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      一種具有光催化性能的鎢酸鉍納米薄膜及其制備方法和用圖

      文檔序號:8484281閱讀:1086來源:國知局
      一種具有光催化性能的鎢酸鉍納米薄膜及其制備方法和用圖
      【技術領域】
      [0001] 本發(fā)明涉及用于光電化學池的半導體電極領域,具體為一種鎢酸鉍納米薄膜及其 制備方法和用途。
      【背景技術】
      [0002] 化石燃料的過度使用造成全球氣溫持續(xù)上升(Messinger, J.,Catalysts for Solar Water Splitting. Chem Sus Chem 2009, 2 (I) ,47-48),尋找新的清潔能源變得迫在 眉睫。在現(xiàn)有的新興能源中,太陽能作為一種取之不盡的無污染的能源而備受關注。自從 1972年Fujishima和Honda報道了紫外燈照射下TiO 2分解水制氫氣以來,科學界對光電催 化方法產(chǎn)生了極大興趣。光電催化分解水制氫技術,基于太陽能和水這兩種可再生物質(zhì),沒 有副產(chǎn)物,不會污染環(huán)境,同時光電催化技術兼顧小規(guī)模應用與大規(guī)模開發(fā)。所以,光電催 化分解水制氫技術是太陽能制氫最具前景的研宄方向。
      [0003] 與傳統(tǒng)的二氧化鈦等半導體材料相比,鎢酸鉍(Bi2WO6)是一種間接帶隙躍迀 的半導體材料,具有較窄的禁帶寬度(2. 75-2. 9eV),吸收光的波長可延伸到可見光區(qū)域 (450nm),具有良好的化學穩(wěn)定性。相對于三氧化鎢(WO3)來說,其價帶位置更加靠近氫 的還原電勢,使水分解反應可在更低的偏壓下進行(J.C.Hill and K.S. Choi, Synthesis and characterization of high surface area CuW04and Bi2W06electrodes for use as photoanodes for solar water oxidation, Journal of Materials Chemistry A,2013, 1,5006-5014)。目前常用的Bi2WCV薄膜電極材料制備方法有兩種:溶膠-凝 膠(L. Zhang, C. Baumanisj L. Robbenj T. Kandiel and D. Bahnemannj Bi2WO6Inverse opals:facile fabrication and efficient visible-light-driven photocatalytic and photoelectrochemical water-splitting activity,Small,2011,7, 2714-2720 ;L Zhang and D. Bahnemannj Synthesis of nanovoid Bi2W062D ordered arrays as photoanodes for photoelectrochemical water splitting,Chem Sus Chem,2013,6,283-290)和離 子交換(C. Ngj A. Iwasej Y. H. Ng and R. Amalj Transforming Anodized WO3Films into Visible-Light-Active BI2WO6Photoelectrodes by Hydrothermal Treatment,The Journal of Physical Chemistry Letters,2012, 3, 913-918) D 基于溶膠-凝膠方法發(fā)展 起來的Bi2WCV薄膜方法,可使用模版較少,所制備的薄膜形貌單一。離子交換法由于設備要 求低,操作簡單,同時反應條件溫和友好,已經(jīng)廣泛用于制備Bi 2WCV薄膜電極材料。但是以 WO3為前驅體的離子交換方法,離子交換溫度較高,交換時間較長,同時Bi 2W(V薄膜與基底 鎢板間相隔一層WO3,不利于電子的傳導。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0004] 本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術中的不足,提供一種用于產(chǎn)品性能優(yōu)越、工藝簡 單、適合于大規(guī)模生產(chǎn)的鎢酸鉍(Bi 2WO6)納米薄膜及其制備方法和用途。
