專利名稱：帶有覆層的制品的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及其上有多層的裝飾和保護(hù)覆層的制品，尤其是黃銅制品。
近年來，實(shí)際應(yīng)用各種黃銅制品，如龍頭，龍頭把手，門扭、門把、門飾等時(shí)，首先將該制品的表面打磨和拋光到高的光亮度，然后在該拋光的表面上施以保護(hù)性的有機(jī)覆層，如由丙烯酸類物，尿烷，環(huán)氧化物等組成的覆層。這種體系的缺點(diǎn)是打磨和拋光作業(yè)很費(fèi)工，若此制品的形狀復(fù)雜時(shí)則尤為如此。還有，這種已知的有機(jī)覆層不總是象所期望那樣地耐久，因而易受酸的浸蝕。因此，若黃銅制品，當(dāng)然還有其它制品，無論是塑料、陶瓷或金屬制品設(shè)有使它們具有精拋黃銅的外觀、耐磨性、防腐蝕性及改善了的耐酸性的覆層則是有益的。本發(fā)明提供了這樣的覆層。
本發(fā)明的目的在于這樣的制品，比如，塑料、陶瓷，或金屬的，特別是金屬的制品在其至少部分表面上沉積了多層的覆層。尤其是，本發(fā)明的目的在于其表面上沉積了某些特定類型的金屬或金屬化合物的多層的疊加金屬層的金屬制品，如不銹鋼、鋁，黃銅或鋅制品。這種覆層是裝飾性的，而且還提供了耐腐蝕，耐磨和改善了的耐酸性能。該覆層提供了精拋黃銅的外觀，即具有黃銅的色調(diào)。因此，其上有這種覆層的制品表面與精拋黃銅的表面相仿佛。
首先在該制品表面上沉積一層或幾層電鍍層。然后用汽相沉積法在此電鍍層頂上沉積一或幾層汽相沉積層。直接沉積在該基底表面上的第一層由鎳構(gòu)成。該第一層可為一單層，或它可由兩種不同的鎳層構(gòu)成，如，由直接沉積在該基底表面上的半光亮鎳層及疊加在此半光亮鎳層上的光亮鎳層構(gòu)成。沉積在該鎳層之上的是由非貴重難熔金屬或金屬合金，如由Zr、Ti、Hf、Ta或Zr-Ti合金，而最好是由Zr、Ti或Zr-Ti合金構(gòu)成的層。在該難熔金屬或難熔金屬合金構(gòu)成的層之上的是夾心層，它是由非貴重難熔金屬化合物或非貴重難熔金屬合金的化合物和非貴重難熔金屬，或非貴重難熔金屬合金的交替層構(gòu)成的。在夾心層之上的是由非貴重難熔金屬化合物或非貴重的難熔金屬合金的化合物構(gòu)成的層。在該非貴重難熔金屬化合物或非貴重難熔金屬合金的化合物層之上的是由非貴重難熔金屬氧化物、非貴重難熔金屬合金的氧化物，或非貴重難熔金屬或金屬合金、氧和氮的反應(yīng)產(chǎn)物所構(gòu)成的層。
鎳層是用電鍍施加的。非貴重金屬或非貴重金屬合金層、夾心層、非貴重金屬化合物或非貴重金屬合金的化合物層、及由非貴重難熔金屬氧化物、非貴重難熔金屬合金的氧化物，或非貴重難熔金屬或金屬合金、氧和氮的反應(yīng)產(chǎn)物所構(gòu)成的層是用汽相沉積，如陰極弧蒸鍍或?yàn)R射施加的。


圖1是其表面上經(jīng)電鍍及汽相沉積沉積了多層覆層的部分基底的，不按比例的截面圖。
圖2是類似與圖1的圖，但其鎳層由雙鎳層構(gòu)成。
制品或基底12可由任何可鍍材料，如塑料、陶瓷、金屬或金屬合金構(gòu)成。特別是由可鍍金屬或金屬合金，如銅、鋼、黃銅、鋅、鋁、鎳合金等構(gòu)成。在一較佳實(shí)施方案中，該基底是黃銅或鋅。
