支承部件的側(cè)面上成膜 均勻的光吸收部，所以可以防止在支承部件的側(cè)面上的反射。并且，可動(dòng)板具有形成有反射部的上表面、下表面以及側(cè)面，可動(dòng)板的側(cè)面通過(guò)位 于可動(dòng)板的上表面或下表面的外側(cè)的一個(gè)或多個(gè)斜面形成，在可動(dòng)板的側(cè)面上也可以設(shè)置 有光吸收部。由此，由于即使使用濺射法等一般的成膜方法，也可以在可動(dòng)板的側(cè)面上成膜均 勻的光吸收部，所以可以防止在可動(dòng)板的側(cè)面上的反射。本發(fā)明涉及的光偏轉(zhuǎn)器的制造方法包括第一工序，形成以下部件可動(dòng)板，具有 上表面、下表面以及側(cè)面；彈性支承部，具有上表面、下表面以及側(cè)面，所述彈性支承部的一 端與所述可動(dòng)板連接，并且所述彈性支承部能夠使所述可動(dòng)板繞規(guī)定的軸旋轉(zhuǎn)地支承所述 可動(dòng)板；以及支承部件，與所述彈性支承部的另一端連接；第二工序，在所述彈性支承部的 上表面及側(cè)面上形成光吸收部；以及第三工序，在所述可動(dòng)板的上表面形成反射部，在所述 第一工序中，由位于所述彈性支承部的上表面或下表面的外側(cè)的一個(gè)或多個(gè)斜面形成所述 彈性支承部的側(cè)面。由此，由于即使使用濺射法等一般的成膜方法，也可以在彈性支承部的側(cè)面上成 膜均勻的光吸收部，所以可以防止在彈性支承部的側(cè)面上的反射。本發(fā)明涉及的光偏轉(zhuǎn)器的制造方法包括第一工序，形成以下部件可動(dòng)板，具有 上表面、下表面以及側(cè)面；彈性支承部，所述彈性支承部的一端與所述可動(dòng)板連接，并且所 述彈性支承部能夠使所述可動(dòng)板繞規(guī)定的軸旋轉(zhuǎn)地支承所述可動(dòng)板；以及支承部件，具有 上表面、下表面以及側(cè)面，并且與所述彈性支承部的另一端連接；第二工序，在所述支承部 件的上表面及側(cè)面上形成光吸收部；以及第三工序，在所述可動(dòng)板的上表面形成反射部，在 所述第一工序中，由位于所述支承部件的上表面或下表面的外側(cè)的一個(gè)或多個(gè)斜面形成 所述支承部件的側(cè)面。由此，由于即使使用濺射法等一般的成膜方法，也可以在支承部件的側(cè)面上成膜 均勻的光吸收部，所以可以防止在支承部件的側(cè)面上的反射。并且，在所述第一工序中，由位于所述可動(dòng)板的上表面或下表面的外側(cè)的一個(gè)或多個(gè)斜面形成所述可動(dòng)板的側(cè)面，在所述第二工序中，也可以在所述可動(dòng)板的側(cè)面上形成 光吸收部。由此，由于即使使用濺射法等一般的成膜方法，也可以在可動(dòng)板的側(cè)面上成膜均 勻的光吸收部，所以可以防止在可動(dòng)板的側(cè)面上的反射。此外，本發(fā)明涉及的光偏轉(zhuǎn)器包括可動(dòng)板，設(shè)置有具有光反射性的光反射部；支 承部；連接部，使所述可動(dòng)板能夠旋轉(zhuǎn)地連接到所述支承部，所述連接部具有傾斜面，當(dāng)在 與所述可動(dòng)板的旋轉(zhuǎn)中心軸垂直的剖面觀察時(shí)，所述連接部從所述可動(dòng)板的一個(gè)面?zhèn)认蛄?一面?zhèn)葘挾戎饾u增加，并且隨著其寬度的增加所述傾斜面相對(duì)于所述可動(dòng)板的板面的法線 方向傾斜，在所述連接部的傾斜面上設(shè)置有具有光吸收性的光吸收部。由此，即使使用濺射法、蒸鍍法等一般的成膜方法，也可以在連接部的傾斜面上成 膜均勻的光吸收部。因此，可以優(yōu)化形成在連接部的傾斜面上的光吸收部的防止光反射的 功能(吸收光的功能)。因此，當(dāng)旋轉(zhuǎn)可動(dòng)板時(shí)，即使光入射到該傾斜面，也可以防止迷光的 產(chǎn)生，并且例如在將光偏轉(zhuǎn)器用于圖像顯示裝置的情況下，可以防止由于迷光而導(dǎo)致畫(huà)質(zhì) 劣化。此外，本發(fā)明涉及的光偏轉(zhuǎn)器包括可動(dòng)板，設(shè)置有具有光反射性的光反射部；支 承部；連接部，使所述可動(dòng)板能夠旋轉(zhuǎn)地連接到所述支承部，所述支承部具有傾斜面，當(dāng)在 與所述可動(dòng)板的旋轉(zhuǎn)中心軸垂直的剖面觀察時(shí)，所述支承部從所述可動(dòng)板的一個(gè)面?zhèn)认蛄?一面?zhèn)葘挾戎饾u增加，并且隨著其寬度的增加所述傾斜面相對(duì)于所述可動(dòng)板的板面的法線 方向傾斜，在所述支承部的傾斜面上設(shè)置有具有光吸收性的光吸收部。由此，即使使用濺射法、蒸鍍法等一般的成膜方法，也可以在支承部的傾斜面上成 膜均勻的光吸收部。因此，可以優(yōu)化形成在支承部的傾斜面上的光吸收部的防止光反射的 功能(吸收光的功能)。因此，即使光入射到該傾斜面，也可以防止迷光的產(chǎn)生，并且例如在 將光偏轉(zhuǎn)器用于圖像顯示裝置的情況下，可以防止由于迷光而導(dǎo)致畫(huà)質(zhì)劣化。