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      具有高耐蝕性的R-Fe-B基粘結(jié)磁體及其制造工藝的制作方法

      文檔序號:5289552閱讀:364來源:國知局

      專利名稱::具有高耐蝕性的R-Fe-B基粘結(jié)磁體及其制造工藝的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      :本發(fā)明涉及制成各種形狀例如環(huán)形或盤形的粘結(jié)磁體,其耐蝕性通過一層清潔的金屬膜而得以提高,本發(fā)明涉及具有急劇提高的耐蝕性及粘結(jié)性的高耐蝕性R-Fe-B基粘結(jié)磁體及其制造工藝。在該工藝中,首先通過干法滾筒拋光技術(shù),用拋光粉、粘結(jié)磁體拋光屑及無機(jī)粉末填充其孔隙,以密封孔隙并精整其表面;或者,不采用這種密封方法,而是用Cu、Sn、Zn、Pb、Cd、In、Au、Ag、Fe、Ni、Co、Cr、Al及以上元素的合金塊作金屬介質(zhì),通過干法滾筒拋光使上述金屬片磨成的微細(xì)碎片壓入粘結(jié)磁體表面上的孔隙和樹脂表面,形成覆蓋層;或者,通過在磁體粉末表面覆蓋一層微細(xì)的金屬碎片,賦予磁體表面足夠的導(dǎo)電性,使得能對其進(jìn)行直接電鍍,而非進(jìn)行化學(xué)鍍;或者,先形成上述鋁覆層,然后進(jìn)行鋅置換處理,形成一種可進(jìn)行大批量高效率生產(chǎn)的高耐蝕性涂層,不再局限于電鍍鎳或其它后處理鍍覆技術(shù)。但是,R-Fe-B磁體存在這樣的問題由于其磁體合金組成中含有大量的鐵和極易氧化組成相,因此它們易于生銹所以需要用電解沉積、噴涂、浸漬或浸透等方法在其表面形成各種成分的樹脂層(可見日本專利申請公開No.H1-166519/1989,日本專利申請公開No.H1-245504/1989)。對于目前為提高R-Fe-B粘結(jié)磁體耐蝕性所用的樹脂涂層方法,例如,就環(huán)形粘結(jié)磁體所用的噴涂方法而言,涂層材料的損耗大;由于需要正反兩面翻轉(zhuǎn),因而涉及的工藝步驟多;而且這種方法也存在著膜層厚度均勻性差的問題。此外,對于電鍍方法,盡管膜層厚度均勻,但每塊磁均需連到電極上;而且鍍覆結(jié)束后電極留下的印跡必須去除,因此需要進(jìn)行修整。所以,這種方法需要大量的工藝步驟,尤其適合于小型磁體。采用浸漬方法時,由于涂覆材料的滴落及其他問題,很難得到特定均勻厚度的涂層。而且,對于多孔性粘結(jié)磁體,其孔隙不能得到充分地填充,這會引起干燥過程中膨脹之類的問題,并且造成制品粘連。對于生成金屬覆膜的批量生產(chǎn)方法而言,一種方案是對燒結(jié)R-Fe-B磁體進(jìn)行金屬電鍍(可見日本專利申請公開No.S60-54406/1985和日本專利申請公開No.S62-120003/1987),但R-Fe-B粘結(jié)磁體的表面呈多孔性,而且其露出的樹脂部分的導(dǎo)電性差,因此,電鍍后電鍍液會殘留在粘結(jié)磁體表面,不能在樹脂部分充分地形成鍍膜,從而造成針孔(未鍍部分);并且引發(fā)生銹。因此,出現(xiàn)一些選擇電鍍液的方法,即使它們滲入多性粘結(jié)磁體并殘留在那也是無害的(日本專利申請公開No.H4-276092/1992)。也出現(xiàn)了先在底涂層形成樹脂涂層,再進(jìn)行鍍覆的方法(日本專利申請公開No.H3-11714/1991,日本專利申請公開No.H4-276095/1992)。然而,很難調(diào)整鍍液的pH值或者使它們完全無害,而且還沒有發(fā)現(xiàn)任何具有高效膜層形成能力的溶液,并且,底涂層厚度的波動是鍍層的不穩(wěn)定因素,但形成足夠厚度的底涂層會使得沒有必要再進(jìn)行表面鍍層。有人提出采用特定成分的鍍液這一方法來在R-Fe-B粘結(jié)磁體上進(jìn)行高成膜效率的鍍鎳(日本專利申請公開No.H4-99192/1992)。但這種方法仍然存在這樣的危險鍍液會滲入粘結(jié)磁體,殘留其中,造成生銹。另一方面,對于結(jié)構(gòu)材料,在鍍鎳之前通常采用的觸擊電鍍銅,不是強(qiáng)堿性,就是強(qiáng)酸性,所以也不適合用于處理R-Fe-B粘結(jié)磁體。另外,為使電子元件具有耐磨性,而且作為一種汽車儀表板及類似部件的耐蝕性處理技術(shù),實(shí)用的NiP鍍屬高溫酸性溶液類,但這種方法不適合用于R-Fe-B粘結(jié)磁體,因?yàn)樗鼤斐纱朋w內(nèi)部的腐蝕。因此,為提供R-Fe-B粘結(jié)磁體及其制造方法,使得鍍液、清潔液等不能滲入并殘留在多孔性R-Fe-B粘結(jié)磁體中,并可高效形成鎳電鍍層或其他鍍層,并顯著提高其耐性,提供以下方法。(1)用樹脂和導(dǎo)電性粉末的混合物鍍覆R-Fe-B基粘結(jié)磁體表面以在基體材料表面上形成導(dǎo)電膜層的方法。(2)在R-Fe-B基粘結(jié)磁體表面形成具有粘附性的樹脂層,在其上粘結(jié)磁性粉末,并在基體材料表面形成導(dǎo)電膜層的方法(日本專利申請公開No.H5-302176/1993)。(3)用樹脂和導(dǎo)電粉末在R-Fe-B基粘結(jié)磁體表面形成導(dǎo)電膜層,然后進(jìn)行表面精整處理的方法(日本專利申請公開No.H9-186016/1997)。然而,在上述三種方法中,為密封基體材料的孔隙使用了各種不同的樹脂,因此會不可避免地造成工藝復(fù)雜化,包括不希望有的樹脂涂層(浸透)和硬化(精整處理)。另外,在用樹脂涂覆(浸透)基體材料的方法中,很難將樹脂均勻地涂在基體材料表面,而且即使隨后使用滾筒拋光,也難以得到具有優(yōu)異尺寸精確度的涂覆產(chǎn)品;而且,使用導(dǎo)電涂層時,樹脂層中包含有導(dǎo)電性物質(zhì)或金屬粉末,因此,即使粘結(jié)磁體表面涂有樹脂部分后會優(yōu)于R-Fe-B基粘結(jié)磁體的基體材料,在制造過程中在樹脂覆層表面仍然會有相當(dāng)多的暴露區(qū)域和低導(dǎo)電性的部分,因而難以獲得具有良好的均勻?qū)щ娦缘谋砻妫⑶以陔婂冞^程中易產(chǎn)生針孔。因此,本發(fā)明人提出一種方法采用拋光劑和植物來源的材料或表面已被無機(jī)粉末改性處理過的植物來源的材料的混合物做拋光介質(zhì),用干法進(jìn)行滾筒拋光技術(shù),將拋光劑粉末和粘結(jié)磁體拋光屑用植物來源的材料中的油性組分粘在粘結(jié)磁體的孔隙中,同時密封孔隙并精整其表面,并用堿性鍍液通過化學(xué)鍍銅形成導(dǎo)電層。然而,這種方法仍有一些問題,由于使用化學(xué)鍍銅,鍍液的使用壽命短;且為獲得好的鍍覆層,鍍液的控制難。另外,盡管這種方法的耐蝕性和尺寸精度優(yōu)于現(xiàn)有工藝,但如今需要更高的耐蝕性以適應(yīng)多種用途。本
      發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的之一是提供R-Fe-B粘結(jié)磁體,該磁體具有極高的耐蝕性,即使長時間進(jìn)行高溫高溫試驗(yàn)也不生銹。另一目的是提供一種生產(chǎn)方法,采用這種方法可在R-Fe-B粘結(jié)磁體上均勻地形成各種耐蝕性膜層,而且為得到高的耐蝕性,其粘附強(qiáng)度也極高。本發(fā)明的另一個目的是提供一種高耐蝕性R-Fe-B粘結(jié)磁體的制造方法,該方法包括在磁體表面形成高粘附強(qiáng)度和高尺寸精確性的耐蝕膜層的最佳工業(yè)生產(chǎn)步驟,以及防止在常規(guī)化學(xué)鍍方法中出現(xiàn)的鍍液和清潔液等滲入并殘留在多孔性R-Fe-B粘結(jié)磁體中的問題。本發(fā)明人認(rèn)為在為使R-Fe-B粘結(jié)磁體具有優(yōu)異耐蝕性和表面潔凈度的電鍍方法中,賦予基體材料表面極均勻的導(dǎo)電性至關(guān)重要,為此,對獲得上述導(dǎo)電膜層的方法進(jìn)行了各種研究。結(jié)果發(fā)現(xiàn)將R-Fe-B基粘結(jié)磁體用滾筒裝置進(jìn)行干法滾筒拋光,用所需尺寸、形狀不定的或球狀、或塊狀或針狀(線形)銅片做金屬介質(zhì),銅的磨碎的微細(xì)碎片會壓入粘結(jié)磁體的多孔性部分和樹脂表面,形成膜層,而且銅碎片也會包覆在磁性粉末表面,所以能在R-Fe-B粘結(jié)磁體表面形成一層極均勻的導(dǎo)電膜層,因此可進(jìn)行良好的電鍍,從而可得到具有優(yōu)異的耐蝕性和磁性能幾乎不劣化的帶電鍍層R-Fe-B基粘結(jié)磁體制品。本發(fā)明人還進(jìn)行了各種研究,以解決上述的粘結(jié)磁體表面光潔度問題。結(jié)果發(fā)現(xiàn)通過對多孔性R-Fe-B粘結(jié)磁體進(jìn)行干法滾筒拋光,用燒結(jié)Al2O3、SiC之類無機(jī)粉末制成的拋光劑和水果皮、玉米棒之類的植物來源的材料的混合物做拋光介質(zhì),或者,用上述拋光劑和表面已被上述無機(jī)粉末改性處理后的植物來源的材料的混合物做拋光介質(zhì),可以用植物來源的材料中的油性組分將構(gòu)成粘結(jié)磁體的磁性粉末的表面氧化層拋光屑、改性用無機(jī)粉末以及拋光劑粉末粘在磁體的多孔性部分,從而密封其孔隙,同時精整其表面。