按本發(fā)明，如于圖1和2中所示，將第一層或第一系列層電鍍在制品表面上。將第二系列層汽相沉積在該電鍍層的表面上。鎳層13可用常規(guī)的或公知的電鍍法沉積在基底12的表面上。這些方法包括采用常規(guī)鍍液，如Watts鍍液作電鍍?nèi)芤?。這類鍍液一般含硫酸鎳、氯化鎳和硼酸的水溶液。所有的氯化物、氨基磺酸鹽及氟硼酸鹽電鍍?nèi)芤阂捕伎刹捎?。這些鍍液可任選地包括一些已知的和常規(guī)使用的化合物，如均化劑或光亮劑等。為了產(chǎn)生鏡面光亮的鎳層，則向此電鍍?nèi)芤杭又辽僖环NⅠ級光亮劑和至少一種Ⅱ級光亮劑。Ⅰ級光亮劑是含S的有機(jī)化合物。Ⅱ級光亮劑是不含S的有機(jī)化合物。Ⅱ級光亮劑還會(huì)引起均化，而且當(dāng)將其加于無含S的Ⅰ級光亮劑的電鍍?nèi)芤褐袝r(shí)，則形成半光亮鎳沉積物。這些Ⅰ級光亮劑包括烷基萘和苯磺酸、苯和萘的二和三磺酸，苯和萘的磺酰胺和諸如鄰磺酰苯甲酰亞胺之類的磺酰胺、乙烯基和炔丙基磺酰胺及磺酸。Ⅱ級光亮劑一般是不飽和的有機(jī)材料，如炔醇或烯醇，乙氧基化和丙氧基化的炔醇，香豆素和醛類。這些Ⅰ級和Ⅱ級光亮劑在本技術(shù)領(lǐng)域中是公知的，并且易從市上購得。特別是它們被述于US.4,421,611中，其內(nèi)容經(jīng)參照已結(jié)合于本文中。
該鎳層可由單層，如半光亮鎳或光亮鎳層構(gòu)成，或它可以是含有兩種不同鎳層的雙層，如包含由半光亮鎳構(gòu)成的層和由光亮鎳構(gòu)成的層。鎳層的厚度范圍一般為約百萬分之100(0.000100)英寸，更好是約百萬分之150(0.000150)英寸至約百萬分之3500(0.0035)英寸。
如在本技術(shù)領(lǐng)域中所公知的那樣，在將鎳層沉積在基底表面上之前，先將基底置于常規(guī)的和已知的酸性浴液中使其經(jīng)受酸性活化。
在圖2所示的一實(shí)施方案中，鎳層13實(shí)際上由兩個(gè)不同的鎳層14和16構(gòu)成。層14由半光亮鎳構(gòu)成，而層16由光亮鎳構(gòu)成。這種雙層的鎳沉積改善了對下面基底的防腐蝕保護(hù)。半光亮的無S的鍍層14是用常規(guī)電鍍法直接沉積在基底12的表面上的。然后將帶有半光亮鎳層14的基底12置于光亮鎳電鍍液中，于是在半光亮鎳層14上就沉積了光亮鎳層16。
半光亮鎳和光亮鎳層的厚度是一種能有效地產(chǎn)生改善了的防腐蝕性能的厚度。通常，半光亮鎳層的厚度為至少約百萬分之50(0.00005)英寸，較好是至少約百分之100(0.0001)英寸，而更好是至少約百萬分之150(0.00015)英寸。其上限厚度一般不嚴(yán)格，而且決定于次要條件，如成本。但，該厚度一般不應(yīng)超過約百萬分之1500(0.0015)英寸，更好是不超過約百分之1000(0.001)英寸，最好是不超過約百萬分之750(0.00075)英寸。光亮鎳層16的厚度一般為至少約百萬分之50(0.00005)英寸，較好是至少約百萬分之125(0.000125)英寸，而更好是至少約百萬分之250(0.000250)英寸。光亮鎳層的上限厚度不嚴(yán)格，一般為次要條件，如成本，所控制。但，該厚度一般不應(yīng)超過約百萬分之2500(0.0025)英寸，較好是不超過約百萬分之2000(0.002)英寸，而更好是不超過約百萬分之1500(0.0015)英寸。光亮鎳層還起著均化層的作用，它傾向于掩蓋或填充基底上的缺陷。