并且，在本發(fā)明涉及的光偏轉(zhuǎn)器中，所述可動(dòng)板優(yōu)選具有傾斜面，當(dāng)在以與所述可 動(dòng)板的旋轉(zhuǎn)中心軸垂直的剖面觀察時(shí)，所述可動(dòng)板從所述可動(dòng)板的一個(gè)面?zhèn)认蛄硪幻鎮(zhèn)葘?度逐漸增加，并且隨著其寬度的增加所述可動(dòng)板的所述傾斜面相對(duì)于所述可動(dòng)板的板面的 法線方向傾斜，在所述可動(dòng)板的傾斜面上優(yōu)選設(shè)置有具有光吸收性的光吸收部。由此，即使使用濺射法、蒸鍍法等一般的成膜方法，也可以在可動(dòng)板的傾斜面上成 膜均勻的光吸收部。因此，可以優(yōu)化形成在可動(dòng)板的傾斜面上的光吸收部的防止光反射的 功能(吸收光的功能)。因此，當(dāng)旋轉(zhuǎn)可動(dòng)板時(shí)，即使光入射到該傾斜面，也可以防止迷光的 產(chǎn)生，并且例如在將光偏轉(zhuǎn)器用于圖像顯示裝置的情況下，可以防止由于迷光而導(dǎo)致畫(huà)質(zhì) 劣化。此外，本發(fā)明涉及的光偏轉(zhuǎn)器的制造方法是上述光偏轉(zhuǎn)器的制造方法，包括第一 工序，通過(guò)對(duì)面方向(100)的硅基板進(jìn)行蝕刻來(lái)形成所述可動(dòng)板、所述支承部以及所述連 接部；第二工序，形成所述光吸收部；以及第三工序，形成所述光反射部。由此，即使使用濺射法、蒸鍍法等一般的成膜方法，也可以在傾斜面上成膜均勻的 光吸收部。因此，可以優(yōu)化形成在傾斜面上的光吸收部的防止光反射的功能(吸收光的功 能)。因此，在得到的光偏轉(zhuǎn)器中，當(dāng)旋轉(zhuǎn)可動(dòng)板時(shí)，即使光入射到該傾斜面，也可以防止迷 光的產(chǎn)生，并且例如在將光偏轉(zhuǎn)器用于圖像顯示裝置的情況下，可以防止由于迷光而導(dǎo)致畫(huà)質(zhì)劣化。本發(fā)明的圖像顯示裝置包括用于射出光的光射出部；以及本發(fā)明的光偏轉(zhuǎn)器， 通過(guò)用所述光偏轉(zhuǎn)器對(duì)從所述光射出部射出的光進(jìn)行掃描，從而顯示圖像。由此，可以防止由于迷光而導(dǎo)致畫(huà)質(zhì)劣化。


圖1是示出了實(shí)施方式一涉及的光偏轉(zhuǎn)器的概略結(jié)構(gòu)的俯視圖。圖2是圖1的A-A線的剖面圖。圖3是圖1的B-B線的剖面圖。圖4是示出了實(shí)施方式一涉及的光偏轉(zhuǎn)器的制造方法的工序剖面圖。圖5是示出了實(shí)施方式一涉及的光偏轉(zhuǎn)器的制造方法的工序剖面圖。圖6是示出了實(shí)施方式一涉及的光偏轉(zhuǎn)器的制造方法的工序剖面圖。圖7是示出了實(shí)施方式一涉及的光偏轉(zhuǎn)器的制造方法的工序剖面圖。圖8是示出了實(shí)施方式一涉及的光偏轉(zhuǎn)器的制造方法的工序剖面圖。圖9是示出了實(shí)施方式一涉及的光偏轉(zhuǎn)器的制造方法的工序剖面圖。圖10是示出了實(shí)施方式一涉及的光偏轉(zhuǎn)器的制造方法的工序剖面圖。圖11是示出了實(shí)施方式一涉及的光偏轉(zhuǎn)器的制造方法的工序剖面圖。圖12是示出了實(shí)施方式一涉及的光偏轉(zhuǎn)器的制造方法的工序剖面圖。圖13是示出了實(shí)施方式一涉及的光偏轉(zhuǎn)器的制造方法的工序剖面圖。圖14是示出了實(shí)施方式一涉及的光偏轉(zhuǎn)器的制造方法的工序剖面圖。圖15是示出了實(shí)施方式一涉及的光偏轉(zhuǎn)器的制造方法的工序剖面圖。圖16是示出了實(shí)施方式一涉及的光偏轉(zhuǎn)器的制造方法的工序剖面圖。圖17是示出了實(shí)施方式一涉及的光偏轉(zhuǎn)器的制造方法的工序剖面圖。圖18是示出了實(shí)施方式一涉及的光偏轉(zhuǎn)器的制造方法的工序剖面圖。圖19是示出了實(shí)施方式一涉及的光偏轉(zhuǎn)器的制造方法的工序剖面圖。圖20是示出了實(shí)施方式一涉及的光偏轉(zhuǎn)器的制造方法的工序剖面圖。圖21A是示出了實(shí)施方式一涉及的光偏轉(zhuǎn)器的制造方法的工序剖面圖。圖21B是示出了實(shí)施方式一涉及的光偏轉(zhuǎn)器的制造方法的工序剖面圖。圖22是示出了實(shí)施方式一涉及的可動(dòng)板的形狀的其他例子的剖面圖。圖23是示出了實(shí)施方式二涉及的光偏轉(zhuǎn)器的概略結(jié)構(gòu)的俯視圖。圖24是圖23的A-A線的剖面圖。圖25是圖23的B-B線的剖面圖。圖26A是示出了實(shí)施方式二涉及的光偏轉(zhuǎn)器的制造方法的工序剖面圖。圖26B是示出了實(shí)施方式二涉及的光偏轉(zhuǎn)器的制造方法的工序剖面圖。圖27是示出了實(shí)施方式二涉及的光偏轉(zhuǎn)器的制造方法的工序剖面圖。圖28是示出了實(shí)施方式三涉及的光偏轉(zhuǎn)器的制造方法的工序剖面圖。圖29是使用了本發(fā)明涉及的光偏轉(zhuǎn)器的顯示裝置的概略結(jié)構(gòu)圖。