因此,干法滾筒拋光后可直接在磁體基體材料表面形成導(dǎo)電性膜層,從而得到具有良好表面光潔度和更優(yōu)異耐蝕性的R-Fe-B基粘結(jié)磁體。本發(fā)明人進(jìn)一步認(rèn)識到,除了上述的銅片外,在干法滾筒拋光中,其它材料也可用作金屬介質(zhì),即維氏硬度不超過80的Sn、Zn、Pb、Cd、In、Au和Ag,以及Fe、Ni、Co和Cr的軟金屬片。本發(fā)明人進(jìn)一步發(fā)現(xiàn)通過在滾筒裝置中進(jìn)行干法滾筒拋光,用形狀不定的鋁片做金屬介質(zhì),鋁磨碎的微細(xì)碎片會壓入粘結(jié)磁體表面的多孔性部分和樹脂表面,形成膜層,或者對在R-Fe-B粘結(jié)磁體表面,用類似涂敷在磁性粉末表面的鋁微細(xì)碎片形成的鋁膜層表面進(jìn)行鋅置換處理,這樣可防止電鍍過程中的鋁溢流(aluminumeffluence),保證良好的電鍍,從而得到具有優(yōu)異的耐蝕性和磁性能幾乎不劣化的帶電鍍層的R-Fe-B基粘結(jié)磁體制品。以上即完成了本發(fā)明。本發(fā)明最佳實(shí)施方式依據(jù)本發(fā)明,高耐蝕性R-Fe-B基粘結(jié)磁體的特征在于在其表面有一層由Cu、Sn、Zn、Pb、Cd、In、Au、Ag、Fe、Ni、Co、Cr和Al或其合金的金屬片形成的金屬覆層,上述金屬片壓入并涂覆在構(gòu)成R-Fe-B基粘結(jié)磁體表面的多孔性部分和樹脂表面,或者該覆層由涂在構(gòu)成所述表面的磁性粉末表面上的微細(xì)金屬碎片形成,并且在該中間金屬覆層上形成一電鍍層。依據(jù)本發(fā)明,高耐蝕性R-Fe-B基粘結(jié)磁體的特征還在于其表面有一層由上述金屬碎片壓入并涂覆在構(gòu)成R-Fe-B基粘結(jié)磁體表面的多孔性部分和樹脂表面而形成的金屬涂覆層,或者,在構(gòu)成R-Fe-B基粘結(jié)磁體表面的多孔性部分已被含有拋光劑粉末、粘結(jié)磁體拋光屑、以及無機(jī)粉末的植物來源的材料中的油性組分填充后,該覆層由涂覆在構(gòu)成所述表面的磁性粉末表面上的微細(xì)金屬碎片形成,并且在這層中間金屬覆層上形成一電鍍層。依據(jù)本發(fā)明,高耐蝕性R-Fe-B基粘結(jié)磁體的另一個特征是它具有一層鋁涂覆層,這層鋁涂覆層由微細(xì)鋁碎片壓入并涂覆在構(gòu)成所述表面的多孔性部分和樹脂表面而形成或由涂覆在構(gòu)成所述表面的磁性粉末表面上的微細(xì)鋁碎片而形成,該磁體表面具有一層由鋅置換處理而形成的鋅層,同樣在該中間金屬層上形成一電鍍層。本發(fā)明所考慮的R-Fe-B基粘結(jié)磁體指各向同性粘結(jié)磁體和各向異性粘結(jié)磁體,它們可由多種方法制得。例如,在模壓法中,先將熱固性樹脂、偶聯(lián)劑及潤滑劑加入并揉和在所需成分和性能的磁性粉末中,然后進(jìn)行模壓、加熱、樹脂固化;在注塑法、擠出模塑法或滾壓模塑法(rollingmolding)中,先將熱固性樹脂、偶聯(lián)劑及潤滑劑加入并揉和在磁性粉末中,然后進(jìn)行注塑、擠出模塑或滾壓模塑。對于R-Fe-B磁性粉末,不論是各向同性粉末還是各向異性粉末,均可使用,它們由下述任何一種方法制得,包括熔化粉碎法(所需的R-Fe-B合金熔化、鑄造、接著磨碎)、直接還原擴(kuò)散法(通過Ca還原直接獲得粉末)、合金快速冷卻法(所需的R-Fe-B合金熔化、用射流鑄造法制造箔帶、接著將箔帶粉碎并退火)、氣霧法(所需的R-Fe-B合金熔化、用氣霧法制成粉末并熱處理)、機(jī)械合金化法(將所需的金屬原材料制成粉,接著用機(jī)械合金化法制成細(xì)粉并熱處理,或者HDDR法(所需R-Fe-B合金在氫氣中加熱,使其粉碎并再結(jié)晶)。本發(fā)明中,R-Fe-B粘結(jié)磁體中稀土元素R的總量為組成的10at%~30at%,但優(yōu)選至少含有Nd、Pr、Dy、Ho和Tb元素中的一種,或者還至少含有La、Ce、Sm、Gd、Er、Eu、Tm、Yb、Lu和Y元素中的一種。通常一種稀土元素就可滿足要求,但在實(shí)際中,由于兩種或多種以上稀土元素的混合物易于得到(如混合稀土合金或鐠釹混合物),也可以使用這些混合物,此處R不必是一種純稀土元素,另外,考慮到在工業(yè)上的可行性,例如含有制造過程中不可避免的雜質(zhì),也可方便地使用。稀土R在上述磁體粉末中是不可缺少的元素。稀土含量少于10at%,磁體的晶體結(jié)構(gòu)會變成同α-Fe一樣的立方晶體,因而不能得到高的磁性能,特別是高的矯頑力;而另一方面,如果稀土含量超過30at%,會形成許多富R的非磁性相,使得剩余磁通密度(Br)降低,無法得到具有優(yōu)異性能的磁體。因此,稀土的含量應(yīng)為10at%~30at%。B也是上述磁體粉末中的必要元素。如果B含量少于2at%,磁體中菱方結(jié)構(gòu)將成為主要相,這樣不能得到高的矯頑力(iHc);而另一方面,如果B含量高于28at%,會形成許多富B的非磁性相,使得剩余磁通密度(Br)降低,無法得到優(yōu)異的磁體。因此,B含量應(yīng)為2at%~28at%。Fe也是上述磁體中的必要元素。Fe含量少于65at%,剩余磁通密度(Br)會降低;而Fe含量超過80at%,無法得到高的矯頑力。因此,F(xiàn)e含量應(yīng)為65at%~80at%。以Co取代部分Fe,能在不損害磁體磁性能的同時提高其溫度特性,然而,Co替代Fe的量超過20%,磁性能反而會下降,這是不希望發(fā)生的。當(dāng)Co的替代量是Fe、Co總量的5at%~15at%時,同不替代相比,Br會升高,因此這對于獲得高的磁通密度是合適的。另外,除R、B和Fe外,工業(yè)生產(chǎn)中不可避免地存在著的雜質(zhì)是允許的,例如,以下組中至少一種元素替代部分B能提高磁體的可生產(chǎn)性并降低其成本,該組元素為C(4.0wt%或更低)、P(2.0wt%或更低)、S(2.0wt%或更低)和Cu(2.0wt%或更低),但其總量為2.0wt%或更低。在磁性粉末中還可加入Al、Ti、V、Cr、Mn、Bi、Nb、Ta、Mo、W、Sb、Ge、Ga、Sn、Zr、Ni、Si、Zn和Hf中的至少一種元素,能提高矯頑力,提高磁滯回線的矩形比,提高其可制造性或降低其成本,以上元素的加入量上限應(yīng)在下述范圍內(nèi)該范圍能滿足得到粘結(jié)磁體(BH)max和(Br)期望值所需的各種條件。另外,在本發(fā)明中,注塑法使用的粘結(jié)劑可以是如6PA、12PA、PPS、PBT或EVA之類的樹脂,在擠出模塑法、壓延法(calendarrolling)或滾壓模塑法中,粘結(jié)劑可以是PVC、NBR、CPE、NR或Hyperon等,而在模壓中可使用的粘結(jié)劑有環(huán)氧樹脂、DAP或酚醛樹脂等,必要的話,可使用公知的金屬粘結(jié)劑,也可使用其它的輔助添加劑,例如協(xié)助模塑的潤滑劑、樹脂和無機(jī)填料用的粘結(jié)劑及硅烷基或鈦基的偶聯(lián)劑。本發(fā)明中,在密封和精整處理時,滾筒拋光用的介質(zhì)是拋光劑和植物來源的材料的混合物,該拋光劑例如是Al2O3、SiC等燒結(jié)無機(jī)粉末之類的陶瓷材料或金屬球,該植物來源的材料例如是植物殼、木屑、果皮、或玉米棒子,所述拋光用介質(zhì)或者是上述拋光劑與表面已被上述Al2O3、SiC等無機(jī)粉末改性后的上述植物來源的材料的混合物,使用上述混合物作拋光介質(zhì)進(jìn)行滾筒拋光,可以對粘結(jié)磁體進(jìn)行精整和密封處理。對于本發(fā)明中為實(shí)現(xiàn)密封和精整處理并在粘結(jié)磁體表面形成金屬層的干法滾筒拋光,可使用公知的滾筒,如常用的轉(zhuǎn)速為20~50rpm的旋轉(zhuǎn)式滾筒,轉(zhuǎn)速為70~200rpm的離心式滾筒,或者采用振幅大于等于0.5mm,但不超過50mm的振動式滾筒方法。另外,通常滾筒拋光時的氣氛是空氣,但是為防止磁體在滾筒拋光過程中因摩擦生熱而產(chǎn)生氧化(這決定于介質(zhì)種類),可使用N2、Ar、He氣之類的惰性氣氛,單獨(dú)使用或混合使用。本發(fā)明中,當(dāng)采用旋轉(zhuǎn)式滾筒或振動式滾筒進(jìn)行密封和精整處理時,如果裝入滾筒中的粘結(jié)磁體、拋光劑和植物來源的材料總量少于20%,處理數(shù)量太少不適合實(shí)際使用;而超過90%,會產(chǎn)生攪拌不足而且不能進(jìn)行足夠的拋光,因此其加入量應(yīng)是內(nèi)部容積的20%~90%。本發(fā)明中,對密封和精整處理時使用的拋光介質(zhì)沒有特定的限制,然而,拋光介質(zhì)混合物中拋光劑的顆粒尺寸應(yīng)為1~7mm,優(yōu)選3~5mm左右,而且植物來源的材料的長度應(yīng)為0.5~3mm,優(yōu)選1~2mm左右,或者所述拋光介質(zhì)是使用上述拋光劑和上述其表面已被無機(jī)粉末改性后植物來源的材料的混合物,磁體和拋光介質(zhì)混合物應(yīng)攪拌均勻,保證它們之間產(chǎn)生相對移動。對于上述表面已被無機(jī)粉末改性處理后的植物來源的材料,使用的植物來源的材料的油性組分如蠟通過捏和在其表面均勻地覆蓋了一層顆粒尺寸為0.01~3μm的Al2O3、SiC、ZrO或MgO無機(jī)粉末。