在鎳層13上所沉積的是由非貴重難熔金屬或金屬合金，如由Hf、Ta、Zr、Ti或Zr-Ti合金，較好是由Zr、Ti或Zr-Ti合金，而更好是由Zr構(gòu)成的層22。
層22用常規(guī)而公知的技術(shù)沉積在層13上，該技術(shù)包括汽相沉積，如陰極弧蒸鍍(CAE)或?yàn)R射等。尤其是在J.Vossen和W.kem的“Thin Film ProcessⅡ”(Academic Press,1991)；R.Boxman等人的“Handbook of Vacuum ArcScience and Technology”(Noyes Pub.,1995)；及US.4,162,954和4,591,418中已公開的濺射技術(shù)及設(shè)備，其全部公開內(nèi)容經(jīng)參照已結(jié)合在本文中。
簡言之，按濺射沉積法，將作為陰極的難熔金屬靶(如Ti或Zr)和基底放在真空室中。室中的空氣經(jīng)抽空，從而在該室中形成真空狀態(tài)。將惰性氣體、如Ar引入此室。氣體顆粒經(jīng)電離，然后向靶加速，結(jié)果撞擊出Ti或Zr原子。然后被撞擊出來的靶材一般作為覆膜沉積在基底上。
在陰極弧蒸鍍時(shí)，一般為數(shù)百安培的電弧沖擊金屬陰極，如Zr或Ti的表面。電弧將陰極材料蒸發(fā)，然后它凝在基底上，從而形成覆層。
層22的厚度一般為至少約百萬分之0.25(0.00000025)英寸，更好是至少約百萬分之0.5(0.0000005)英寸，而最好是至少約百萬分之1(0.000001)英寸。其厚度上限不嚴(yán)格，并且一般取決于次要條件，如成本。但，層22的厚度一般不應(yīng)大于約百萬分之50(0.00005)，較好是不大于約百萬分之15(0.000015)，更好是不大于約百萬分之10(0.000010)英寸。
在本發(fā)明的一個(gè)較佳實(shí)施方案中，層22由Ti、Zr或Ti-Zr合金構(gòu)成，較好是由Zr構(gòu)成，并用濺射或陰極弧蒸鍍沉積。
由非貴重難熔金屬化合物，或非貴重難熔金屬合金的化合物28和非貴重難熔金屬或非貴重難熔金屬合金30的交替層構(gòu)成的夾心層26沉積在難熔金屬或難熔金屬合金層22，如Zr或Zr-Ti合金層上。附圖1和2中展示了這種結(jié)構(gòu)，其中22代表難熔金屬或難熔金屬合金層，較好是Zr或Zr-Ti合金層，26代表夾心層，28代表非貴重難熔金屬化合物層，或非貴重難熔金屬合金的化合物層，而30代表非貴重難熔金屬層或非貴重難熔金屬合金層。
層30所包含的非貴重難熔金屬和非貴重難熔金屬合金包括Hf、Ta、Ti、Zr、Zr-Ti合金、Zr-Hf合金等，較好的是Zr、Ti或Zr-Ti合金，而更好是Zr。
層28所包含的非貴重難熔金屬化合物和非貴重難熔金屬合金的化合物包括Hf的化合物、Ta的化合物、Ti的化合物、Zr的化合物和Zr-Ti合金的化合物、較好的是Ti的化合物、Zr的化合物或Zr-Ti合金的化合物，而更好的是Zr的化合物。這些化合物選自氮化物、碳化物和碳氮化物，而以氮化物為佳。因此，該Ti的化合物就選自TiN,TiC和碳氮化鈦，而以TiN為佳。Zr的化合物就選自ZrN2、ZrC和碳氮化鋯，而以ZrN2為佳。