具體實(shí)施例方式實(shí)施方式一下面，參照附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。圖1是示出了本發(fā)明的實(shí)施方式涉及的光偏轉(zhuǎn)器1的概略結(jié)構(gòu)的俯視圖。圖2是 圖1的A-A線的剖面圖，圖3是圖1的B-B線的剖面圖。但是，圖3僅示出了光偏轉(zhuǎn)器1的 彈性支承部12及支承部件13。光偏轉(zhuǎn)器1具有可動(dòng)板11 ；一對(duì)彈性支承部(連接部)12，其一端與可動(dòng)板11連 接，并且其可繞旋轉(zhuǎn)軸X(旋轉(zhuǎn)中心軸)旋轉(zhuǎn)地支承可動(dòng)板11 ；以及支承部件(支承部)13， 與彈性支承部12的另一端連接。例如通過(guò)對(duì)硅基板進(jìn)行蝕刻加工，從而一體地形成可動(dòng)板 11、彈性支承部12以及支承部件13。在可動(dòng)板11的表面形成有反射膜(反射部)21。一對(duì)彈性支承部12以使可動(dòng)板11相對(duì)于支承部件13可旋轉(zhuǎn)的方式連接可動(dòng)板11。用兩根棒12a形成各個(gè)彈性支承部12。棒12a被配置為其剖面(垂直于旋轉(zhuǎn)中心 軸的剖面)是平行四邊形，越朝向上表面?zhèn)?圖3的上側(cè))兩根棒12a的間隔越寬。并且， 該兩根棒12a的間隔擴(kuò)大而成的角度0 = 54.73°。在可動(dòng)板11的背面(圖2的下側(cè)的面)通過(guò)未圖示的粘結(jié)劑粘合有磁鐵22。當(dāng) 俯視可動(dòng)板11時(shí)，磁鐵22沿與旋轉(zhuǎn)軸X正交的方向被磁化。也就是說(shuō)，磁鐵22具有隔著 旋轉(zhuǎn)軸X對(duì)置的極性彼此相反的一對(duì)磁極。支承部件13與支架50接合，在支架50上配置 有用于驅(qū)動(dòng)可動(dòng)板11的線圈51。在光偏轉(zhuǎn)器1中，向線圈51供給周期變化的電流(交流)。據(jù)此，線圈51交替產(chǎn) 生朝向上方(可動(dòng)板11側(cè))的磁場(chǎng)和朝向下方的磁場(chǎng)。由此，磁鐵22的一對(duì)磁極中的一 個(gè)磁極接近線圈51，另一個(gè)磁極遠(yuǎn)離線圈51，使彈性支承部12扭轉(zhuǎn)變形，同時(shí)使可動(dòng)板11 繞旋轉(zhuǎn)軸X旋轉(zhuǎn)。在圖2中，示出了利用了磁鐵22和線圈51之間的電磁力的驅(qū)動(dòng)方式的振動(dòng)反射 鏡。但是，本發(fā)明也可以采用利用了靜電引力的方式、或利用了壓電元件的方式。例如，在 使用了靜電引力的方式的情況下，不需要磁鐵22，并設(shè)置與可動(dòng)板11相對(duì)的一個(gè)或多個(gè)電 極來(lái)代替線圈51。并且，通過(guò)在可動(dòng)板11和電極之間施加周期變化的交流電壓，從而使靜 電引力在可動(dòng)板11和電極之間作用，使彈性支承部12扭轉(zhuǎn)變形，同時(shí)使可動(dòng)板11繞旋轉(zhuǎn) 軸X旋轉(zhuǎn)。在可動(dòng)板11的下表面及側(cè)面、彈性支承部12的上表面、下表面以及側(cè)面、支承部 件13的上表面、下表面以及側(cè)面，形成有光吸收膜(光吸收部)30。光吸收膜30例如是Cr、 Ni或抗蝕劑(resist)等的膜，其具有吸收光但不反射光的性質(zhì)。此外，光吸收膜30也可以 由公知的防反射膜(即、不同折射率的多個(gè)電介質(zhì)層層壓形成的電介質(zhì)多層膜)構(gòu)成。如圖2、圖3所示，可動(dòng)板11、彈性支承部12以及支承部件13的側(cè)面由位于各自的 上表面或下表面的外側(cè)的斜面形成?？蓜?dòng)板11及支撐部件13由于呈從下表面向上表面變 寬的梯形形狀，所以形成側(cè)面的傾斜面形成在下表面的外側(cè)。彈性支承部12由剖面為平行 四邊形的兩根棒12a形成，并且被配置為越朝向上表面?zhèn)?，兩根?2a的間隔越寬。因此， 形成內(nèi)側(cè)側(cè)面14a的斜面形成在上表面的外側(cè)，形成外側(cè)側(cè)面14b的斜面形成在下表面的 外側(cè)。這樣，彈性支承部(連接部)12具有傾斜面(側(cè)面)，當(dāng)在與可動(dòng)板11的旋轉(zhuǎn)中心軸(旋轉(zhuǎn)軸X)垂直的剖面觀察時(shí)，該彈性支承部(連接部)從可動(dòng)板11的下表面?zhèn)认蛏?表面?zhèn)葘挾戎饾u增加，并且隨著其寬度的增加，傾斜面相對(duì)于反射膜21的表面的法線(可 動(dòng)板11的板面的法線)傾斜。并且，支承部件(支承部)13具有傾斜面(側(cè)面)，當(dāng)在與可 動(dòng)板11的旋轉(zhuǎn)中心軸(旋轉(zhuǎn)軸X)垂直的剖面觀察時(shí)，該支承部件(支承部)13從可動(dòng)板 11的下表面?zhèn)认蛏媳砻鎮(zhèn)葘挾戎饾u增加，并且隨著其寬度的增加，傾斜面相對(duì)于反射膜21 的表面的法線傾斜。