上述作為密封層的拋光劑粉末、改性處理植物來源的材料表面的無機(jī)粉末以及粘結(jié)磁體的拋光屑粒度應(yīng)為0.01~3μm。拋光介質(zhì)中,植物來源的材料與拋光劑之比(植物來源的材料/磨料)必須在1/5~2之間,優(yōu)選比例為1,粘結(jié)磁體和拋光劑的混合比例(粘結(jié)磁體/介質(zhì))可以是3或更低。本發(fā)明中,上述拋光劑的作用在于有效地磨去磁體的表面氧化層,精整其表面并撞擊和硬化由拋光劑粉末、用于改性植物來源的材料表面的無機(jī)粉末以及粘結(jié)磁體拋光屑組成的密封材料,上述植物來源的材料的作用在于通過有效地放出其油性組分從而增強(qiáng)密封材料的粘結(jié)強(qiáng)度。本發(fā)明中,表面精整處理后,可將粘結(jié)磁體的孔隙降低至3%或更低,也可以不僅僅對粘結(jié)磁體表面進(jìn)行精整密封處理,而且也去除磁體的表面氧化層,從而得到活性的R-Fe-B磁體粉末表面。本發(fā)明中,可使用任何公知的滾筒裝置,不論是旋轉(zhuǎn)式、振動式或離心式等利用金屬片進(jìn)行干法滾筒拋光,可使用不定形狀的金屬片,不論是球形、塊形或針形(線形)等。至于金屬片的尺寸,若小于0.1mm,則為充分壓入并形成涂覆層需要過多的時間,因此是不切實(shí)際的;而尺寸超過10mm,其表面的不規(guī)則性加大,使用這種金屬片不可能覆蓋磁體的全部表面,所以金屬片的尺寸應(yīng)為0.1~10mm,優(yōu)選0.3~5mm,最好0.5~3mm。另外,本發(fā)明中,裝入干法滾筒中的金屬片不必是同樣的形狀或尺寸,可以是多種形狀和尺寸的混合,將微細(xì)金屬粉末同形狀不定的金屬片混合使用也是允許的。另外,這些金屬片可以只是所述金屬或是一種合金或是一種銅復(fù)合金屬,其銅心部為鐵、鎳或鋁等之類的不同金屬覆蓋。也需要使干法滾筒拋光中的裝載比率,即磁體與金屬片的體積比(磁體/金屬)為3或更低,當(dāng)這個比率超過3,為使金屬微細(xì)碎片壓入磁體并形成涂覆層所需時間太長,不適于實(shí)際使用,而且磁性粉末顆粒也會在粘結(jié)磁體表面產(chǎn)生松動。裝入滾筒拋光機(jī)械中粘結(jié)磁體和金屬片的數(shù)量優(yōu)選為拋光機(jī)內(nèi)部容積的20%~90%,低于20%,處理數(shù)量太少,不適合實(shí)際使用;而超過90%,會產(chǎn)生攪拌不足,不能完成充分的拋光。壓入并形成涂覆層的微細(xì)金屬碎片為粉狀或針狀,當(dāng)其長度尺寸超過5μm,這種碎片同磁體表面的粘結(jié)性差,會引起電鍍過程中的粘結(jié)缺陷和剝落等問題,因此,其長度應(yīng)不超過5μm,優(yōu)選不超過2μm。本發(fā)明中,至于微細(xì)金屬碎片的壓入并形成涂覆層,微細(xì)金屬碎片是壓入并涂覆在粘結(jié)磁體表面的軟樹脂表面及多孔性部分,并涂覆在粘結(jié)磁體表面的磁性粉末表面,靠近表面處,壓入樹脂表面和多孔性部分的微細(xì)金屬碎片數(shù)量大,而樹脂層內(nèi)部處的壓入數(shù)量逐漸減小。本發(fā)明中,金屬碎片在樹脂表面和多孔性部分的壓入層厚度應(yīng)為0.1μm或更大,但不能超過2μm。低于0.1μm,不能得到足夠的導(dǎo)電性,而超過2μm,盡管性能上沒有問題,但需要的時間長,不適合實(shí)際運(yùn)行。在粘結(jié)磁體表面的磁性粉末表面的金屬涂覆層厚度應(yīng)為0.2μm或更低,因?yàn)榇判苑勰┍砻媾c微細(xì)金屬碎片之間的反應(yīng)屬于一種機(jī)械化學(xué)作用,如果厚度超過0.2μm,會使粘結(jié)性能降低。本發(fā)明中干法滾筒拋光的轉(zhuǎn)速對于旋轉(zhuǎn)滾筒應(yīng)為20~50rpm,對于離心滾筒應(yīng)為70~200rpm,而在振幅為0.3~10mm的振動滾筒拋光中,振動頻率應(yīng)為50~100Hz。本發(fā)明中,當(dāng)使用滾筒拋光方法在磁體表面形成微細(xì)金屬碎片的壓入涂覆層時,滾筒拋光的氣氛可以是空氣。但是考慮到磨碎的微細(xì)金屬碎片、磁體表面的磁性粉末,以及用作介質(zhì)的不定形狀的金屬片之間的摩擦生熱會引起氧化,使得導(dǎo)電性下降,不能進(jìn)行均勻的電鍍,從而引起耐蝕性的下降。因此,滾筒拋光方法中優(yōu)選的氣氛為惰性氣體或不活潑氣體以及這類氣體的混合,如N2、Ar或He。本發(fā)明中,表面鋁覆層要進(jìn)行鋅置換處理以防止隨后電鍍過程中的鋁溢流。在鋅置換處理中使用的溶液含氧化鋅、氫氧化鈉、三氯化鐵或Rossel鹽等。處理時浸入浴液中,浴液溫度為10~25℃,處理時間為10~120秒。在鋅置換過程中,工藝順序應(yīng)為清洗→鋅置換→清洗。如果鋁覆層表面存在污染物或其他粘著材料,清洗過程應(yīng)在碳酸鈉和三磷酸鈉溶液中進(jìn)行浸泡除油。形成鋅置換層時,其最表面層應(yīng)為ZnOx(x=0~1)形式,形成鋅層的厚度為0.1μm或更低。如果這層鋅層的厚度超過0.1μm,會引起粘結(jié)缺陷,所以應(yīng)當(dāng)避免這樣。本發(fā)明中,電鍍方法應(yīng)含有選自Ni、Cu、Sn、Co、Zn、Cr、Ag、Au、Pb和Pt或者其含有B、S或P的合金中的至少一種金屬,電鍍鎳尤其能滿足要求,電鍍層厚度應(yīng)為50μm或更低,優(yōu)選10~30μm。本發(fā)明中可使用常用的watt槽進(jìn)行電鍍,以有效地利用上述在樹脂表面和多孔性部分中形成的微細(xì)金屬碎片壓入涂覆層,從而得到優(yōu)異的粘結(jié)性能和耐蝕性。具體講,在使用鎳鍍液進(jìn)行的電鍍方法中,工藝步驟順序應(yīng)為清洗→電鍍鎳→清洗→烘干,鍍鎳液的pH值應(yīng)使用堿性碳酸鎳調(diào)整至4.0~4.6,而且處理溫度應(yīng)為50~60℃。在電鍍鎳中,應(yīng)使用上述電鍍液引入規(guī)定的電流,用電解鎳板作陽極,電鍍鎳時應(yīng)使鎳陽極板的鎳穩(wěn)定地進(jìn)行沉積,可以在電極中使用含硫的Estland鎳片,在用鎳電鍍液的電鍍方法中,工藝順序應(yīng)為清洗→電鍍→清洗→烘干,其中,烘干優(yōu)選在70℃或更高溫度下進(jìn)行??梢允褂酶鞣N不同的電鍍槽,這決定于粘結(jié)磁體的形狀,對于環(huán)形粘結(jié)磁體,優(yōu)選使用吊架式(rackplating)電鍍方法或滾筒電鍍方法。使用直徑為1mm、長1mm的短棒形銅棒,將上述粘結(jié)磁體放入振動式滾筒中進(jìn)行干法滾筒拋光,以在粘結(jié)磁體表面形成由微細(xì)銅碎片構(gòu)成的導(dǎo)電層,樹脂表面上銅碎片的壓入覆膜層厚度約為0.7μm,磁性粉末表面的膜層厚度為0.1μm。滾筒拋光處理的條件如下氣氛為氬氣,裝入50個粘結(jié)磁體(松裝體積為0.15升,重100g)和上述尺寸的銅碎片(松裝體積為2升,重10kg),振動滾筒容積為3.5升,振動頻率70Hz,振幅3mm,總體積裝入量為滾筒內(nèi)部容積的60%,處理時間為3小時。接著進(jìn)行清洗,并用吊架式電鍍裝置進(jìn)行電鍍鎳,電鍍后內(nèi)徑處鍍膜厚度20μm,外徑處為22μm。將這樣處理后的環(huán)形粘結(jié)磁體進(jìn)行環(huán)境試驗(yàn)(耐潮性試驗(yàn)),溫度80℃,相對濕度90%,試驗(yàn)時間500小時。耐潮性試驗(yàn)后,磁體的性能見表1,耐潮性試驗(yàn)時的表面狀態(tài)和膜層厚度尺寸精確度見表2。電鍍鎳條件如下電流密度2A/dm2,電鍍時間60分鐘,電鍍液pH值為4.2,溫度為55℃。電鍍液成分為240g/l硫酸鎳,45g/l氯化鎳,滴定碳酸鎳(用以調(diào)整pH值)和30g/l硼酸。對比例1清洗用與實(shí)施例1同樣的方法得到的環(huán)形粘結(jié)磁體,之后對其進(jìn)行化學(xué)鍍銅,鍍層厚度5μm,然后在與實(shí)施例1相同的條件下電鍍鎳,將這樣處理后的環(huán)形粘結(jié)磁體進(jìn)行環(huán)境試驗(yàn),溫度80℃,相對濕度90%,試驗(yàn)時間500小時。結(jié)果見表1~3?;瘜W(xué)鍍銅條件如下鍍覆時間20分鐘,鍍液pH值為11.5,鍍液溫度為20℃。鍍液成分為29g/l硫酸銅、25g/l碳酸鈉、140g/l酒石酸鹽、40g/l氫氧化鈉和150ml濃度為37%的甲醛。對比例2清洗用與實(shí)施例1同樣的方法得到的環(huán)形粘結(jié)磁體,之后用混有鎳粉的酚醛樹脂形成10μm厚的導(dǎo)電膜,然后在與實(shí)施例1相同的條件下電鍍鎳,將這樣處理后的環(huán)形粘結(jié)磁體進(jìn)行環(huán)境試驗(yàn)(耐潮性試驗(yàn)),溫度80℃,相對濕度90%,試驗(yàn)時間500小時。結(jié)果見表1~3。導(dǎo)電膜層的形成條件如下處理時間30分鐘,處理溶液成分為5wt%的酚醛樹脂,5wt%的鎳粉(粒度0.7μm或更低)及90wt%的MEK(丁酮)。對比例3清洗用與實(shí)施例1同樣的方法得到的環(huán)形粘結(jié)磁體,之后通過浸漬方法用酚醛樹脂在磁體上預(yù)形成一層粘結(jié)層,接著在其表面粘附銀粉(粒度0.7μm或更低),之后用振動式滾筒形成7μm厚的導(dǎo)電膜層,振動滾筒處理后在與實(shí)施例1相同的條件下電鍍鎳,將這樣處理后的環(huán)形粘結(jié)磁體進(jìn)行環(huán)境試驗(yàn)(耐潮性試驗(yàn)),溫度80℃,相對濕度90%,試驗(yàn)時間500小時。