夾心層26的平均厚度一般為約百萬分之2(0.000002)英寸-約百萬分之40(0.00004)英寸，較好是約百萬分之4(0.000004)英寸-約百萬分之35(0.000035)英寸，而更好是約百萬分之6(0.000006)英寸-約百萬分之30(0.00003)英寸。
層28和30的厚度一般各為至少約百萬分之0.01(0.00000001)英寸，較好是至少約百萬分之0.25(0.00000025)英寸，而更好是至少約百萬分之0.5(0.0000005)英寸。一般來說，層28和30的厚度不應(yīng)大于約百萬分之15(0.000015)，較好是不大于約百萬分之10(0.00001)，更好是不大于約百萬分之5(0.000005)英寸。
形成夾心層26的方法是利用濺射或陰極弧蒸鍍，從而沉積非貴重難熔金屬，如Zr或Ti的層30，然后通過反應(yīng)性濺射或陰極弧蒸鍍沉積非貴重難熔金屬氮化物，如ZrN2或TiN的層28。
在汽相沉積，如反應(yīng)性濺射過程葉，最好改變N2氣流量(脈沖式的)，這種改變是在0(不引入，或以減小的值引入N2氣)和按照在夾心層26上形成金屬30和金屬氮化物28的多層交替層所需值引入的氮之間變化。
夾心層26中的難熔金屬30和難熔金屬化合物28的交替層的層數(shù)一般至少約為2，較好是至少約為4，而更好是至少約為6。夾心層26中的難熔金屬30和難熔金屬化合物28的交替層的層數(shù)一般不應(yīng)超過約50，較好是不超過約40，更好是不超過約30。
在如圖1和2所示的本發(fā)明的一實(shí)施方案中，在夾心層26上所汽相沉積的是由非貴重難熔金屬化合物，或非貴重難熔金屬合金的化合物，較好是由氮化物、碳化物或碳氮化物，而更好是由氮化物構(gòu)成的層32。
層32由Hf的化合物、Ta的化合物、Ti的化合物、Zr-Ti合金的化合物?；騔r的化合物，較好地是由Ti的化合物、Zr-Ti合金的化合物或Zr的化合物，而更好是由Zi的化合物構(gòu)成。鈦的化合物選自TiN、TiC和碳氮化鈦，而以TiN為佳。Zr的化合物選自ZrN2、ZrC和碳氮化Zr，而以ZrN2為佳。
層32提供耐磨和耐刮傷性能及合乎要求的顏色或外觀，如精拋黃銅的顏色和外觀。用任何公知的和常規(guī)的汽相沉積技術(shù)，如反應(yīng)性濺射和陰極弧蒸鍍將層32沉積在層26上。
反應(yīng)性陰極弧蒸鍍和反應(yīng)性濺射與普通的濺射和陰極弧蒸鍍相似，但將欲與被撞擊的靶材反應(yīng)的氣體引入此室中。因此，在ZrN2為層32的情況下，用Zr構(gòu)成陰極，而N2是引入該室的反應(yīng)氣體。通過控制可用來與Zr反應(yīng)的N2量，就可將ZrN2的顏色調(diào)節(jié)得與各種色調(diào)的黃銅的顏色相似。
層32的厚度至少要能有效地提供抗刮傷性。該厚度一般為至少百萬分之0.1(0.0000001)英寸，較好是至少百萬分之1(0.000001)英寸，而更好是至少百萬分之2(0.000002)英寸。該厚度的上限不嚴(yán)格，而且一般決定于次要條件，如成本。一般不應(yīng)超過約百萬分之30(0.00003)英寸，較好是不超過約百萬分之25(0.00025)英寸，更好是不超過約百萬分之20(0.00002)英寸的厚度。
由于ZrN2能產(chǎn)生最接近精拋黃銅的外觀，所以它是優(yōu)選的覆層材料。