此外，可動(dòng)板11具有傾斜面(側(cè)面)，當(dāng)在以垂直于其旋轉(zhuǎn)中心軸(旋 轉(zhuǎn)軸X)的剖面觀察時(shí)，該可動(dòng)板11從可動(dòng)板11的下表面?zhèn)认蛏媳砻鎮(zhèn)葘挾戎饾u增加，并 且隨著其寬度的增加，傾斜面相對(duì)于反射膜21的表面的法線傾斜。并且，在如上所述的連接部12的傾斜面、支承部件13的傾斜面以及可動(dòng)板11的 傾斜面上分別設(shè)置有具有光吸收性的光吸收膜30。下面，對(duì)光偏轉(zhuǎn)器1的制造方法進(jìn)行說(shuō)明。此外，圖14至圖19示出了與圖2相同 的剖面。(第一工序)如圖4所示，例如準(zhǔn)備由硅制成的基板10。然后，如圖5所示，通過(guò)熱氧化，在基板 10的兩個(gè)面上形成由氧化硅構(gòu)成的掩膜31、32。掩膜31、32可以使用Si02掩膜、SiN掩膜等。在此，作為基板10，雖然沒(méi)有特別的限定，但優(yōu)選使用板面上的面方向(plane direction)為(100)的硅基板(硅單晶板)。通過(guò)對(duì)面方向(100)的硅基板進(jìn)行蝕刻，可 以簡(jiǎn)單地形成具有如上所述的傾斜面的可動(dòng)板11、支承部件13及彈性支承部12。然后，如圖6所示，在基板10的上表面?zhèn)鹊难谀?1上形成抗蝕層41?？刮g層可以 是正型的也可以是負(fù)型的。然后，如圖7所示，在基板10的下表面?zhèn)鹊难谀?2上形成抗蝕 層42。然后，如圖8所示，對(duì)基板10的下表面?zhèn)鹊目刮g層42進(jìn)行曝光及顯影，從而在抗 蝕層42上形成規(guī)定的開(kāi)口圖案P2。開(kāi)口圖案P2例如是在可動(dòng)板11、彈性支承部12、支承 部件13以外的區(qū)域開(kāi)口的圖案。然后，如圖9所示，將抗蝕層42作為掩膜對(duì)下表面?zhèn)鹊难谀?2進(jìn)行蝕刻。由此， 抗蝕層42的開(kāi)口圖案P2被轉(zhuǎn)印在掩膜32上。例如可以將緩沖氫氟酸溶液(BHF)用于掩 膜32的蝕刻。然后，如圖10所示，去除基板兩面的抗蝕層41、42。使用硫酸清洗或灰化來(lái)去除抗 蝕層41、42。然后，如圖11所示，在基板10的下表面?zhèn)仍俅涡纬煽刮g層43。此外，如圖12所 示，在基板10的上表面?zhèn)仍俅涡纬煽刮g層44。然后，如圖13所示，對(duì)基板10的表面?zhèn)鹊目刮g層44進(jìn)行曝光及顯影，從而在抗蝕 層44上形成規(guī)定的開(kāi)口圖案P1。此外，在本實(shí)施方式中，雖然在圖13所示的剖面上未形成 有開(kāi)口圖案P1，但在與圖3相同的剖面上形成如圖20所示的開(kāi)口圖案P1。圖20示出了與圖3相同的剖面上的開(kāi)口圖案P1和開(kāi)口圖案P2。通過(guò)形成如 圖20所示的開(kāi)口圖案，從而形成如圖3所示的、側(cè)面為由斜面形成的倒八字型的彈性 支承部12。此外，在K0H等的濕蝕刻中，由于Si的晶面方向(111)面用作蝕刻阻擋件 (EtchingStopper)，所以可以自動(dòng)形成由與表面所成角度0 = 54.73°的面構(gòu)成的側(cè)面形狀。此外，圖21A中示出了基板10的上表面?zhèn)妊谀?1的圖案的俯視圖，圖21B中示出了基 板10的下表面?zhèn)妊谀?2的圖案的俯視圖。圖13所示的剖面是圖21A、B中的A-A線的剖 面，圖20所示的剖面是圖21A、B的B-B線的剖面。下面，如圖14所示，將抗蝕層44作為掩膜對(duì)上表面?zhèn)鹊难谀?1進(jìn)行蝕刻。由此， 抗蝕層44的開(kāi)口圖案P1被轉(zhuǎn)印到掩膜31上。例如可以將緩沖氫氟酸溶液(BHF)用于掩 膜31的蝕刻。然后，如圖15所示，去除基板兩面的抗蝕層43、44。使用硫酸清洗或灰化來(lái)去除抗 蝕層43、44。然后，如圖16所示，使用掩膜31、32對(duì)基板10進(jìn)行蝕刻。由此，在基板10上形成 貫通孔，從而形成可動(dòng)板11、彈性支承部12、支承部件13的圖案。例如，使用采用了 K0H的 濕蝕刻來(lái)進(jìn)行基板10的蝕刻。接著，如圖17所示，去除掩膜31、32。在Si02掩膜的情況下，可以通過(guò)基于稀氟酸 或緩沖氫氟酸等的濕蝕刻、或使用CF4氣體的干蝕刻來(lái)去除掩膜。在SiN掩膜的情況下，可 以通過(guò)使用CF4氣體的干蝕刻來(lái)去除掩膜。(第二工序)接著，如圖18所示，在基板10的表面上形成光吸收膜30。例如通過(guò)濺射法或電鍍 法等方法形成鉻膜，從而形成光吸收膜30。在成膜時(shí)，首先，從基板10的上表面(或下表 面)側(cè)鋪設(shè)鉻，使其附著在基板10上。然后，從相對(duì)側(cè)的面鋪設(shè)鉻，使其附著在基板10上。 在從基板10的上表面?zhèn)蠕佋O(shè)鉻的情況下，由于可動(dòng)板11及支承部件13的側(cè)面位于各自的 上表面的內(nèi)側(cè)，所以無(wú)法使鉻附著在側(cè)面上。