      [0005] 本發(fā)明解決其技術問題是通過以下技術方案實現(xiàn)的:
      [0006] 本發(fā)明一個目的在于公開了一種具有光催化性能的Bi2WOf^米薄膜,包括生長在 襯底上由扮 2106納米結構構成的Bi2WO6納米薄膜層,所述襯底為氟摻雜錫氧化物(FTO)的 導電玻璃,所述Bi 2WO6納米結構呈Bi 2W06納米片(狀),所述Bi 2W06納米片垂直生長于襯 底FTO導電玻璃上,所述Bi2W0 6m米片的厚度為15-60nm,所述Bi 2W06納米薄膜層的厚度為 1500_3000nm。
      [0007] 本發(fā)明的另一個目的在于公開了一種具有光催化性能的Bi2W06m米薄膜的制備 方法,包括如下步驟:
      [0008] (1)將碘化鉀粉末和硝酸鉍粉末加入到去離子水中,用濃硝酸調(diào)節(jié)PH,配制得到 濃度為〇. 02-0. 06m〇L/L,pH = 1. 5-1. 9的碘氧鉍納米片前驅體溶液;
      [0009] (2)采用標準三電極裝置進行陰極電沉積步驟。將FTO導電玻璃作為工作電極,鉑 片電極作為對電極,銀/氯化銀電極作為參比電極。在-〇. 2至-0. 05V (相對于銀/氯化銀 電極)電壓下沉積l_30min,得到FTO上的碘氧鉍納米片薄膜;
      [0010] (3)將鎢酸鈉粉末加入到去離子水中,配制得到濃度為0. 05-0. 2moL/L的鎢酸鈉 水溶液。將鎢酸鈉水溶液與步驟(2)得到的帶有碘氧鉍納米片薄膜的FTO導電玻璃同時放 入晶化釜中,在100-140°C水熱溫度下進行離子交換反應2-12h。最后在500-600°C下的空 氣氣氛中進行焙燒l_3h,得到鎢酸鉍納米薄膜。
      [0011] 步驟(1)中所述濃硝酸的體積份數(shù)為65-68%,硝酸的水溶液。
      [0012] 步驟⑵中所述的FTO導電玻璃在進行陰極電沉積過程前,需分別在丙酮、乙醇、 去離子水中超聲清洗l〇min。
      [0013] 步驟(2)中所述碘氧祕納米片,其厚度為30-70nm,所述納米薄膜層的厚度為 2000-3000nm〇
      [0014] 本發(fā)明的再一個目的在于公開了一種Bi2WO6納米薄膜在光電化學電解水制氫 中的應用,例如利用光電化學池光解水制氫中的應用,試驗表明,具有一維納米片形貌的 Bi2WV薄膜電極的光電流密度為5-40 μ A/cm2,具有可見光光解水制氫活性。
      [0015] 本發(fā)明的有益效果是:
      [0016] 本發(fā)明的Bi2W06m米薄膜具有大比表面積的一維納米片的納米形貌,為光生電子 和空穴提供直接順暢的傳輸路徑,可以有效地促進電子傳遞到材料的界面中(固固或者液 固)。相比于其他半導體材料,如三氧化鎢,可以使水的氧化還原反應發(fā)生在相對低的電流 強度和低的過電勢中。
      [0017] 本發(fā)明的Bi2WO6納米薄膜的制備方法操作過程簡單,反應條件更溫和,反應時間 更短,無需大型儀器設備,經(jīng)濟可行。同時其制備過程可控性強,光電催化性能優(yōu)越,具有一 定的工業(yè)價值。
      [0018] 本發(fā)明的Bi2W06m米薄膜能夠作為一種高效的光電陽極材料,可用于光電化學池 光解水制氫,能高效的將太陽能轉化為清潔能源,有效緩解當今化石燃料短缺、環(huán)境污染嚴 重的問題。
      【附圖說明】