結(jié)果見表1~3。振動式滾筒處理的條件如下振動滾筒容積為3.5升,裝入50個粘結(jié)磁體,處理時間3小時,采用直徑為2.5mm、松裝體積為2升的鋼球作為介質(zhì)。從表1和表2可明顯看出對比例1在100小時后、對比例2在300小時后、對比例3在約350小時后均出現(xiàn)斑點(diǎn)銹蝕;而相反,對于實(shí)施例1,即使經(jīng)過500小時,在30倍顯微鏡下也沒有出現(xiàn)斑點(diǎn)銹蝕。表1<tablesid="table1"num="001"><table>耐潮性試驗(yàn)前耐潮性試驗(yàn)后磁性能降低比率(%)Br(kG)iHc(kOe)(BH)max(MGOe)Br(kG)iHc(kOe)(BH)max(MGOe)Br(kG)iHc(BH)max(MGOe)實(shí)施例16.68.99.06.58.78.83.02.22.2對比例16.48.78.85.77.77.614.915.615.5對比例26.48.99.06.38.58.56.34.45.5對比例36.48.99.06.38.58.56.34.45.5</table></tables>磁性能降低比率(%)=[{(起始磁性能)-(耐潮性試驗(yàn)后磁性能)}/(起始磁性能)]×100表2<tablesid="table2"num="002"><table>一定耐潮性試驗(yàn)時間后的表面狀態(tài)膜層厚度尺寸精確度(μm)制造方法實(shí)施例1無變化(無銹蝕)20±1Cu膜層+Ni鍍層對比例1100h后出現(xiàn)點(diǎn)腐蝕25±2化學(xué)鍍Cu鍍層+Ni鍍層對比例2300h后出現(xiàn)微小點(diǎn)腐蝕30±10樹脂導(dǎo)電層+Ni鍍層對比例3350h后出現(xiàn)微小點(diǎn)腐蝕27±10導(dǎo)電涂層+Ni鍍層</table></tables>實(shí)施例2使用的合金粉末平均粒度為150μm,成分為12at%Nd、77at%Fe、6at%B和5at%Co,用超高冷速方法制成,加入2wt%的環(huán)氧樹脂,揉和在一起,并在7噸/cm2的壓力下用壓制成形,接著在170℃溫度固化1小時,以生產(chǎn)出環(huán)形粘結(jié)磁體,其外徑26mm,內(nèi)徑24mm,高5mm,這樣得到的粘結(jié)磁體性能如下Br=6.8kG,iHc=9.1kOe,(BH)max=9.2MGOe。將100個這樣的磁體(200g)同平均直徑為3mm的Al2O3基球形滾筒磨料放入容積為20升的振動式滾筒中,裝入占滾筒容積50%的植物來源的材料,植物來源的材料為表面已被粒度約1μm的Al2O3粉末改性處理過的、直徑約1mm的胡桃仁,然后進(jìn)行120分鐘的干法表面拋光,振幅為20mm,以密封磁體空隙并精整處理。接著,將粘結(jié)磁體裝入振動式滾筒中進(jìn)行干法滾筒拋光,振動頻率70Hz,振幅3mm,氣氛為氬氣,用直徑為1mm、長1mm的短棒形銅棒在粘結(jié)磁體表面形成由微細(xì)銅碎片構(gòu)成的導(dǎo)電層,微細(xì)銅碎片壓入樹脂表面和多孔性部分的深度約為0.7μm,磁性粉末表面的膜層厚度為0.1μm。滾筒拋光處理的條件如下裝入50個粘結(jié)磁體(松裝體積為0.15升,重100g)和上述尺寸的銅碎片(松裝體積為2升,重10kg),振動滾筒容積為3.5升,處理時間為3小時,振幅20mm,總體積裝入量為滾筒內(nèi)部容積的60%。接著進(jìn)行清洗,并用吊架式電鍍裝置進(jìn)行電鍍鎳,電鍍后內(nèi)徑處鍍膜厚度21μm,外徑處為23μm。將這樣處理后的環(huán)形粘結(jié)磁體進(jìn)行環(huán)境試驗(yàn)(耐潮性試驗(yàn)),溫度80℃,相對濕度90%,試驗(yàn)時間800小時。耐潮性試驗(yàn)后,磁體的性能見表3,一定耐潮性試驗(yàn)時間后的表面狀態(tài)和膜層厚度尺寸精確度見表4。電鍍鎳條件如下電流密度2A/dm2,電鍍時間60分鐘,電鍍液pH值為4.2,溫度為55℃。電鍍液成分為240g/l硫酸鎳,45g/l氯化鎳,滴定碳酸鎳(用以調(diào)整pH值)和30g/l硼酸。對比例4清洗用與實(shí)施例2同樣的方法得到的環(huán)形粘結(jié)磁體,之后進(jìn)行與實(shí)施例2同樣的密封和表面精整處理,再次清洗,然后對其進(jìn)行化學(xué)鍍銅,鍍層厚度5μm。化學(xué)鍍銅后在與實(shí)施例2相同的條件下電鍍鎳,將這樣處理后的環(huán)形粘結(jié)磁體在與實(shí)施例2相同的條件下進(jìn)行環(huán)境試驗(yàn)(耐潮性試驗(yàn)),測量試驗(yàn)結(jié)果及膜層厚度尺寸精確度(耐潮性試驗(yàn)),結(jié)果見表3和表4。化學(xué)鍍銅條件如下鍍覆時間20分鐘,鍍液州值為11.5,溫度為20℃。鍍液成分為29g/l硫酸銅、25g/1碳酸鈉、140g/1酒石酸鹽、40g/l氫氧化鈉和150ml濃度為37%的甲醛。對比例5清洗用與實(shí)施例2同樣的方法得到的環(huán)形粘結(jié)磁體,之后用酚醛樹脂和鎳粉的混合物在下述條件下在磁體表面形成10μm厚的導(dǎo)電樹脂膜,然后在振動式滾筒中裝入占其容積60%的磁體和5mm銅球,在振幅為20mm條件下進(jìn)行60分鐘的滾筒拋光以精整并拋光。然后在與實(shí)施例2相同的條件下電鍍鎳,將這樣處理后的環(huán)形粘結(jié)磁體在與實(shí)施例2相同的條件下進(jìn)行環(huán)境試驗(yàn)(耐潮性試驗(yàn)),測量試驗(yàn)結(jié)果及膜層厚度尺寸精確度(耐潮性試驗(yàn)),結(jié)果見表3和表4。導(dǎo)電涂覆層的形成條件如下處理時間30分鐘,處理溶液成分為5wt%的酚醛樹脂,5wt%的鎳粉(粒度0.7μm或更低)及90wt%的MEK(丁酮)。從表4可看出對比例4在700小時后、對比例5在600小時后均出現(xiàn)斑點(diǎn)銹蝕而另一方面,對于實(shí)施例2,即使經(jīng)過800小時,在30倍顯微鏡下也沒有出現(xiàn)斑點(diǎn)銹蝕。表3<tablesid="table3"num="003"><table>耐潮性試驗(yàn)前耐潮性試驗(yàn)后磁性能降低比率(%)Br(kG)iHc(kOe)(BH)max(MG0e)Br(kG)iHc(kOe)(BH)max(MGOe)Br(kG)iHc(kOe)(BH)max(MGOe)實(shí)施例26.79.09.16.58.78.74.44.45.4對比例46.78.99.16.38.58.37.46.69.8對比例56.79.09.16.38.78.27.47.710.9</table></tables>磁性能降低比率(%)=[{f(起始磁性能)-(耐潮性試驗(yàn)后磁性能)}/(起始磁性能)]×100表4<tablesid="table4"num="004"><table>一定耐潮性試驗(yàn)時間后的表面狀態(tài)膜層厚度尺寸精確度(μm)制造方法實(shí)施例2無變化(無銹蝕)22±1密封處理+Cu膜層+Ni鍍層對比例4700h后出現(xiàn)點(diǎn)腐蝕25±2密封處理+化學(xué)鍍Cu+Ni鍍層對比例5600h后出現(xiàn)點(diǎn)腐蝕28±5樹脂導(dǎo)電層+精整Ni鍍層</table></tables>實(shí)施例3用與實(shí)施例1相同的方法制造25mm(外徑)×23mm(內(nèi)徑)×3mm(高)的環(huán)形粘結(jié)磁體,其性能如下Br=6.9kG,iHc=9.1kOe,(BH)max=9.3MGOe。將上述粘結(jié)磁體放入振動式滾筒中進(jìn)行干法滾筒拋光,使用直徑為2mm、長1mm的短棒形錫棒在粘結(jié)磁體表面形成由微細(xì)錫碎片構(gòu)成的導(dǎo)電層,樹脂表面上錫碎片的壓入厚度約為0.9μm,磁性粉末表面的涂層厚度為0.4μm。滾筒拋光處理時的條件同實(shí)施例1.接著進(jìn)行清洗,并用吊架式電鍍裝置進(jìn)行電鍍銅,然后進(jìn)行電鍍鎳,電鍍后內(nèi)徑處鍍膜厚度22μm,外徑處為23μm。將這樣處理后的環(huán)形粘結(jié)磁體進(jìn)行環(huán)境試驗(yàn)(耐潮性試驗(yàn)),溫度80℃,相對濕度90%,試驗(yàn)時間500小時。耐潮性試驗(yàn)后,磁體的性能見表5,一定耐潮性試驗(yàn)時間后的表面狀態(tài)和膜層厚度尺寸精確度見表6。電鍍銅條件如下電流密度2.5A/dm2,電鍍時間5小時,電鍍液pH值為10,溫度為40℃。電鍍液成分為20g/l銅,10g/l游離氰。電鍍鎳條件同實(shí)施例1。接著在與實(shí)施例3同樣的條件下電鍍銅和鎳,將這樣處理后的環(huán)形粘結(jié)磁體進(jìn)行環(huán)境試驗(yàn)(耐潮性試驗(yàn)),溫度80℃,相對濕度90%,試驗(yàn)時間500小時。耐潮性試驗(yàn)后,磁體的性能見表5,耐潮性試驗(yàn)后的表面狀態(tài)和膜層厚度尺寸精確度見表6。