在本發(fā)明的一實(shí)施方案中，層34由非貴重的耐熔金屬或金屬合金，含氧氣體，如氧氣及氮的反應(yīng)產(chǎn)物構(gòu)成并沉積在層32上?？捎糜趯?shí)施本發(fā)明的金屬，是那些在適當(dāng)?shù)臈l件下能形金屬氧化物和金屬氮化物的金屬，所述的條件，比如是采用由氧和氮構(gòu)成的反應(yīng)氣體。這類金屬，比如，可以是Ta、Hf、Zr、Zr-Ti合金及Ti,Ti、Zr-Ti合金較好，而更好是Zr。
這類金屬或金屬合金、氧和氮的反應(yīng)產(chǎn)物一般由該金屬或金屬合金的氧化物，該金屬或金屬合金的氮化物及該金屬或金屬合金的氧-氮化物構(gòu)成。因此，比如，Zr、O和N的反應(yīng)產(chǎn)物就包括氧化鋯、ZrN2和Zr的氧-氮化物。這類包括氧化鋯和ZrN2合金的金屬氧化物和金屬氮化物及其制備和沉積是常規(guī)的和公知的，尤其是已公開于US,5,367,285中，其公開內(nèi)容經(jīng)參照已結(jié)合于本文中。
可用公知的和常規(guī)的汽相沉積技術(shù)，這包括反應(yīng)性濺射和陰極弧蒸鍍，沉積層34。
在另一實(shí)施方案中，由非貴重難熔金屬氧化物或非貴重難熔金屬合金的氧化物構(gòu)成的層替代了由難熔金屬或難熔金屬合金、氧和氮的反應(yīng)產(chǎn)物構(gòu)成的層34。構(gòu)成層34的難熔金屬氧化物和難熔金屬合金的氧化物包括，但不限于，Hf的氧化物、Ta的氧化物、Zr的氧化物、Ti的氧化物和Zr-Ti合金的氧化物，以Ti的氧化物，Zr的氧化物及Zr-Ti合金的氧化物為好，而更好是Zr的氧化物。這些氧化物及其制備是常規(guī)的和公知的。
包括(ⅰ)非貴重難熔金屬或非貴重難熔金屬合金、氧和氮的反應(yīng)產(chǎn)物，或(ⅱ)非貴重難熔金屬氧化物或非貴重難熔金屬合金的氧化物的層34的厚度一般至少要能有效地改善耐酸性能。該厚度一般為至少約百萬分之0.05(0.00000005)英寸，較好是至少約百萬分之0.1(0.0000001)英寸，而更好是至少約百萬分之0.15(0.00000015)英寸。層34的厚度一般不應(yīng)大于百萬分之5(0.000005)英寸，較好是不大于約百萬分之2(0.000002)英寸，更好是不大于約百萬分之1(0.000001)英寸。
為了更容易理解本發(fā)明，提供以下的實(shí)施例。該實(shí)施例是說明性的，因而不構(gòu)成對本發(fā)明的限制。實(shí)施例1將黃銅龍頭在含有標(biāo)準(zhǔn)的和公知的皂類、洗滌劑、反絮凝劑的均熱的清潔劑浴液內(nèi)放約10分鐘，其PH值保持為8.9-9.2，溫度保持為180-200°F。然后將此黃銅龍頭放在常規(guī)的超聲波堿性清潔劑浴液中。該超聲波清潔劑浴液的PH值保持為8.9-9.2，溫度為160-180°F，并且含常規(guī)的和公知的皂類、洗滌劑、反絮凝劑等。超聲波清洗后，沖洗此龍頭，然后將其放在常規(guī)的堿性電清洗劑浴液中。該電清洗劑浴液的溫度保持在約140-180°F,PH值保持為約10.5-11.5，并含標(biāo)準(zhǔn)的和常規(guī)的洗滌劑。然后兩次沖洗此龍頭，再將其放在常規(guī)的酸性活化劑浴液中。該酸性活化劑浴液的PH值約為2.0-3.0，溫度為室溫，并含有以氟化鈉為基的酸式鹽。