      [0019] 圖1是實施例1中Bi2WO6納米薄膜的X衍射圖譜,其中三角形峰對應FT0。
      [0020] 圖2是實施例1中Bi2WO6納米薄膜的掃描電子顯微鏡圖(標尺為5um)。
      [0021] 圖3是實施例1中Bi2WO6納米薄膜的掃描電子顯微鏡圖(標尺為Ium)。
      [0022] 圖4是模擬太陽光照射下,實施例1、6、7中制備的Bi2WOf^米薄膜的光電流-電 位曲線圖。
      【具體實施方式】
      [0023] 下面通過具體實施例對本發(fā)明作進一步詳述,以下實施例只是描述性的,不是限 定性的,不能以此限定本發(fā)明的保護范圍。
      [0024] 實施例1-9為本發(fā)明所述的不同規(guī)格的Bi2WO6納米薄膜的制備方法 [00 25] 實施例1 :
      [0026] (1)碘氧鉍納米片前驅體溶液的配制
      [0027] a)將FTO導電玻璃先后依次在去離子水、丙酮和乙醇溶液中超聲lOmin,經(jīng)去離子 水洗凈,吹干備用;
      [0028] b)將3. 32g碘化鉀粉末和0. 9702g硝酸鉍粉末加入到60mL去離子水中,并用體積 份數(shù)為65-68%的商用濃硝酸調(diào)節(jié)pH至1. 7,最終制得pH = 1. 7的濃度為0. 04m〇L/L的碘 氧鉍納米片前驅體溶液。
      [0029] (2)碘氧鉍納米片薄膜的制備
      [0030] 采用標準三電極裝置進行陰極電沉積步驟。將FTO導電玻璃作為工作電極,鉑片 電極作為對電極,銀/氯化銀電極作為參比電極。將碘氧鉍納米片前驅體溶液作為陰極電 沉積過程的電沉積溶液。在-0.1 V(相對于銀/氯化銀電極)電壓下沉積lOmin。得到FTO 上的碘氧鉍納米片薄膜。
      [0031] (3) Bi2WO6納米薄膜的制備
      [0032] a)將I. 316g鎢酸鈉粉末加入到40mL去離子水中,配制得40mL濃度為0.1 moL/L 的鎢酸鈉離子交換溶液。將碘氧鉍納米片薄膜,碘氧鉍薄膜面朝上,斜放置于晶化釜中,加 入離子交換溶液,在120°C條件下進行4h的離子交換過程,制備Bi 2W06m米薄膜,用去離子 水洗絳,室溫下干燥。
      [0033] b)將制備的扮2106納米薄膜進行焙燒處理,馬弗爐焙燒條件為:升溫速度2°C / min,升溫至550°C,保持2h,自然降溫,得到Bi2WO6納米薄膜。
      [0034] 如圖1所示,Bi2WO6納米薄膜呈現(xiàn)2個主要衍射峰,分別是(131)和(002)晶面。
      [0035] 實施例2 :
      [0036] (1)碘氧鉍納米片前驅體溶液的配制
      [0037] a)將FTO導電玻璃先后依次在去離子水、丙酮和乙醇溶液中超聲lOmin,經(jīng)去離子 水洗凈,吹干備用;
      [0038] b)將I. 66g碘化鉀粉末和0. 4851g硝酸鉍粉末加入到60mL去離子水中,并用體積 份數(shù)為65-68%的商用濃硝酸調(diào)節(jié)pH至1. 7,最終制得pH = 1. 7的濃度為0. 02m〇L/L的碘 氧鉍納米片前驅體溶液。
      [0039] (2)碘氧鉍納米片薄膜的制備同實施例1。
      [0040] (3) Bi2WO6納米薄膜的制備同實施例1。
      [0041] 實施例3
      [0042] (1)碘氧鉍納米片前驅體溶液的配制
      [0043] a)將FTO導電玻璃先后依次在去離子水、丙酮和乙醇溶液中超聲lOmin,經(jīng)去離子 水洗凈,吹干備用;
      [0044] b)將4. 98g碘化鉀粉末和I. 4553g硝酸鉍粉末加入到60mL去離子水中,并用體積 份數(shù)為65-68%的商用濃硝酸調(diào)節(jié)pH至1. 7,最終制得pH = 1. 7的濃度為0.
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