相反，在從基板10的下表面?zhèn)蠕佋O(shè)鉻的情況 下，由于可動(dòng)板11及支承部件13的側(cè)面位于下表面的外側(cè)，可以觀察到整個(gè)側(cè)面，所以可 以使鉻也均勻地附著在側(cè)面上。并且，如圖3及圖20所示，對(duì)于彈性支承部12，構(gòu)成彈性支承部12的兩根棒12a 的側(cè)面中的內(nèi)側(cè)側(cè)面14a位于上表面的外側(cè)，外側(cè)側(cè)面14b位于下表面的外側(cè)。因此，當(dāng)從 基板10的上表面?zhèn)蠕佋O(shè)鉻時(shí)，鉻附著在內(nèi)側(cè)側(cè)面14a上，當(dāng)從基板10的下表面?zhèn)蠕佋O(shè)鉻 時(shí)，可以使鉻附著在外側(cè)側(cè)面14b上。此外，優(yōu)選光吸收膜30的膜厚是1500 A左右。通過(guò)形成鉻膜，可以將可見(jiàn)光的 反射率抑制到小于等于10%。(第三工序)接著，如圖19所示，通過(guò)在可動(dòng)板11的表面將金屬膜成膜并形成圖案，從而在可 動(dòng)板11上形成反射膜21。作為金屬膜的成膜方法，可以列舉真空蒸鍍、濺射法、電鍍法、無(wú) 電鍍法、金屬箔的接合等。此外，在可動(dòng)板11的背面，通過(guò)粘結(jié)劑固定有磁鐵22。這樣，通過(guò)將包括使用一張基板10而形成的可動(dòng)板11、彈性支承部12及支承部件 13的結(jié)構(gòu)體安裝在支架50上，從而制成光偏轉(zhuǎn)器1。如上所述，根據(jù)本實(shí)施方式，可動(dòng)板11、彈性支承部12、支承部件13的側(cè)面是由位 于各自的上表面或下表面的外側(cè)的斜面形成的。也就是說(shuō)，可動(dòng)板11及支承部件13由于 呈從下表面向上表面擴(kuò)展的梯形形狀，所以形成側(cè)面的斜面形成在下表面的外側(cè)。彈性支 承部12由剖面是平行四邊形的兩根棒12a形成，并被配置為越朝向上表面?zhèn)葍筛?2a的 間隔越寬。因此，形成內(nèi)側(cè)側(cè)面14a的斜面形成在上表面的外側(cè)，形成外側(cè)側(cè)面14b的斜面形成在下表面的外側(cè)。由此，從基板10的上表面及下表面的兩側(cè)通過(guò)濺射等進(jìn)行成膜，從 而在可動(dòng)板11、彈性支承部12以及支承部件13的側(cè)面上也能夠形成均勻的光吸收膜30。此外，在本實(shí)施方式中，通過(guò)位于可動(dòng)板11的下表面的外側(cè)的斜面來(lái)形成可動(dòng)板 11的側(cè)面，但如圖22所示，對(duì)于可動(dòng)板11，其側(cè)面也可以通過(guò)位于可動(dòng)板11的上表面及下 表面中的任一個(gè)的內(nèi)側(cè)的面來(lái)形成。如圖22所示，可動(dòng)板11的側(cè)面15向旋轉(zhuǎn)軸X側(cè)凹陷。具體地，在使用主面為 (100)面的Si晶片的基板10形成了可動(dòng)板11時(shí)，可動(dòng)板11的側(cè)面15由Si的(111)面構(gòu) 成。Si的(111)面與主面所成的角度e是54. 73°。這樣，通過(guò)使可動(dòng)板11的側(cè)面15向軸凹陷，降低了慣性力矩。也就是說(shuō)，由于側(cè) 面15到旋轉(zhuǎn)軸X的距離較遠(yuǎn)，所以通過(guò)在可動(dòng)板11的側(cè)面15上設(shè)置凹陷，從而由物體的微 小部分的質(zhì)量與該部分到軸的距離的平方的積的總和表示的慣性力矩顯著地減小。因此， 對(duì)于可動(dòng)板11，也可以形成為其側(cè)面位于上表面及下表面中的任一個(gè)的內(nèi)側(cè)的形狀。根據(jù)如上所述的實(shí)施方式一，可以優(yōu)化形成在彈性支承部12的傾斜面、支承部件 13的傾斜面以及可動(dòng)板11的傾斜面上的光吸收膜30的防止光反射功能。因此，當(dāng)使可動(dòng) 板11旋轉(zhuǎn)時(shí)，即使光入射到這些傾斜面，也可以防止迷光的產(chǎn)生，并且，例如如下所述地在 圖像顯示裝置中使用光偏轉(zhuǎn)器1的情況下，可以防止由于迷光而導(dǎo)致的畫(huà)質(zhì)降低。實(shí)施方式二圖23是表示實(shí)施方式二的光偏轉(zhuǎn)器1的概略結(jié)構(gòu)的俯視圖。圖24是圖23的A_A 線的剖面圖，圖25是圖23的B-B線的剖面圖。其中，圖24、圖25僅示出了光偏轉(zhuǎn)器1的可 動(dòng)板11、彈性支承部16以及支承部件13。與圖1至圖3相同的標(biāo)記表示相同或相應(yīng)的構(gòu) 成要素。在實(shí)施方式二中，彈性支承部16的形狀與實(shí)施方式一不同，如圖所示，彈性支承 部16呈從下表面向上表面擴(kuò)展的梯形形狀。因此，形成側(cè)面17的斜面形成在下表面的外 側(cè)。