接著在與實(shí)施例3同樣的條件下電鍍銅和鎳,將這樣處理后的環(huán)形粘結(jié)磁體進(jìn)行環(huán)境試驗(yàn)(耐潮性試驗(yàn)),溫度80℃,相對濕度90%,試驗(yàn)時間500小時。耐潮性試驗(yàn)后,磁體的性能見表5,耐潮性試驗(yàn)后的表面狀態(tài)和膜層厚度尺寸精確度見表6。對比例6清洗用實(shí)施例3同樣的方法制成的環(huán)形粘結(jié)磁體,對其進(jìn)行化學(xué)鍍銅,鍍層厚5μm。化學(xué)鍍銅后,在與實(shí)施例3同樣的條件下電鍍銅和鎳,將這樣處理后的環(huán)形粘結(jié)磁體進(jìn)行環(huán)境試驗(yàn)(耐潮性試驗(yàn)),溫度80℃,相對濕度90%,試驗(yàn)時間500小時。耐潮性試驗(yàn)后,磁體的性能見表5,耐潮性試驗(yàn)后的表面狀態(tài)和膜層厚度尺寸精確度見表6。化學(xué)鍍銅工藝條件同對比例1。對比例7清洗用實(shí)施例3同樣的方法制成的環(huán)形粘結(jié)磁體,用酚醛樹脂和鎳粉的混合物在其表面形成10μm厚的導(dǎo)電膜層,然后在與實(shí)施例3同樣的條件下電鍍銅和鎳,將這樣處理后的環(huán)形粘結(jié)磁體進(jìn)行環(huán)境試驗(yàn)(耐潮性試驗(yàn)),溫度80℃,相對濕度90%,試驗(yàn)時間500小時。耐潮性試驗(yàn)后,磁體的性能見表5,耐潮性試驗(yàn)后的表面狀態(tài)和膜層厚度尺寸精確度見表6?;瘜W(xué)鍍銅工藝條件同對比例2。對比例8清洗用實(shí)施例3同樣的方法制成的環(huán)形粘結(jié)磁體,通過浸漬方法在其表面形成一層酚醛樹脂粘結(jié)層,接著在其表面粘附銀粉(粒度0.7μm或更低),之后用振動式滾筒形成7μm厚的導(dǎo)電膜層,然后在與實(shí)施例3同樣的條件下電鍍銅和鎳。將這樣處理后的環(huán)形粘結(jié)磁體進(jìn)行環(huán)境試驗(yàn)(耐潮性試驗(yàn)),溫度80℃,相對濕度90%,試驗(yàn)時間500小時。耐潮性試驗(yàn)后,磁體的性能見表5,耐潮性試驗(yàn)后的表面狀態(tài)和膜層厚度尺寸精確度見表6。化學(xué)鍍銅工藝條件同對比例3。表5磁性能降低比率(%)=[{(起始磁性能)-(耐潮性試驗(yàn)后磁性能)}/(起始磁性能)]×100表6<tablesid="table5"num="006"><table>一定耐潮性試驗(yàn)時間后的表面狀態(tài)膜層厚度尺寸精確度(μm)制造方法實(shí)施例3無變化(無銹蝕)22±1Sn涂覆層+Cu,Ni鍍層實(shí)施例4無變化(無銹蝕)22±1Zn涂覆層+Cu,Ni鍍層實(shí)施例5無變化(無銹蝕)22±1Pb涂覆層+Cu,Ni鍍層對比例6130h后出現(xiàn)點(diǎn)腐蝕26±2化學(xué)鍍銅層+Cu,Ni鍍層對比例7250h后出現(xiàn)少量銹蝕32±9樹脂導(dǎo)電層+Cu,Ni鍍層對比例8330h后出現(xiàn)少量銹蝕28±10導(dǎo)電膜層+Cu,Ni鍍層</table></tables>從表5~6中可見對比例6在約130小時后、對比例7在250小時后、對比例8在330小時后發(fā)生點(diǎn)銹蝕;相反,實(shí)施例3在500小時后30倍顯微鏡下也觀察不到點(diǎn)銹蝕。將上述粘結(jié)磁體放入振動式滾筒中用平均直徑為3mm的Al2O3球形滾筒磨料進(jìn)行密封和精整處理。其工藝條件和使用方法同實(shí)施例2。接著將上述粘結(jié)磁體放入振動式滾筒中進(jìn)行干法滾筒拋光,使用直徑為1mm、長1mm的短棒形錫、鋅及鉛棒在粘結(jié)磁體表面形成由微細(xì)金屬碎片構(gòu)成的導(dǎo)電層,樹脂表面上和多孔性部分的微細(xì)金屬碎片壓入深度及磁性粉末表面的涂覆層厚度見表7。滾筒拋光處理時的條件同實(shí)施例2。接著進(jìn)行清洗,并用吊架式電鍍裝置進(jìn)行電鍍銅,然后進(jìn)行電鍍鎳,電鍍后內(nèi)徑處鍍膜厚度21μm,外徑處為22μm。將這樣處理后的環(huán)形粘結(jié)磁體進(jìn)行環(huán)境試驗(yàn)(耐潮性試驗(yàn)),溫度80℃,相對濕度90%,試驗(yàn)時間1000小時。其試驗(yàn)結(jié)果及膜層厚度尺寸精確度見表8和表9。電鍍銅和鎳時的工藝條件同實(shí)施例2。對比例9清洗用與實(shí)施例6同樣的方法得到的環(huán)形粘結(jié)磁體,之后進(jìn)行與實(shí)施例6同樣的密封和表面精整處理,再次清洗,然后對其進(jìn)行化學(xué)鍍銅,鍍層厚度5μm?;瘜W(xué)鍍銅后在與實(shí)施例6相同的條件下進(jìn)行鍍銅和鍍鎳。將這樣處理后的環(huán)形粘結(jié)磁體在與實(shí)施例6相同的條件下進(jìn)行環(huán)境試驗(yàn)(耐潮性試驗(yàn)),耐潮性試驗(yàn)前及試驗(yàn)后的磁性能見表8,耐潮性試驗(yàn)后的表面狀況及膜層厚度尺寸精確度見表9?;瘜W(xué)鍍銅的工藝條件同對比例4。對比例10清洗用與實(shí)施例6同樣的方法得到的環(huán)形粘結(jié)磁體,之后用酚醛樹脂和鎳粉的混合物在磁體表面形成10μm厚的導(dǎo)電樹脂涂覆層,然后在振動式滾筒中裝入占其容積60%的磁體和5mm鋼球,在振幅為20mm條件下進(jìn)行60分鐘的滾筒拋光以精整并拋光。然后在與實(shí)施例6相同的條件下電鍍銅和電鍍鎳,將這樣處理后的環(huán)形粘結(jié)磁體在與實(shí)施例6相同的條件下進(jìn)行環(huán)境試驗(yàn)(耐潮性試驗(yàn)),其試驗(yàn)結(jié)果及膜層厚度尺寸精確度見表8和表9。導(dǎo)電涂覆層處理?xiàng)l件同對比例5。表7<tablesid="table6"num="007"><table>金屬碎片樹脂表面及多孔性部分處的壓入深度(μm)磁性粉末表面的涂覆厚度(μm)Sn0.90.4Zn0.70.3Pb0.90.5</table></tables>表8<tablesid="table7"num="008"><table>耐潮性試驗(yàn)前耐潮性試驗(yàn)后磁性能降低比率(%)Br(kG)iHc(kOe)(BH)max(MGOe)Br(kG)iHc(kOe)(BH)max(MGOe)Br(kG)iHc(kOe)(BH)max(MGOe)實(shí)施例6Sn6.69.09.06.48.68.64.55.55.5實(shí)施例6Zn6.69.09.06.38.68.66.05.55.5實(shí)施例6Pb6.69.09.06.38.58.56.06.66.6對比例96.68.99.06.28.48.37.57.78.8對比例106.69.09.06.08.28.110.49.911.0</table></tables>磁性能降低比率(%)=[{(起始磁性能)-(耐潮性試驗(yàn)后磁性能)}/(起始磁性能)]×100表9<tablesid="table8"num="009"><table>耐潮性試驗(yàn)后的表面狀態(tài)膜層厚度尺寸精確度(μm)制造方法實(shí)施例6Sn無變化(無銹蝕)22±1密封處理+Sn膜層+Cu,Ni鍍層實(shí)施例6Zn無變化(無銹蝕)22±1密封處理+Zn膜層+Cu,Ni鍍層實(shí)施例6Pb無變化(無銹蝕)22±1密封處理+Pb膜層+Cu,Ni鍍層對比例9800h后出現(xiàn)點(diǎn)腐蝕27±2密封處理+化學(xué)鍍銅+Cu,Ni鍍層對比例10600h后出現(xiàn)點(diǎn)腐蝕30±5樹脂導(dǎo)電層+精整及拋光+Cu,Ni鍍層</table></tables>從表9可看出對比例9在約800小時后、對比例10在600小時后均出現(xiàn)點(diǎn)銹蝕;而另一方面,對于實(shí)施例6,即使經(jīng)過1000小時,在30倍顯微鏡下也沒有出現(xiàn)點(diǎn)銹蝕。將上述粘結(jié)磁體放入振動式滾筒中進(jìn)行干法滾筒拋光,使用直徑為0.7mm、長0.5mm的短棒形Fe、Ni、Co及Cr棒在粘結(jié)磁體表面形成由這些微細(xì)金屬碎片構(gòu)成的導(dǎo)電覆層,樹脂表面上的微細(xì)金屬碎片壓入深度及磁性粉末表面的涂覆層厚度見表10。滾筒拋光處理時的條件同實(shí)施例1。接著進(jìn)行清洗,并用吊架式電鍍裝置進(jìn)行電鍍銅,然后進(jìn)行電鍍鎳,電鍍后內(nèi)徑處鍍膜厚度18μm,外徑處為21μm。將這樣處理后的環(huán)形粘結(jié)磁體進(jìn)行環(huán)境試驗(yàn)(耐潮性試驗(yàn)),溫度80℃,相對濕度90%,試驗(yàn)時間500小時。耐潮性試驗(yàn)后磁體的性能見表12,耐潮性試驗(yàn)后的表面狀況及膜層厚度尺寸精確度見表13。電鍍銅和電鍍鎳時的工藝條件同實(shí)施例1。對比例11清洗用與實(shí)施例7同樣的方法得到的環(huán)形粘結(jié)磁體,然后對其進(jìn)行化學(xué)鍍銅,鍍層厚度6μm?;瘜W(xué)鍍銅后在與實(shí)施例3同樣的條件下電鍍銅和鎳。