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      齒系統(tǒng)的制作方法

      文檔序號:5345970閱讀:263來源:國知局
      專利名稱:齒系統(tǒng)的制作方法
      齒系統(tǒng) 本發(fā)明涉及一種用于在諸如疏浚(dredging)或挖掘裝置的掘土 (運土,earthmoving)裝置中使用的齒系統(tǒng),其包括齒和適配器,其中齒以可拆卸方式安裝在該適配器上,齒包括縱向延伸的齒連結(jié)板(tooth web)、縱向延伸的齒底座和位于距齒底座一距離處的縱向延伸的齒頭,所述齒底座和齒頭還相對于所述齒連結(jié)板基本上橫向地延伸,所述適配器包括適配器底座和適配器頭,所述適配器底座待固定到所述掘土裝置上,諸如待固定到耙頭的齒桿上,所述適配器底座與所述適配器頭之間限定有縱向延伸的底切腔,其中所述齒底座能夠滑動地裝配在底切腔內(nèi),并且其中,所述適配器頭能夠滑動地裝配在所述齒底座與所述齒頭之間以用于所述齒相對于所述適配器的前端的安裝和拆卸。在歐洲專利公開EP1997967A1中公開了這種齒系統(tǒng)。該公開揭露了這樣的齒系統(tǒng),其中,適配器和齒設(shè)置有至少一對相應(yīng)形狀的面對的接觸區(qū),接觸區(qū)具有階梯狀構(gòu)型。相對于適配器,面對的接觸區(qū)的階梯布置表示用于齒的穩(wěn)定支撐。階梯式接觸區(qū)表示用于支撐齒的單獨區(qū)域,適用于承受施加在齒上的力和彎矩。這種齒系統(tǒng)以及類似已有技術(shù)的齒系統(tǒng)的缺點是,齒和/或適配器的壽命由于接觸區(qū)的磨損而受限。最初,齒緊貼地安裝到適配器的腔中。然而,由于部件的制造公差和接觸區(qū)中的磨損,在齒和適配器的接觸表面之間的間隙量可能是最初就存在和/或最終會出現(xiàn)。間隙量會隨時間增加。這樣不斷增加的間隙量可導(dǎo)致適配器和/或齒的接觸區(qū)的甚至更多的磨損。在相對短的使用期內(nèi),齒和/或適配器需要維修或甚至更換。尤其是在這些情況下,即,其中齒系統(tǒng)在潛入水中的條件下使用(例如,當(dāng)齒系統(tǒng)用在諸如疏浚裝置的掘土裝置中時),適配器的壽命短、以及尤其齒可導(dǎo)致相當(dāng)多的停機時間和相當(dāng)大的關(guān)聯(lián)操作費用。本發(fā)明的一個目的是提供改進的齒系統(tǒng),其中現(xiàn)有技術(shù)的上述缺點和/或其他缺點已被減少或者甚至被排除。本發(fā)明的另一個目的是提供具有延長壽命的齒系統(tǒng)。上述目的中的至少一個目的在根據(jù)權(quán)利要求的前序部分所述的用于在掘土裝置中使用的齒系統(tǒng)中實現(xiàn),其中,適配器包括至少一個第一區(qū)和至少一個第二區(qū),所述至少一個第一區(qū)面對齒的至少一個對應(yīng)形狀的第一區(qū),所述至少一個第二區(qū)面對齒的至少一個對應(yīng)形狀的第二區(qū),其中,齒和適配器被構(gòu)造和設(shè)置成使得,在第一使用期中,適配器和齒的第一區(qū)為接觸區(qū),并且適配器和齒的第二區(qū)為間隙區(qū),并且在第二使用期內(nèi),在第一接觸區(qū)磨損之后,適配器和齒的第二區(qū)為接觸區(qū)。由于齒和適配器的這種構(gòu)型,第二區(qū)一旦在第二使用期中成為接觸區(qū),則第二區(qū)就能夠至少部分地接替第一區(qū)的支撐功能。