然后將此龍頭沖洗2次。再將其于光亮鎳鍍液中放約12分鐘。光亮鎳鍍液一般是常規(guī)鍍液，其溫度保持在130-150°F,PH保持為約4.0，并含有NiSO4,NiCl2、硼酸及光亮劑。在龍頭表面上沉積了平均厚度約百萬分之400(0.0004)英寸的光亮鎳層。用去離子水徹底沖洗此龍頭，然后將其干燥。將此鍍鎳龍頭放在陰極弧蒸鍍?nèi)萜髦?。該容器一般為封閉圓柱形，帶有適于用泵抽空的真空室。經(jīng)用于改變進(jìn)入該室中的Ar流量的調(diào)節(jié)閥將Ar氣源與該室相連。另外，經(jīng)用于改變進(jìn)入該室的N2流量的調(diào)節(jié)閥將N2氣源與該室連通。
將圓柱形的陰極裝在該室的中央，并與可變的D.C電源的負(fù)輸出端相連。該電源的正側(cè)與室壁相連。陰極材料包括Zr。
將鍍過的龍頭裝在一些桿上，將共16根桿裝在圍繞陰極外側(cè)的環(huán)上。整個(gè)環(huán)繞陰極旋轉(zhuǎn)，而同時(shí)每根桿繞其各自軸旋轉(zhuǎn)，從而產(chǎn)生所謂行星式的運(yùn)動(dòng)，這使得裝在每根桿上的多個(gè)龍頭向陰極均勻地暴露。該環(huán)一般以數(shù)rpm的速度旋轉(zhuǎn)，環(huán)每轉(zhuǎn)一周而使每根桿轉(zhuǎn)數(shù)周。各桿與室電隔離，并設(shè)有可轉(zhuǎn)動(dòng)的觸點(diǎn)，以便在鍍覆時(shí)可將偏壓加在基底上。
將真空室抽至約5×10-3毫巴的壓力，并加熱到約150℃。
然后使該經(jīng)電鍍的龍頭經(jīng)受高偏弧等離子清理，其中對該經(jīng)電鍍的龍頭施以約500伏的(負(fù))偏壓，同時(shí)使約500安培的電弧沖擊和保持在陰極上。這種清理的持續(xù)時(shí)間約為5分鐘。
以足以維持3×10-2毫巴壓力的流量引入Ar氣。在3分鐘的時(shí)期中，在該鍍鉻的龍頭上沉積平均厚度約百萬分之4(0.000004)英寸的Zr層。該陰極弧沉積工藝包括向該陰極施以達(dá)到約500安培電流的D.C電，向該容器引入Ar氣以在其中保持約1×10-2毫巴的壓力，以及使此龍頭以上述的行星方式轉(zhuǎn)動(dòng)。
在沉積了Zr層之后，將夾心層加在此Zr層上。事先將N2氣流引入真空室，同時(shí)持續(xù)約500安培的電弧放電。N2流量是脈沖的，即在從足以使到達(dá)基底的Zr原子完全反應(yīng)而形成ZrN2的最大流量，至等于0，或不足以與全部的Zr完全反應(yīng)的某一低值的最小流量間作周期性的改變。N2流量脈沖周期為1-2分鐘(30秒-1分供N2，然后停止)。脈沖沉積的總的時(shí)間為約15分鐘，結(jié)果形成10-15層，每層厚約百萬分之1-1.5英寸的夾心疊層。在夾心層中，完全反應(yīng)的Zr的氮化物和金屬Zr的沉積材料相互交替(或與含較少量的N的亞化學(xué)計(jì)算的ZrN交替)。
沉積了夾心層之后，將最大值(足以形成完全反應(yīng)的ZrN2的值)的N2氣流量保持5-10分鐘，結(jié)果在夾心層頂上形成較厚的“彩色”層。沉積了這層ZrN2層之后，以30秒-1分鐘的時(shí)間另外引入約0.1標(biāo)升/分的O2，同時(shí)將N2和Ar的流量保持于其各自的前述值。厚度約為百萬分之0.2-0.5英寸的混合反應(yīng)產(chǎn)物(Zr的氧-氮化物)的薄層就形成了。在這最后的沉積期結(jié)束時(shí)，將電弧熄滅，打開真空室，然后取出經(jīng)鍍覆的基底。