圖26A是表示使用基板10通過(guò)蝕刻形成可動(dòng)板11、彈性支承部16以及支承部件 13時(shí)的、基板10的上表面?zhèn)妊谀?1的圖案的俯視圖，圖26B是表示基板10的下表面?zhèn)?掩膜32的圖案的俯視圖。并且，圖27是圖26A、B的B-B線的剖面圖。在K0H等的濕蝕刻 中，由于Si的晶面方向(111)面用作蝕刻阻擋件，所以可以自動(dòng)形成由與表面成角度e = 54. 73°的面構(gòu)成的側(cè)面形狀。此外，圖26A、B的A_A線的剖面與實(shí)施方式一的圖16相同。在實(shí)施方式二中，基板10的上表面?zhèn)炔恍纬砷_(kāi)口圖案P1。也就是說(shuō)，在實(shí)施方式 二中，由于僅從基板10的下表面?zhèn)冗M(jìn)行蝕刻即可，所以可以省略相當(dāng)于實(shí)施方式一的圖11 至圖15的工序。在實(shí)施方式二中，可動(dòng)板11、彈性支承部16、支承部件13的側(cè)面由位于各自的上 表面或下表面的外側(cè)的斜面形成。也就是說(shuō)，可動(dòng)板11、彈性支承部16以及支承部件13呈 從下表面向上表面擴(kuò)展的梯形形狀。由此，通過(guò)從基板10的上表面及下表面的兩側(cè)通過(guò)濺 射法進(jìn)行成膜，從而在可動(dòng)板11、彈性支承部16以及支承部件13的側(cè)面上也可以形成均勻 的光吸收膜30。實(shí)施方式三圖28是示出通過(guò)對(duì)基板10進(jìn)行蝕刻以形成實(shí)施方式三的光偏轉(zhuǎn)器1時(shí)的掩膜31、32的圖案的剖面圖。圖26示出了圖1的A-A線的剖面。通過(guò)形成如圖26所示的掩膜 31、32，可以形成剖面為六角形的可動(dòng)板18、支承部件19。通過(guò)從上表面對(duì)基板10進(jìn)行蝕 刻而形成的孔和通過(guò)從下表面對(duì)基板10進(jìn)行蝕刻而形成的孔的底彼此相接觸，從而形成 貫通基板10的一個(gè)孔。此時(shí)，在K0H等的濕蝕刻中，由于Si的晶面方向(111)面用作蝕刻 阻擋件，所以可以自動(dòng)形成由與表面成角度e = 54.73°的面構(gòu)成的側(cè)面形狀。因此，通 常，在通過(guò)濕式蝕刻對(duì)基板10進(jìn)行加工時(shí)，如圖28所示，可動(dòng)板18、支承部件19的側(cè)面朝 向旋轉(zhuǎn)軸X的相反方向形成為凸?fàn)?。此外，通過(guò)對(duì)彈性支承部也同樣地形成掩膜圖案，從而 可以將彈性支承部的剖面形成為六角形。當(dāng)將剖面形成為六角形時(shí)，側(cè)面由兩個(gè)斜面形成，上表面?zhèn)鹊男泵嫖挥谏媳砻娴?外側(cè)，下表面?zhèn)鹊男泵嫖挥谙卤砻娴耐鈧?cè)，所以通過(guò)從基板10的上表面及下表面的兩側(cè)利 用濺射法等進(jìn)行成膜，可以在可動(dòng)板18及支承部件19的側(cè)面上也形成均勻的光吸收膜30。(顯示裝置)將投射型顯示裝置(投影儀)作為本發(fā)明涉及的光偏轉(zhuǎn)器1的應(yīng)用例(圖像顯示 裝置的一例)進(jìn)行說(shuō)明。圖29是投射型顯示裝置的概略結(jié)構(gòu)圖。圖29所示的光掃描裝置 使用本發(fā)明涉及的光偏轉(zhuǎn)器1作為水平掃描反射鏡。圖29所示的光掃描裝置除光偏轉(zhuǎn)器1以外還包括激光光源101、分色鏡102、光電 二極管 103、垂直反射鏡(vertical mirror) 104。激光光源101具有用于射出紅色激光的紅色激光光源101R、用于射出藍(lán)色激光的 藍(lán)色激光光源101B以及用于射出綠色激光的綠色激光光源101G。但是，也可以使用兩色以 下或四色以上的激光光源。分色鏡102具有用于反射來(lái)自紅色激光光源101R的紅色激光的分色鏡102R、用于 反射藍(lán)色激光并使紅色激光透過(guò)的分色鏡102B、用于反射綠色激光并使藍(lán)色激光及紅色激 光透過(guò)的分色鏡102G。通過(guò)這三種分色鏡102，紅色激光、藍(lán)色激光和綠色激光的合成光射 入振動(dòng)反射鏡1。光電二極管103(103R、103G、103B)用于檢測(cè)未被各分光鏡102R、102G、102B反射
而透過(guò)的紅色激光、綠色激光、藍(lán)色激光的光量。光偏轉(zhuǎn)器1沿水平方向(軸線X的垂直方向)掃描從分光鏡102發(fā)送的激光。如 上所述，光偏轉(zhuǎn)器1是通過(guò)MEMS形成的諧振型反射鏡。垂直反射鏡104沿垂直方向掃描被光偏轉(zhuǎn)器1反射的激光。垂直反射鏡104由例 如電流鏡構(gòu)成。所謂電流鏡是指給反射鏡安上軸、并且可以根據(jù)電振動(dòng)來(lái)改變反射鏡的旋 轉(zhuǎn)角的偏轉(zhuǎn)器。通過(guò)基于光偏轉(zhuǎn)器1的激光的水平掃描以及基于垂直反射鏡104的激光的 垂直掃描來(lái)顯示圖像。