本發(fā)明涉及抗氧化劑，具體為一種銅箔專用環(huán)?？寡趸瘎┨砑觿┘捌渲苽浞椒ā?/p>

背景技術(shù)：

1、目前對(duì)于電鍍銅箔抗氧化處理常使用含鉻的電解保護(hù)工藝，通過(guò)在銅箔表面形成一層鉻氧化膜層(具有優(yōu)異的抗氧化及耐鹽霧性能)，可阻止銅箔被外界環(huán)境腐蝕和氧化變色。但鉻氧化膜層是一種半導(dǎo)體，會(huì)使銅箔的電阻明顯增大，導(dǎo)電性能變差；鉻還是一種具有致癌性的物質(zhì)，對(duì)于環(huán)境也不太友好，因此在我國(guó)電鍍污染排放標(biāo)準(zhǔn)gb?21900-2008中對(duì)總鉻和cr6+的污染排放都有嚴(yán)格控制。

2、另外，目前銅箔無(wú)鉻環(huán)保抗氧化技術(shù)主要還是研究報(bào)告居多，但在實(shí)際應(yīng)用中，由于無(wú)鉻氧化膜層的抗氧化及耐鹽霧性能不佳，所以無(wú)鉻環(huán)?？寡趸夹g(shù)幾乎沒(méi)有應(yīng)用于工業(yè)化生產(chǎn)中。

3、根據(jù)上述的情況，對(duì)應(yīng)的，本發(fā)明將提供一種銅箔專用環(huán)?？寡趸瘎┨砑觿┘捌渲苽浞椒ㄒ越鉀Q這些問(wèn)題。本發(fā)明制備的銅箔專用環(huán)?？寡趸瘎┨砑觿┠軌蛱岣咴协h(huán)?？寡趸瘎┑男阅埽沟玫降难趸优c傳統(tǒng)含鉻的電解保護(hù)工藝的技術(shù)性能相當(dāng)，在保障銅箔具有優(yōu)異的抗氧化及耐腐蝕性能的同時(shí)，且不會(huì)明顯提高銅箔的電阻，更能夠滿足實(shí)際生產(chǎn)中銅箔抗氧化的技術(shù)需要。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本發(fā)明的目的在于提供一種銅箔專用環(huán)?？寡趸瘎┨砑觿┘捌渲苽浞椒ǎ越鉀Q上述背景技術(shù)中提出的問(wèn)題。

2、為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：

3、一種銅箔專用環(huán)?？寡趸瘎┨砑觿┑闹苽浞椒ǎㄒ韵虏襟E：

4、步驟一：將l-蛋氨酸加入到去離子水中，充分?jǐn)嚢枞芙?，得到l-蛋氨酸溶液；

5、步驟二：將3-氨基-1,2-丙二醇加入到去離子水中，充分?jǐn)嚢枞芙夂?，加熱?0±2℃，保持恒溫，得到3-氨基-1,2-丙二醇溶液；

6、步驟三：(1)將3-氨基-1,2-丙二醇溶液緩慢加入到l-蛋氨酸溶液中，充分?jǐn)嚢杌旌希?2)向(1)中溶液加入氨基甲酸乙酯，充分?jǐn)嚢杌旌希?3)向(2)中溶液加入2,6-二氯吡啶，充分?jǐn)嚢杌旌虾?，定容，并?0±2℃恒溫?cái)嚢?～3h，最后冷卻至室溫，得到銅箔專用環(huán)?？寡趸瘎┨砑觿?。

7、進(jìn)一步的，所述銅箔專用環(huán)?？寡趸瘎┨砑觿?，包括以下濃度組分：l-蛋氨酸40～80g/l、3-氨基-1,2-丙二醇20～40g/l、氨基甲酸乙酯2～4g/l、2,6-二氯吡啶2～4g/l，其余為去離子水。