將這樣處理后的環(huán)形粘結(jié)磁體進(jìn)行環(huán)境試驗(yàn)(耐潮性試驗(yàn)),溫度80℃,相對濕度90%,試驗(yàn)時間500小時。耐潮性試驗(yàn)后磁體的磁性能見表12,耐潮性試驗(yàn)后的表面狀況及膜層厚度尺寸精確度見表13?;瘜W(xué)鍍銅的工藝條件同對比例1。對比例12清洗用與實(shí)施例7同樣的方法得到的環(huán)形粘結(jié)磁體,之后用酚醛樹脂和鎳粉的混合物在磁體表面形成10μm厚的導(dǎo)電涂覆層,此處理結(jié)束后,在與實(shí)施例7相同的工藝條件下電鍍銅和鎳。將這樣處理后的環(huán)形粘結(jié)磁體進(jìn)行環(huán)境試驗(yàn)(耐潮性試驗(yàn)),溫度80℃,相對濕度90%,試驗(yàn)時間500小時。耐潮性試驗(yàn)后磁體的磁性能見表12,耐潮性試驗(yàn)后的表面狀況及膜層厚度尺寸精確度見表13。樹脂導(dǎo)電涂覆層的形成條件同對比例2。對比例13清洗用與實(shí)施例7同樣的方法得到的環(huán)形粘結(jié)磁體,通過浸漬方法在其表面形成一層酚醛樹脂粘結(jié)層,接著在其表面粘附銀粉(粒度0.7μm或更低),之后在振動式滾筒中形成7μm厚的導(dǎo)電膜層,然后在與實(shí)施例7同樣的條件下電鍍銅和鎳。將這樣處理后的環(huán)形粘結(jié)磁體進(jìn)行環(huán)境試驗(yàn)(耐潮性試驗(yàn)),溫度80℃,相對濕度90%,試驗(yàn)時間500小時。耐潮性試驗(yàn)后,磁體的性能見表12,耐潮性試驗(yàn)時的表面狀態(tài)和膜層厚度尺寸精確度見表13?;瘜W(xué)鍍銅工藝條件同對比例3。表10<tablesid="table9"num="010"><table>金屬碎片樹脂表面及多孔性部分處的壓入深度(μm)磁性粉末表面的涂覆厚度(μm)Fe0.50.1Ni0.40.1Co0.30.1Cr0.30.1</table></tables>表11<tablesid="table10"num="011"><table>起始材料磁性能Br(kG)iHc(kOe)(BH)max(MGOe)實(shí)施例7Fe6.89.19.2實(shí)施例7Ni6.89.19.2實(shí)施例7Co6.89.19.2實(shí)施例7Cr6.89.19.2對比例116.89.19.2對比例126.89.19.2對比例136.89.19.2</table></tables>表12<tablesid="table11"num="012"><table>耐潮性試驗(yàn)前耐潮性試驗(yàn)后磁性能降低比率(%)Br(kG)iHc(kOe)(BH)max(MGOe)Br(kG)iHc(kOe)(BH)max(MGOe)Br(kG)iHc(BH)max(MGOe)實(shí)施例7Fe6.79.09.06.48.78.75.94.45.5實(shí)施例7Ni6.79.09.06.48.78.75.94.45.5實(shí)施例7Co6.79.09.06.48.68.75.95.55.5實(shí)施例7Cr6.79.09.06.48.68.65.95.56.6對比例116.48.78.75.77.77.716.215.416.3對比例126.68.99.06.38.58.57.46.67.6對比例136.69.09.06.38.48.57.47.77.6</table></tables>磁性能降低比率(%)=[{(起始磁性能)-(耐潮性試驗(yàn)后磁性能)}/(起始磁性能)]×100表13<tablesid="table12"num="013"><table>耐潮性試驗(yàn)后的表面狀態(tài)膜層厚度尺寸精確度(μm)制造方法實(shí)施例7Fe無變化(無銹蝕)18±2Fe涂覆層+Ni鍍層實(shí)施例7Ni無變化(無銹蝕)18±2Ni涂覆層+Ni鍍層實(shí)施例7Co無變化(無銹蝕)18±2Co涂覆層+Ni鍍層實(shí)施例7Cr無變化(無銹蝕)18±2Pb涂覆層+Ni鍍層對比例11130h后出現(xiàn)點(diǎn)腐蝕24±2化學(xué)鍍銅層+Ni鍍層對比例12350h后出現(xiàn)點(diǎn)腐蝕28±10樹脂導(dǎo)電層+Ni鍍層對比例13370h后出現(xiàn)點(diǎn)腐蝕25±10樹脂導(dǎo)電層+Ni鍍層</table></tables>從表10~13可明顯看出對比例11在約130小時后、對比例12在350小時后、對比例13在約370小時后均出現(xiàn)點(diǎn)銹蝕;而另一方面,對于實(shí)施例7,即使經(jīng)過500小時,在30倍顯微鏡下也沒有任何點(diǎn)銹蝕。將上述粘結(jié)磁體放入振動式滾筒中用平均直徑為3mm的Al2O3球形滾筒磨料進(jìn)行密封和精整處理。其工藝條件和使用方法同實(shí)施例2。接著將上述粘結(jié)磁體放入振動式滾筒中進(jìn)行干法滾筒拋光,使用直徑為0.5mm、長0.4mm的短棒形Fe、Ni、Co及Cr棒在粘結(jié)磁體表面形成由微細(xì)金屬碎片構(gòu)成的導(dǎo)電層,樹脂表面上和多孔性部分的微細(xì)金屬碎片壓入深度及磁性粉末表面的涂覆層厚度見表14。滾筒拋光處理時的條件同實(shí)施例2。接著進(jìn)行清洗,并用吊架式電鍍裝置電鍍鎳,之后進(jìn)行鍍鎳。電鍍后內(nèi)徑處鍍膜厚度20μm,外徑處為22μm。將這樣處理后的環(huán)形粘結(jié)磁體進(jìn)行環(huán)境試驗(yàn)(耐潮性試驗(yàn)),溫度80℃,相對濕度90%,試驗(yàn)時間1000小時。其試驗(yàn)結(jié)果及膜層厚度尺寸精確度見表16和表17。電鍍銅和鎳的工藝條件同實(shí)施例2。鋅置換處理的工藝條件如下處理時間40秒,浴液溫度22℃,浴液成分為300g/l氫氧化鈉,40g/l氧化鋅,1g/l氯化鐵,30g/lRossel鹽。膜層厚度為0.01μm。對比例14清洗用實(shí)施例8同樣的方法得到的環(huán)形粘結(jié)磁體,之后進(jìn)行與實(shí)施例6同樣的密封和表面精整處理,再次清洗,然后對其進(jìn)行化學(xué)鍍銅,鍍層厚度5μm?;瘜W(xué)鍍銅后在與實(shí)施例8相同的條件下進(jìn)行電鍍銅和電鍍鎳。將這樣處理后的環(huán)形粘結(jié)磁體在與實(shí)施例8相同的條件下進(jìn)行環(huán)境試驗(yàn)(耐潮性試驗(yàn)),其試驗(yàn)結(jié)果及膜層厚度尺寸精確度見表16和表17?;瘜W(xué)鍍銅的工藝條件同對比例4。對比例15清洗用與實(shí)施例6同樣的方法得到的環(huán)形粘結(jié)磁體,之后用酚醛樹脂和鎳粉的混合物在磁體表面形成10μm厚的導(dǎo)電樹脂涂覆層,然后在振動式滾筒中裝入占其容積60%的磁體和5mm鋼球,在振幅為20mm條件下進(jìn)行60分鐘的滾筒拋光以精整并拋光。然后在與實(shí)施例8相同的條件下電鍍銅和電鍍鎳,將這樣處理后的環(huán)形粘結(jié)磁體在與實(shí)施例6相同的條件下進(jìn)行環(huán)境試驗(yàn)(耐潮性試驗(yàn)),其試驗(yàn)結(jié)果及膜層厚度尺寸精確度見表16和表17。導(dǎo)電涂覆層處理?xiàng)l件同對比例5。表14<tablesid="table13"num="014"><table>金屬碎片樹脂表面及多孔性部分處的壓入深度(μm)磁性粉末表面的涂覆厚度(μm)Fe0.50.1Ni0.50.1Co0.40.1Cr0.40.1</table></tables>表15<tablesid="table14"num="015"><table>起始材料磁性能Br(kG)iHc(kOe)(BH)max(MGOe)實(shí)施例8Fe6.99.39.5實(shí)施例8Ni6.99.39.5實(shí)施例8Co6.99.39.5實(shí)施例8Cr6.99.39.5對比例146.99.39.5對比例156.99.39.5</table></tables>表16<tablesid="table15"num="016"><table>耐潮性試驗(yàn)前耐潮性試驗(yàn)后磁性能降低比率(%)Br(kG)iHc(kOe)(BH)max(MGOe)Br(kG)iHc(kOe)(BH)max(MGOe)Br(kG)iHc(kOe)(BH)max(MGOe)實(shí)施例8Fe6.79.29.46.68.99.04.34.35.3實(shí)施例8Ni6.79.29.46.58.98.95.84.36.3實(shí)施例8Co6.69.29.46.48.88.87.25.47.4實(shí)施例8Cr6.79.29.46.58.78.85.86.57.4對比例146.69.19.36.28.58.510.18.610.5對比例156.79.19.36.28.38.410.110.811.6</table></tables>磁性能降低比率(%)=[{(起始磁性能)-(耐潮性試驗(yàn)后磁性能)}/(起始磁性能)]×100表17<tablesid="table16"num="017"><table>耐潮性試驗(yàn)后的表面狀態(tài)膜層厚度尺寸精確度(μm)制造方法實(shí)施例8Fe無變化(無銹蝕)20±2密封處理+Fe涂覆層+Ni鍍層實(shí)施例8Ni無變化(無銹蝕)20±2密封處理+Ni涂覆層+Ni鍍層實(shí)施例8Co無變化(無銹蝕)20±2密封處理+Co涂覆層+Ni鍍層實(shí)施例8Cr無變化(無銹蝕)20±2密封處理+Cr涂覆層+Ni鍍層對比例14700h后出現(xiàn)點(diǎn)腐蝕25±2密封處理+化學(xué)鍍銅層+Ni鍍層對比例15550h后出現(xiàn)點(diǎn)腐蝕26±5樹脂導(dǎo)電層+精整及拋光+Ni鍍層</table></tables>從表17可看出對比例14在700小時后、對比例15在550小時后均出現(xiàn)點(diǎn)銹蝕;而另一方面,對于實(shí)施例8,即使經(jīng)過800小時,在30倍顯微鏡下也沒有出現(xiàn)點(diǎn)銹蝕。