本實(shí)施方式涉及的光掃描裝置還具有用于驅(qū)動(dòng)激光光源101的激光驅(qū)動(dòng)單元 110、驅(qū)動(dòng)光偏轉(zhuǎn)器1的水平反射鏡驅(qū)動(dòng)單元111、驅(qū)動(dòng)垂直反射鏡104的垂直反射鏡驅(qū)動(dòng)單 元112、擔(dān)任整體動(dòng)作的控制的控制單元113以及存儲(chǔ)單元114作為上述激光光源101、光 偏轉(zhuǎn)器1、垂直反射鏡104的驅(qū)動(dòng)控制系統(tǒng)?？刂茊卧?13根據(jù)個(gè)人計(jì)算機(jī)或便攜式電話等各種圖像源115發(fā)送來(lái)的圖像信息 控制激光驅(qū)動(dòng)單元110、水平反射鏡驅(qū)動(dòng)單元111以及垂直反射鏡驅(qū)動(dòng)單元112的動(dòng)作，以 顯示這些圖像。
存儲(chǔ)單元114例如由存儲(chǔ)各種程序的ROM、存儲(chǔ)變量等的RAM以及非易失性存儲(chǔ)器 構(gòu)成。通過(guò)將本實(shí)施方式涉及的光偏轉(zhuǎn)器1應(yīng)用于顯示裝置，可以實(shí)現(xiàn)顯示性能良好的 顯示裝置。本發(fā)明并不限于上述實(shí)施方式的說(shuō)明。例如，可動(dòng)板也可以是圓形以外的多角形。并且，在實(shí)施方式一、二中，例示出了 1 維1自由度驅(qū)動(dòng)類型的可動(dòng)板，但是也可以是2維驅(qū)動(dòng)類型的可動(dòng)板，而且還可以是1維2 自由度驅(qū)動(dòng)類型的可動(dòng)板。在使用2維驅(qū)動(dòng)類型的振動(dòng)反射鏡的情況下，不需要垂直反射
鏡 104。
并且，光偏轉(zhuǎn)器1除顯示裝置以外還可以適用于激光打印機(jī)等。
此外，在不脫離本發(fā)明主旨的范圍內(nèi)可以實(shí)施各種變形。
附圖標(biāo)記
1光偏轉(zhuǎn)器10基板
11可動(dòng)板12彈性支承部
12a棒13支承部件
14a側(cè)面14b側(cè)面
15側(cè)面16彈性支承部
17側(cè)面18可動(dòng)板
19支承部件21反射膜
22磁鐵30光吸收膜
31掩膜32掩膜
41抗蝕層42抗蝕層
43抗蝕層44抗蝕層
50支架51線圈
101激光光源101R紅色激光光源
101B藍(lán)色激光光源101G綠色激光光源
102分光鏡102R分光鏡
102B分光鏡102G分光鏡
103光電二極管103R光電二極管
103B光電二極管103G光電二極管
104垂直反射鏡110激光驅(qū)動(dòng)單元
111水平反射鏡驅(qū)動(dòng)單元 112垂直反射鏡驅(qū)動(dòng)單元
113控制單元114存儲(chǔ)單元
115圖像源P1開(kāi)口圖案
P2開(kāi)口圖案X旋轉(zhuǎn)軸。
權(quán)利要求
一種光偏轉(zhuǎn)器，其特征在于，包括可動(dòng)板；彈性支承部，所述彈性支承部的一端與所述可動(dòng)板連接，并且所述彈性支承部能夠使所述可動(dòng)板繞規(guī)定的軸旋轉(zhuǎn)地支承所述可動(dòng)板；以及支承部件，與所述彈性支承部的另一端連接，所述彈性支承部具有上表面、下表面以及側(cè)面，所述側(cè)面由位于所述上表面或所述下表面的外側(cè)的一個(gè)或多個(gè)斜面形成，在所述彈性支承部的上表面及側(cè)面上設(shè)置有光吸收部。
2.一種光偏轉(zhuǎn)器，其特征在于，包括 可動(dòng)板；彈性支承部，所述彈性支承部的一端與所述可動(dòng)板連接，并且所述彈性支承部能夠使 所述可動(dòng)板繞規(guī)定的軸旋轉(zhuǎn)地支承所述可動(dòng)板；以及 支承部件，與所述彈性支承部的另一端連接，所述支承部件具有上表面、下表面以及側(cè)面，所述側(cè)面由位于所述上表面或所述下表 面的外側(cè)的一個(gè)或多個(gè)斜面形成，在所述支承部件的上表面及側(cè)面上設(shè)置有光吸收部。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光偏轉(zhuǎn)器，其特征在于，所述可動(dòng)板具有形成有反射部的上表面、下表面以及側(cè)面，所述可動(dòng)板的側(cè)面由位于 所述可動(dòng)板的上表面或下表面的外側(cè)的一個(gè)或多個(gè)斜面形成， 在所述可動(dòng)板的側(cè)面上設(shè)置有光吸收部。
4.一種光偏轉(zhuǎn)器的制造方法，其特征在于，包括第一工序，形成以下部件可動(dòng)板，具有上表面、下表面以及側(cè)面；彈性支承部，具有上 表面、下表面以及側(cè)面，所述彈性支承部的一端與所述可動(dòng)板連接，并且所述彈性支承部能 夠使所述可動(dòng)板繞規(guī)定的軸旋轉(zhuǎn)地支承所述可動(dòng)板；以及支承部件，與所述彈性支承部的另一端連接；第二工序，在所述彈性支承部的上表面及側(cè)面上形成光吸收部；以及 第三工序，在所述可動(dòng)板的上表面形成反射部， 在所述第一工序中，由位于所述彈性支承部的上表面或下表面的外側(cè)的一個(gè)或多個(gè)斜面形成所述彈性支 承部的側(cè)面。