8、進(jìn)一步的，所述l-蛋氨酸、3-氨基-1,2-丙二醇、氨基甲酸乙酯、2,6-二氯吡啶四者質(zhì)量比為20:10:1:1。

9、一種銅箔專用環(huán)?？寡趸瘎┨砑觿┑膽?yīng)用，其特征在于：將銅箔專用環(huán)?？寡趸瘎┨砑觿┮氲诫婂冦~箔環(huán)保抗氧化劑中，用于電鍍銅箔無(wú)鉻抗氧化處理工藝中；其可以提高電鍍銅箔的抗氧化及耐腐蝕性能，不會(huì)明顯改變銅箔的電阻，同時(shí)不會(huì)存在嚴(yán)重的環(huán)境污染問(wèn)題。

10、進(jìn)一步的，所述電鍍銅箔環(huán)?？寡趸瘎?，包括以下濃度組分：苯丙三氮唑4～6g/l、聚乙二醇6～8g/l、十二烷基硫酸鈉3～5g/l，其余為去離子水。

11、進(jìn)一步的，所述銅箔專用環(huán)保抗氧化劑添加劑引入量為電鍍銅箔環(huán)?？寡趸瘎w積的1％。

12、進(jìn)一步的，引入銅箔專用環(huán)保抗氧化劑添加劑后的電鍍銅箔環(huán)?？寡趸瘎ㄒ韵聺舛冉M分：銅箔專用環(huán)?？寡趸瘎┨砑觿?0ml/l、苯丙三氮唑4～6g/l、聚乙二醇6～8g/l、十二烷基硫酸鈉3～5g/l，其余為去離子水。

13、進(jìn)一步的，所述聚乙二醇的分子量為200～600。

14、銅箔專用環(huán)保抗氧化劑添加劑中的氨基甲酸乙酯起著促進(jìn)劑作用，促進(jìn)抗氧化膜的形成；2,6-二氯吡啶能顯著增加抗氧化膜層致密度，降低膜層厚度，降低氧化膜層電阻，提高膜層抗氧化及耐鹽霧性能；3-氨基-1,2-丙二醇起到滲透劑和乳化劑作用，保證2,6-二氯吡啶的充分溶解；l-蛋氨酸起絡(luò)合穩(wěn)定劑的作用。

15、電鍍銅箔環(huán)?？寡趸瘎┲械氖榛蛩徕c可用作陰離子型表面活化劑、乳化劑及發(fā)泡劑，還有可作為洗滌劑；聚乙二醇作為溶劑，能夠溶解融合難溶物質(zhì)，增加水溶性；同時(shí)，由于聚乙二醇在高分子量時(shí)，呈固態(tài)，不適用于抗氧化劑，因此電鍍銅箔環(huán)?？寡趸瘎┲芯垡叶嫉姆肿恿靠刂圃?00～600；苯丙三氮唑主要作為水處理劑，也可作為金屬防銹劑與緩蝕劑，可對(duì)銅箔起到緩蝕作用，提高其耐腐蝕性能。

16、進(jìn)一步的，所述電鍍銅箔無(wú)鉻抗氧化處理工藝的參數(shù)：溫度為40～50℃，時(shí)間為20～30s。

17、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明所達(dá)到的有益效果是：

18、(1)本發(fā)明制備的銅箔專用環(huán)?？寡趸瘎┨砑觿┛梢栽诓桓淖?cè)锌寡趸瘎┕に囆阅艿幕A(chǔ)上，大幅度提高電鍍銅箔膜面的抗氧化及耐腐蝕性能，且不會(huì)明顯提高銅箔膜面電阻，對(duì)銅箔導(dǎo)電性能造成負(fù)面影響；

19、(2)本發(fā)明制備的銅箔專用環(huán)?？寡趸瘎┨砑觿┚哂协h(huán)保、無(wú)毒、用量濃度較低、成本低等特點(diǎn)，適合于工業(yè)化大生產(chǎn)。