將上述粘結(jié)磁體放入振動式滾筒中進(jìn)行干法滾筒拋光,使用直徑為0.8mm、長1mm的短棒形鋁棒在粘結(jié)磁體表面形成由微細(xì)鋁碎片構(gòu)成的導(dǎo)電覆層,樹脂表面上微細(xì)金屬碎片的壓入深度約為0.9μm,磁性粉末表面的涂覆層厚度為0.5μm。滾筒拋光處理時的條件同實(shí)施例1。接著進(jìn)行清洗,進(jìn)行鋅置換處理,然后用吊架式電鍍裝置進(jìn)行電鍍鎳,之后電鍍鎳。電鍍后內(nèi)徑處鍍膜厚度19μm,外徑處為21μm。將這樣處理后的環(huán)形粘結(jié)磁體進(jìn)行環(huán)境試驗(yàn)(耐潮性試驗(yàn)),溫度80℃,相對濕度90%,試驗(yàn)時間500小時。耐潮性試驗(yàn)后磁體的性能見表18,耐潮性試驗(yàn)后的表面狀況及膜層厚度尺寸精確度見表19。電鍍鎳時的工藝條件同實(shí)施例1。對比例16清洗用與實(shí)施例9同樣的方法得到的環(huán)形粘結(jié)磁體,然后對其進(jìn)行化學(xué)鍍銅,鍍層厚度6μm?;瘜W(xué)鍍銅后在與實(shí)施例3同樣的條件下電鍍銅和鎳。將這樣處理后的環(huán)形粘結(jié)磁體進(jìn)行環(huán)境試驗(yàn)(耐潮性試驗(yàn)),溫度80℃,相對濕度90%,試驗(yàn)時間500小時。耐潮性試驗(yàn)后磁體的磁性能見表18,耐潮性試驗(yàn)后的表面狀況及膜層厚度尺寸精確度見表19。化學(xué)鍍銅的工藝條件同對比例1。對比例17清洗用與實(shí)施例9同樣的方法得到的環(huán)形粘結(jié)磁體,之后用酚醛樹脂和鎳粉的混合物在磁體表面形成10μm厚的導(dǎo)電涂覆層,此處理結(jié)束后,在與實(shí)施例9相同的工藝條件下電鍍鎳。將這樣處理后的環(huán)形粘結(jié)磁體進(jìn)行環(huán)境試驗(yàn)(耐潮性試驗(yàn)),溫度80℃,相對濕度90%,試驗(yàn)時間500小時。耐潮性試驗(yàn)后磁體的磁性能見表18,耐潮性試驗(yàn)后的表面狀況及膜層厚度尺寸精確度見表19。樹脂導(dǎo)電涂覆層的形成條件同對比例2。對比例18清洗用與實(shí)施例9同樣的方法得到的環(huán)形粘結(jié)磁體,通過浸漬方法在其表面形成一層酚醛樹脂粘結(jié)層,接著在其表面粘附銀粉(粒度0.7μm或更低),之后在振動式滾筒中形成7μm厚的導(dǎo)電膜層,然后在與實(shí)施例9同樣的條件下電鍍鎳。將這樣處理后的環(huán)形粘結(jié)磁體進(jìn)行環(huán)境試驗(yàn)(耐潮性試驗(yàn)),溫度80℃,相對濕度90%,試驗(yàn)時間500小時。耐潮性試驗(yàn)后,磁體的性能見表18,耐潮性試驗(yàn)后的表面狀態(tài)和膜層厚度尺寸精確度見表19。涂層形成工藝條件同對比例3。表18<tablesid="table17"num="018"><table>耐潮性試驗(yàn)前耐潮性試驗(yàn)后磁性能降低比率(%)Br(kG)iHc(kOe)(BH)max(MGOe)Br(kG)iHc(kOe)(BH)max(MGOe)Br(kG)iHc(kOe)(BH)max(MGOe)實(shí)施例96.79.09.26.48.89.07.26.46.3對比例166.48.78.95.77.98.017.416.016.7對比例176.68.99.36.28.68.710.18.59.4對比例186.69.09.26.28.68.710.18.59.4</table></tables>磁性能降低比率(%)=[{(起始磁性能)-(耐潮性試驗(yàn)后磁性能)}/(起始磁性能)]×100表19<tablesid="table18"num="019"><table>耐潮性試驗(yàn)后的表面狀態(tài)膜層厚度尺寸精確度(μm)制造方法實(shí)施例9無變化(無銹蝕)20±2Al涂覆層(鋅置換處理)+Ni鍍層對比例16120h后出現(xiàn)點(diǎn)腐蝕27±2化學(xué)鍍銅層+Ni鍍層對比例17270h后出現(xiàn)輕微腐蝕28±10樹脂導(dǎo)電覆層+Ni鍍層對比例18300h后出現(xiàn)輕微腐蝕26±10導(dǎo)電涂覆層+Ni鍍層</table></tables>從表18和表19可明顯看出對比例16在約120小時后、對比例17在270小時后、對比例18在約300小時后均出現(xiàn)點(diǎn)銹蝕;而另一方面,對于實(shí)施例9,即使經(jīng)過500小時,在30倍顯微鏡下也沒有任何點(diǎn)銹蝕。用與實(shí)施例1相同的方法制造36mm(外徑)×33mm(內(nèi)徑)×3mm(高)的環(huán)形粘結(jié)磁體,其性能如下Br=6.7kG,iHc=9.2kOe,(BH)max=9.5MGOe。將220個這樣的磁體同平均直徑為4mm的球形Al2O3滾筒磨料放入容積為20升的振動式滾筒中,裝入占滾筒容積50%的植物來源的材料,植物來源的材料為表面已被粒度約2μm的Al2O3改性處理過的直徑約2mm的胡桃仁,然后進(jìn)行150分鐘的干法表面拋光,以密封空隙并精整處理。接著,將磁體裝入振動式滾筒中進(jìn)行干法滾筒拋光,用直徑為0.5mm、長0.7mm的短棒形鋁棒在粘結(jié)磁體表面形成由微細(xì)鋁碎片構(gòu)成的導(dǎo)電層,微細(xì)碎片壓入樹脂表面的深度約為1.1μm,磁性粉末表面的覆層厚度為0.6μm。滾筒拋光處理的條件同實(shí)施例1。接著進(jìn)行清洗,進(jìn)行鋅置換處理,然后用吊架式電鍍裝置電鍍鎳,之后進(jìn)行電鍍鎳。電鍍后內(nèi)徑處鍍膜厚度17μm,外徑處為19μm。將這樣處理后的環(huán)形粘結(jié)磁體進(jìn)行環(huán)境試驗(yàn)(耐潮性試驗(yàn)),溫度80℃,相對濕度90%,試驗(yàn)時間500小時。耐潮性試驗(yàn)后磁體的性能見表20,耐潮性試驗(yàn)后的表面狀況及膜層厚度尺寸精確度見表21。電鍍銅和鎳的工藝條件同實(shí)施例2。鋅置換處理的工藝條件如下處理時間40秒,浴液溫度22℃,浴液成分為300g/l氫氧化鈉,40g/l氧化鋅,1g/l氯化鐵,30g/lRossel鹽。鋅置換層厚度為0.01μm。對比例19清洗用與實(shí)施例10同樣的方法制成的環(huán)形粘結(jié)磁體,按實(shí)施例10對其進(jìn)行密封和表面精整,再次清洗,然后對其進(jìn)行化學(xué)鍍銅,鍍層厚度6μm。化學(xué)鍍銅后在與實(shí)施例10同樣的條件下電鍍銅和鎳。將這樣處理后的環(huán)形粘結(jié)磁體進(jìn)行環(huán)境試驗(yàn)(耐潮性試驗(yàn)),溫度80℃,相對濕度90%,試驗(yàn)時間1000小時。耐潮性試驗(yàn)后磁體的磁性能見表20,耐潮性試驗(yàn)后的表面狀況及膜層厚度尺寸精確度見表21?;瘜W(xué)鍍銅的工藝條件同對比例4。對比例20清洗用與實(shí)施例10同樣的方法制成的環(huán)形粘結(jié)磁體,之后在下述條件下用酚醛樹脂和鎳粉的混合物在磁體表面形成12μm厚的導(dǎo)電涂覆層。然后在振動式滾筒中裝入占其容積70%的上述磁體和2mm鋼球,進(jìn)行90分鐘的滾筒拋光以精整并拋光。接著在與實(shí)施例10相同的工藝條件下電鍍鎳。將這樣處理后的環(huán)形粘結(jié)磁體進(jìn)行環(huán)境試驗(yàn)(耐潮性試驗(yàn)),溫度80℃,相對濕度90%,試驗(yàn)時間1000小時。耐潮性試驗(yàn)后磁體的性能見表20,耐潮性試驗(yàn)后的表面狀況及膜層厚度尺寸精確度見表21?;瘜W(xué)鍍銅的工藝條件同對比例5。表20<tablesid="table19"num="020"><table>耐潮性試驗(yàn)前耐潮性試驗(yàn)后磁性能降低比率(%)Br(kG)iHc(kOe)(BH)max(MGOe)Br(kG)iHc(kOe)(BH)max(MGOe)Br(kG)iHc(kOe)(BH)max(MGOe)實(shí)施例106.59.09.26.48.79.04.55.45.3對比例196.48.78.96.08.38.510.59.810.5對比例206.48.99.36.18.48.59.08.710.5</table></tables>磁性能降低比率(%)=[((起始磁性能)-(耐潮性試驗(yàn)后磁性能)}/(起始磁性能)]×100表21<tablesid="table20"num="021"><table>耐潮性試驗(yàn)后的表面狀態(tài)膜層厚度尺寸精確度(μm)制造方法實(shí)施例10無變化(無銹蝕)18±2密封處理+Al涂覆層(鋅置換處理)+Ni鍍層對比例19750h后出現(xiàn)點(diǎn)腐蝕24±2密封處理+化學(xué)鍍銅+Ni鍍層對比例20680h后出現(xiàn)點(diǎn)腐蝕28±6樹脂導(dǎo)電覆層+精整及拋光+Ni鍍層</table></tables>從表20和表21可明顯看出對比例19在約750小時后、對比例20在680小時后均出現(xiàn)點(diǎn)銹蝕;而另一方面,對于實(shí)施例10,即使經(jīng)過1000小時,在30倍顯微鏡下也沒有任何點(diǎn)銹蝕。