雖然為了說明，陳述了一些實(shí)施方案，但可以理解的是，在本發(fā)明的范圍內(nèi)還可以有各種的實(shí)施方案及改進(jìn)。
權(quán)利要求
1.在其至少部分表面上帶有覆層的制品，該覆層包括至少一層由鎳構(gòu)成的層；由Zr、Ti或Zr-Ti合金構(gòu)成的層；由Zr的化合物、Ti的化合物或Zr-Ti合金的化合物和Zr、Ti或Zr-Ti合金所組成的多個(gè)交替層所構(gòu)成的夾心層；由Zr的化合物、Ti的化合物或Zr-Ti合金的化合物構(gòu)成的層；及由鋯的氧化物，鈦的氧化物或Zr-Ti合金的氧化物構(gòu)成的層。
2.權(quán)利要求1的制品，其中所述的由Zr的化合物、Ti的化合物或Zr-Ti合金的化合物構(gòu)成的層是由Zr的化合物構(gòu)成的。
3.權(quán)利要求1的制品，其中所述的Zr、Ti或Zr-Ti合金構(gòu)成的層是由Zr構(gòu)成的。
4.權(quán)利要求3的制品，其中所述的由Zr的化合物、Ti的化合物或Zr-Ti合金的化合物構(gòu)成的層是由Zr的化合物構(gòu)成的。
5.權(quán)利要求4的制品，其中所述的由Zr的化合物構(gòu)成的層是由氮化鋯構(gòu)成的。
6.權(quán)利要求5的制品，其中所述的由Zr的氧化物、Ti的氧化物或Zr-Ti合金的氧化物構(gòu)成的層是由Zr的氧化物構(gòu)成的。
7.權(quán)利要求2的制品，其中所述的由Zr的氧化物、Ti的氧化物或Zr-Ti合金的氧化物構(gòu)成的層是由Zr的氧化物構(gòu)成的。
8.權(quán)利要求6的制品，其中所述的由Ni構(gòu)成的至少一個(gè)層是由Ni構(gòu)成的單一層所構(gòu)成的。
9.權(quán)利要求1的制品，其中所述的由Ni構(gòu)成的至少一個(gè)層是由Ni組成的單一層所構(gòu)成的。
10.權(quán)利要求6的制品，其中所述的由Ni構(gòu)成的至少一個(gè)層是由Ni構(gòu)成的兩個(gè)不同層所構(gòu)成的。
11.權(quán)利要求10的制品，其中由Ni構(gòu)成的所述層中的一種是由半光亮Ni構(gòu)成的。
12.權(quán)利要求11的制品，其中由Ni構(gòu)成的所述層中的第二種是由光亮Ni構(gòu)成的。
13.權(quán)利要求1的制品，其中所述的由Ni構(gòu)成的至少一個(gè)層是由Ni所組成的兩個(gè)不同層構(gòu)成的。
14.權(quán)利要求13的制品，其中所述的由Ni構(gòu)成的層的一種是由半光亮Ni所構(gòu)成的。
15.權(quán)利要求14的制品，其中所述的由Ni構(gòu)成的層中的第二種是由光亮Ni所構(gòu)成的。
16.在其至少部分表面上帶有覆層的制品，該覆層包括由Ni構(gòu)成的至少一個(gè)層；由Zr、Ti、或Zr-Ti合金構(gòu)成的層；由Zr的化合物、Ti的化合物或Zr-Ti合金的化合物及Zr、Ti或Zr-Ti合金所組成的多個(gè)交替層構(gòu)成的夾心層；由Zr的化合物、Ti的化合物構(gòu)成的層；及由Zr、Ti或Zr-Ti合金、O和N的反應(yīng)產(chǎn)物構(gòu)成的層。