技術(shù)特征：

1.一種銅箔專用環(huán)?？寡趸瘎┨砑觿?，其特征在于：所述銅箔專用環(huán)?？寡趸瘎┨砑觿?，包括以下濃度組分：l-蛋氨酸40～80g/l、3-氨基-1,2-丙二醇20～40g/l、氨基甲酸乙酯2～4g/l、2,6-二氯吡啶2～4g/l，其余為去離子水。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種銅箔專用環(huán)?？寡趸瘎┨砑觿?，其特征在于：所述l-蛋氨酸、3-氨基-1,2-丙二醇、氨基甲酸乙酯、2,6-二氯吡啶四者質(zhì)量比為20:10:1:1。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種銅箔專用環(huán)?？寡趸瘎┨砑觿┑闹苽浞椒?，其特征在于：包括以下步驟：

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種銅箔專用環(huán)?？寡趸瘎┨砑觿┑膽?yīng)用，其特征在于：將銅箔專用環(huán)?？寡趸瘎┨砑觿┮氲诫婂冦~箔環(huán)?？寡趸瘎┲?，用于電鍍銅箔無(wú)鉻抗氧化處理工藝中。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種銅箔專用環(huán)?？寡趸瘎┨砑觿┑膽?yīng)用，其特征在于：所述電鍍銅箔環(huán)?？寡趸瘎ㄒ韵聺舛冉M分：苯丙三氮唑4～6g/l、聚乙二醇6～8g/l、十二烷基硫酸鈉3～5g/l，其余為去離子水。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種銅箔專用環(huán)?？寡趸瘎┨砑觿┑膽?yīng)用，其特征在于：所述銅箔專用環(huán)保抗氧化劑添加劑引入量為電鍍銅箔環(huán)?？寡趸瘎w積的1％。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種銅箔專用環(huán)?？寡趸瘎┨砑觿┑膽?yīng)用，其特征在于：引入銅箔專用環(huán)?？寡趸瘎┨砑觿┖蟮碾婂冦~箔環(huán)?？寡趸瘎?，包括以下濃度組分：銅箔專用環(huán)?？寡趸瘎┨砑觿?0ml/l、苯丙三氮唑4～6g/l、聚乙二醇6～8g/l、十二烷基硫酸鈉3～5g/l，其余為去離子水。

8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種銅箔專用環(huán)保抗氧化劑添加劑的應(yīng)用，其特征在于：所述電鍍銅箔無(wú)鉻抗氧化處理工藝的參數(shù)：溫度為40～50℃，時(shí)間為20～30s。

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及抗氧化劑技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種銅箔專用環(huán)?？寡趸瘎┨砑觿┘捌渲苽浞椒?。所述銅箔專用環(huán)保抗氧化劑添加劑，包括以下濃度組分：L?蛋氨酸40～80g/L、3?氨基?1,2?丙二醇20～40g/L、氨基甲酸乙酯2～4g/L、2,6?二氯吡啶2～4g/L，其余為去離子水。其可引入到電鍍銅箔環(huán)?？寡趸瘎┲校糜陔婂冦~箔無(wú)鉻抗氧化處理工藝；引入量為電鍍銅箔環(huán)保抗氧化劑體積的1％。本發(fā)明制備的銅箔專用環(huán)保抗氧化劑添加劑可以在不改變?cè)锌寡趸瘎┕に囆阅艿幕A(chǔ)上，大幅度提高電鍍銅箔膜面的抗氧化及耐腐蝕性能，且不會(huì)明顯提高銅箔膜面電阻，更能夠滿足實(shí)際生產(chǎn)中銅箔抗氧化的技術(shù)需要。

技術(shù)研發(fā)人員：劉國(guó)春,朱中亞,李瑞平,李學(xué)法,張國(guó)平
受保護(hù)的技術(shù)使用者：江陰納力新材料科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/10/10