工業(yè)應(yīng)用本發(fā)明中,對多孔性R-Fe-B粘結(jié)磁體進(jìn)行干法滾筒拋光,其中使用拋光劑和植物來源的材料的混合物做拋光介質(zhì),或者,用拋光劑和表面已被無機(jī)粉末改性后的植物來源的材料的混合物做拋光介質(zhì)。可以用植物來源的材料中的油性組分將拋光粉末、無機(jī)粉末、拋光屑粘在R-Fe-B基粘結(jié)磁體上,填充其多孔性部分。也可改善粘結(jié)磁體,同時進(jìn)行表面精整處理。另外,將R-Fe-B基粘結(jié)磁體在滾筒裝置中進(jìn)行干法滾筒拋光,用所需尺寸、不定形狀的如球形、塊形或針形(線形)鋁塊做金屬介質(zhì),使鋁磨碎的微細(xì)碎片壓入粘結(jié)磁體表面的多孔性部分和樹脂表面,形成膜層,或者用鋁微細(xì)碎片涂覆在磁性粉末表面,從而在R-Fe-B基粘結(jié)磁體表面形成一層鋁涂覆層,接著對鋁涂覆層表面進(jìn)行鋅置換處理,從而可以形成致密的、沒有針孔的電鍍層,得到具有極優(yōu)異耐蝕性的R-Fe-B基粘結(jié)磁體。權(quán)利要求1.一種高耐蝕性R-Fe-B基粘結(jié)磁體,其特征在于微細(xì)金屬碎片壓入并涂覆在構(gòu)成該R-Fe-B基粘結(jié)磁體表面的樹脂表面和多孔性部分;并且該R-Fe-B基粘結(jié)磁體包含一層金屬覆層表面,它是通過金屬微細(xì)碎片涂覆構(gòu)成所述表面的磁性粉末表面形成的,而且在磁體的最表面形成電鍍層,從而使所述金屬涂覆的表面處于兩者之間。2.一種高耐蝕性R-Fe-B基粘結(jié)磁體,其特征在于用拋光劑粉末、粘結(jié)磁體拋光屑或者還用植物來源的材料中的油性組分粘結(jié)于其的無機(jī)粉末密封所述R-Fe-B基粘結(jié)磁體表面中的多孔性部分,微細(xì)金屬碎片壓入并涂覆在構(gòu)成該磁體表面的樹脂表面和所述多孔性部分;其特征還在于該R-Fe-B基粘結(jié)磁體包含一層金屬覆層表面,它是由金屬微細(xì)碎片涂覆構(gòu)成磁體表面的磁性粉末表面形成的,而且在磁體的最表面還形成一層電鍍層,從而使所述表面金屬涂覆層處于兩者之間。3.根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求2的高耐蝕性R-Fe-B基粘結(jié)磁體,其特征在于該微細(xì)金屬碎片為Cu、Sn、Zn、Pb、Cd、In、Au、Ag、Fe、Ni、Co、Cr或Al,或以上元素的合金。4.根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求2的高耐蝕性R-Fe-B基粘結(jié)磁體,其特征在于微細(xì)金屬碎片在樹脂表面和多孔性部分形成的壓入覆層厚度為0.1μm~2μm。5.根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求2的高耐蝕性R-Fe-B基粘結(jié)磁體,其特征在于微細(xì)金屬碎片在磁性粉末表面形成的覆層厚度為1.0μm或更低。6.根據(jù)權(quán)利要求5的高耐蝕性R-Fe-B基粘結(jié)磁體,其特征在于Cu、Fe、Ni、Co或Cr、或它們的合金在磁性粉末表面的覆層厚度為0.2μm或更低。7.根據(jù)權(quán)利要求1或權(quán)利要求2的高耐蝕性R-Fe-B基粘結(jié)磁體,其特征在于當(dāng)上述微細(xì)金屬碎片為鋁或鋁合金時,在所述磁體表面的鋁或鋁合金覆層表面上,形成一中間鋅層,再形成電鍍層。8.一種高耐蝕性R-Fe-B基粘結(jié)磁體的制造方法,其特征在于包含下列步驟將R-Fe-B基粘結(jié)磁體和不定形狀的微細(xì)金屬片裝入滾筒裝置中,進(jìn)行干法滾筒拋光,磨碎的微細(xì)金屬碎片會壓入構(gòu)成R-Fe-B基粘結(jié)磁體表面的樹脂表面和多孔性部分,形成覆層,而且構(gòu)成該磁體表面的磁性粉末表面也涂覆了一層上述微細(xì)金屬碎片,從而在該磁體表面形成一層金屬涂覆層,接著利用電鍍最外表面在按上述形成的該導(dǎo)電性金屬覆層上形成一層電鍍層。9.一種高耐蝕性R-Fe-B基粘結(jié)磁體的制造方法,其特征在于包含下列步驟對R-Fe-B基粘結(jié)磁體進(jìn)行干法滾筒拋光,用拋光劑和植物來源的材料或其表面已被無機(jī)粉末改性后的植物來源的材料的混合物做拋光介質(zhì),用拋光劑粉末、粘結(jié)磁體拋光屑或還用植物來源的材料中的油性組分粘結(jié)的無機(jī)粉末密封所述R-Fe-B粘結(jié)磁體表面的多孔性部分,并精整并改善其表面;將該粘結(jié)磁體和不定形狀的微細(xì)金屬片并裝入滾筒裝置中,進(jìn)行干法滾筒拋光,以使磨碎的微細(xì)金屬碎片會壓入該磁體表面的樹脂表面和所述多孔性部分,形成覆層,而且該磁體表面的磁性粉末表面也涂覆了一層微細(xì)金屬碎片,從而使該R-Fe-B基粘結(jié)磁體的表面具有導(dǎo)電性;接著在磁體的最表面形成一層電鍍層。10.根據(jù)權(quán)利要求8或權(quán)利要求9的高耐蝕性R-Fe-B基粘結(jié)磁體制造方法,其特征在于該微細(xì)金屬碎片為Cu、Sn、Zn、Pb、Cd、In、Au、Ag、Fe、Ni、Co、Cr或Al,或以上元素的合金。11.根據(jù)權(quán)利要求8或權(quán)利要求9的高耐蝕性R-Fe-B基粘結(jié)磁體制造方法,其特征在于當(dāng)上述微細(xì)金屬碎片為鋁時,在所述磁體表面的鋁涂覆層的表面上,用鋅置換處理形成一中間鋅層,再形成電鍍層。12.根據(jù)權(quán)利要求8或權(quán)利要求9的高耐蝕性R-Fe-B基粘結(jié)磁體制造方法,其特征在于該不定形狀的微細(xì)金屬片為球形、塊形或針形,大小為0.1mm~10mm。13.根據(jù)權(quán)利要求12的高耐蝕性R-Fe-B基粘結(jié)磁體制造方法,其特征在于該不定形狀的Cu、Fe、Ni、Co或Cr微細(xì)金屬片為球形、塊形或針形,大小為0.1mm~5mm。14.根據(jù)權(quán)利要求8或權(quán)利要求9的高耐蝕性R-Fe-B基粘結(jié)磁體制造方法,其特征在于滾筒拋光磨碎的微細(xì)金屬碎片長度為5μm或更小。15.根據(jù)權(quán)利要求8或權(quán)利要求9的高耐蝕性R-Fe-B基粘結(jié)磁體制造方法,其特征在于滾筒拋光時使用旋轉(zhuǎn)式、振動式或離心式滾筒,上述磁體和上述微細(xì)金屬碎片的體積比(磁體/微細(xì)金屬碎片)為3或更低。16.根據(jù)權(quán)利要求9的高耐蝕性R-Fe-B基粘結(jié)磁體制造方法,其特征在于拋光劑為金屬球或燒制并硬化的無機(jī)粉末拋光磨料。17.根據(jù)權(quán)利要求9的高耐蝕性R-Fe-B基粘結(jié)磁體制造方法,其特征在于上述植物來源的材料為植物殼、木屑、果皮、或玉米棒子。18.根據(jù)權(quán)利要求8或權(quán)利要求9的高耐蝕性R-Fe-B基粘結(jié)磁體制造方法,其特征在于上述R-Fe-B基粘結(jié)磁體和上述微細(xì)金屬碎片是在惰性氣體氣氛下進(jìn)行干法滾筒拋光的。全文摘要一種具有高耐蝕性并易于電鍍的各種形狀如環(huán)形、盤形的R-Fe-B基粘結(jié)磁體的高效制造方法,其中磁體的耐蝕性通過在其表面形成一層緊密結(jié)合的、均勻的、高效的金屬導(dǎo)電膜而得以提高。該方法包含下列步驟:用拋光粉末、無機(jī)粉末及拋光屑填充磁體的孔隙,用植物來源的材料的油性組分將上述材料粘在孔隙中以密封孔隙,通過滾筒裝置對磁體進(jìn)行干法滾筒拋光,用所需尺寸、不定形狀,即球形、塊形或針形(絲形)的Cu、Sn、Zn、Pb、Cd、In、Au、Ag、Fe、Ni、Co、Cr和Al塊或以上元素的合金片作金屬介質(zhì),上述金屬的微細(xì)碎片例如Cu會壓入粘結(jié)磁體的樹脂表面和孔隙中,形成涂覆層,而且也在磁性粉末顆粒表面形成涂覆層,從而可以在粘結(jié)磁體表面形成非常均勻的導(dǎo)電層,進(jìn)而可以對粘結(jié)磁體進(jìn)行良好的電鍍,得到具有高耐蝕性和磁性能極少劣化的帶電鍍層R-Fe-B基粘結(jié)磁體制品。文檔編號C25D3/56GK1279810SQ98811456公開日2001年1月10日申請日期1998年10月23日優(yōu)先權(quán)日1997年10月30日發(fā)明者吉村公志,西內(nèi)武司,磯崎貴裕,菊井文秋申請人:住友特殊金屬株式會社
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