17.權(quán)利要求16的制品，其中所述的由Zr、Ti或Zr-Ti合金構(gòu)成的層是由Zr構(gòu)成的。
18.權(quán)利要求17的制品，其中所述的由Zr的化合物、Ti的化合物或Zr-Ti合金的化合物構(gòu)成的層是由Zr的化合物構(gòu)成的。
19.權(quán)利要求18的制品，其中所述的由Zr、Ti或Zr-Ti合金，O和N的反應(yīng)產(chǎn)物構(gòu)成的層是由Zr、O和N的反應(yīng)產(chǎn)物構(gòu)成的。
20.在其至少部分表面上帶有覆層的制品，該覆層包括由半光亮Ni構(gòu)成的層；由光亮Ni構(gòu)成的層；由Zr、Ti或Zr-Ti合金構(gòu)成的層；由氮化鋯、氮化鈦或Zr-Ti合金的氮化物和Zr、Ti或Zr-Ti合金所組成的多個(gè)交替層構(gòu)成的夾心層；由氮化鋯、氮化鈦或Zr-Ti合金的氮化物構(gòu)成的層；及由氧化鋯、氧化鈦或Zr-Ti合金的氧化物構(gòu)成的層。
21.權(quán)利要求20的制品，其中所述的由Zr、Ti或Zr-Ti合金構(gòu)成的層是由Zr構(gòu)成的。
22.權(quán)利要求21的制品，其中所述的由氮化鋯、氮化鈦或Zr-Ti合金的氮化物構(gòu)成的層是由氮化鋯構(gòu)成的。
23.權(quán)利要求22的制品，其中所述的由氧化鋯、氧化鈦或Zr-Ti合金的氧化物構(gòu)成的層是由氧化鋯構(gòu)成的。
24.在其至少部分表面上帶有覆層的制品，該覆層包括由半光亮Ni構(gòu)成的層；由光亮Ni構(gòu)成的層；由Zr、Ti或Zr-Ti合金構(gòu)成的層；由氮化鋯、氮化鈦或Zr-Ti合金的氮化物及Zr、Ti或Zr-Ti合金所組成的多個(gè)交替層構(gòu)成的夾心層；由氮化鋯、氮化鈦或Zr-Ti合金的氮化物構(gòu)成的層；及由Zr、Ti或Zr-Ti合金、O和N的反應(yīng)產(chǎn)物構(gòu)成的層。
25.權(quán)利要求24的制品，其中所述的由Zr、Ti或Zr-Ti合金所構(gòu)成的層是由Zr構(gòu)成的。
26.權(quán)利要求25的制品，其中所述的由氮化鋯、氮化鈦或Zr-Ti合金的氮化物構(gòu)成的層是由氮化鋯構(gòu)成的。
27.權(quán)利要求25的制品，其中所述的由Zr、Ti或Zr-Ti合金，O和N的反應(yīng)產(chǎn)物構(gòu)成的層是由Zr、O和N的反應(yīng)產(chǎn)物構(gòu)成的。
全文摘要
用由Ni層、難熔金屬層,較好是Zr層,以難熔金屬的化合物和難熔金屬組成的多個(gè)交替層所構(gòu)成的夾心層、在該夾心層上的難熔金屬化合物層及難熔金屬的氧化物層或由難熔金屬、O和N的反應(yīng)產(chǎn)物構(gòu)成的層所組成的多層覆層鍍覆的一種制品。該覆層提供了抗刮傷、防腐蝕和改善了的耐酸性能。
文檔編號C25D5/12GK1207420SQ9811488
公開日1999年2月10日 申請日期1998年4月30日 優(yōu)先權(quán)日1997年4月30日
發(fā)明者R·P·威爾特, J·H·彼特森, P·朱特, C·W·特蘭德曼 申請人:馬斯科公司