5.一種光偏轉(zhuǎn)器的制造方法，其特征在于，包括第一工序，形成以下部件可動(dòng)板，具有上表面、下表面以及側(cè)面；彈性支承部，所述彈 性支承部的一端與所述可動(dòng)板連接，并且所述彈性支承部能夠使所述可動(dòng)板繞規(guī)定的軸旋 轉(zhuǎn)地支承所述可動(dòng)板；以及支承部件，具有上表面、下表面以及側(cè)面，并且與所述彈性支承 部的另一端連接；第二工序，在所述支承部件的上表面及側(cè)面上形成光吸收部；以及 第三工序，在所述可動(dòng)板的上表面形成反射部， 在所述第一工序中，由位于所述支承部件的上表面或下表面的外側(cè)的一個(gè)或多個(gè)斜面形成所述支承部件的側(cè)面。
6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的光偏轉(zhuǎn)器的制造方法，其特征在于， 在所述第一工序中，由位于所述可動(dòng)板的上表面或下表面的外側(cè)的一個(gè)或多個(gè)斜面形成所述可動(dòng)板的側(cè)在所述第二工序中，在所述可動(dòng)板的側(cè)面上形成光吸收部。
7.一種光偏轉(zhuǎn)器，其特征在于，包括 可動(dòng)板，設(shè)置有具有光反射性的光反射部； 支承部；以及連接部，使所述可動(dòng)板能夠旋轉(zhuǎn)地連接到所述支承部，所述連接部具有傾斜面，當(dāng)在與所述可動(dòng)板的旋轉(zhuǎn)中心軸垂直的剖面觀察時(shí)，所述連 接部從所述可動(dòng)板的一個(gè)面?zhèn)认蛄硪幻鎮(zhèn)葘挾戎饾u增加，并且隨著其寬度的增加所述傾斜 面相對(duì)于所述可動(dòng)板的板面的法線方向傾斜，在所述連接部的傾斜面上設(shè)置有具有光吸收性的光吸收部。
8.一種光偏轉(zhuǎn)器，其特征在于，包括 可動(dòng)板，設(shè)置有具有光反射性的光反射部； 支承部；連接部，使所述可動(dòng)板能夠旋轉(zhuǎn)地連接到所述支承部，所述支承部具有傾斜面，當(dāng)在與所述可動(dòng)板的旋轉(zhuǎn)中心軸垂直的剖面觀察時(shí)，所述支 承部從所述可動(dòng)板的一個(gè)面?zhèn)认蛄硪幻鎮(zhèn)葘挾戎饾u增加，并且隨著其寬度的增加所述傾斜 面相對(duì)于所述可動(dòng)板的板面的法線方向傾斜，在所述支承部的傾斜面上設(shè)置有具有光吸收性的光吸收部。
9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的光偏轉(zhuǎn)器，其特征在于，所述可動(dòng)板具有傾斜面，當(dāng)在與所述可動(dòng)板的旋轉(zhuǎn)中心軸垂直的剖面觀察時(shí)，所述可 動(dòng)板從所述可動(dòng)板的一個(gè)面?zhèn)认蛄硪幻鎮(zhèn)葘挾戎饾u增加，并且隨著其寬度的增加所述可動(dòng) 板的所述傾斜面相對(duì)于所述可動(dòng)板的板面的法線方向傾斜， 在所述可動(dòng)板的傾斜面上設(shè)置有具有光吸收性的光吸收部。
10.一種光偏轉(zhuǎn)器的制造方法，用于制造權(quán)利要求7至9中任一項(xiàng)所述的光偏轉(zhuǎn)器，其 特征在于，包括第一工序，通過(guò)對(duì)面方向(100)的硅基板進(jìn)行蝕刻來(lái)形成所述可動(dòng)板、所述支承部以 及所述連接部；第二工序，形成所述光吸收部；以及 第三工序，形成所述光反射部。
11.一種圖像顯示裝置，其特征在于，包括 用于射出光的光射出部；以及權(quán)利要求7至9中任一項(xiàng)所述的光偏轉(zhuǎn)器，通過(guò)用所述光偏轉(zhuǎn)器對(duì)從所述光射出部射出的光進(jìn)行掃描，從而顯示圖像。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種可以防止迷光產(chǎn)生的光偏轉(zhuǎn)器、光偏轉(zhuǎn)器的制造方法以及圖像顯示裝置。該光偏轉(zhuǎn)器包括可動(dòng)板(11)；彈性支承部(12)，其一端與可動(dòng)板(11)連接，并且其可繞旋轉(zhuǎn)軸X旋轉(zhuǎn)地支承可動(dòng)板(11)；以及支承部件(13)，與彈性支承部(12)的另一端連接，彈性支承部(12)、支承部件(13)具有上表面、下表面以及側(cè)面，側(cè)面由位于上表面或下表面的外側(cè)的一個(gè)或多個(gè)斜面形成，在彈性支承部(12)、支承部件(13)的上表面、下表面及側(cè)面上設(shè)置有光吸收膜(30)。
文檔編號(hào)B81C1/00GK101988988SQ20101024585
公開(kāi)日2011年3月23日 申請(qǐng)日期2010年8月3日 優(yōu)先權(quán)日2009年8月4日
發(fā)明者中村真希子, 小林理, 溝口安志 申請(qǐng)人:精工愛(ài)普生株式會(huì)社