這會使得第一區(qū)更少地受到磨損。在由于磨損影響需要對該系統(tǒng)進行維修(如更換齒)之前,該系統(tǒng)可使用更長的周期。因此,該系統(tǒng)的壽命可以延長。根據(jù)本發(fā)明的齒系統(tǒng)的另一個優(yōu)點可以是,一般可選擇用于在適配器中適當(dāng)支撐齒而所需的尺寸公差比已有齒系統(tǒng)中的尺寸公差大。換句話說,與在已有齒系統(tǒng)中的要求相比,關(guān)于齒和/或適配器的制造過程的精確度的要求不那么嚴(yán)格。例如,在本發(fā)明的實施例中,可以簡化或不再需要一些制造步驟(例如接觸表面的拋光)。此外,在本發(fā)明的實施例中,適配器和/或齒可因此使用成本相對低的生產(chǎn)過程進行生產(chǎn)。在實施例中,所述第一區(qū)具有第一接觸表面面積,并且所述第二區(qū)具有第二接觸表面面積,其中所述第二接觸表面面積大于所述第一接觸表面面積。第二接觸表面面積可以至少是第一接觸表面面積的兩倍。這提供了如下優(yōu)點,即,齒系統(tǒng)的壽命顯著增加。在實施例中,所述適配器和齒的所述第一區(qū)和所述第二區(qū)至少部分地設(shè)置成一個在另一個上方。這提供了如下優(yōu)點,即,可以在相對小的體積中形成相對大的接觸表面面積。在本發(fā)明的實施例中,所述適配器和齒構(gòu)造和布置成,在所述第二使用期中,所述適配器和齒的第一區(qū)由于磨損變?yōu)殚g隙區(qū)。在本發(fā)明的實施例中,適配器和齒構(gòu)造和設(shè)置成使得,在所述第二使用期中,所述適配器和齒的第一區(qū)仍然為接觸區(qū)。這意味著第二區(qū)可接替第一區(qū)的部分支撐功能,使得作用于齒和適配器上的力可以分布在較大面積上,從而具有較長壽命。此外,由于最初只有第一區(qū)是接觸區(qū)而第二區(qū)是間隙區(qū),相對于從一開始第一區(qū)和第二區(qū)兩者都需要是接觸區(qū)的實施例來說,制造過程的精確度可以是低的。在本發(fā)明的實施例中,所述第一區(qū)布置在所述齒和所述適配器的上部中,并且所述第二區(qū)布置在所述齒和所述適配器的下部中。在該實施例中,在齒和適配器的上部中的區(qū)域一般將是首先需要維修的區(qū)域。一般地,與齒以及尤其是適配器的其他部件相比,齒和/或適配器的上部區(qū)域可以更容易地被接近(夠到,access).在實施例中,所述第一區(qū)包括所述齒頭的面向下的至少一個表面以及所述適配器頭的面向上的至少一個表面。在本發(fā)明的實施例中,所述第二區(qū)包括所述適配器底座的面向上的至少一個表面和所述齒底座的面向下的至少一個表面。在實施例中,齒頭包括在齒連結(jié)板的相對側(cè)上橫向延伸的齒頭凸緣;齒底座包括在齒連結(jié)板的相對側(cè)上橫向延伸的齒底座凸緣,并且齒頭凸緣和齒底座凸緣的第一區(qū)和第二區(qū)之間的距離基本上對應(yīng)于底切腔的底表面與適配器的頂表面之間的距離。因此,齒可以由適配器牢固地支撐。在齒系統(tǒng)的實施例中,所述齒的第一區(qū)與第二區(qū)之間的第一距離基本上不同于所述適配器的第一區(qū)和第二區(qū)之間的第二距離。第一距離和第二距離是以基本上垂直于第一區(qū)和第二區(qū)的方向測量的。術(shù)語“基本上不同”是用來表明可以存在0.1-5_的差異。第一距離可以大于第二距離,或者反之亦然。在實施例中,所述適配器頭包括相對的橫向適配器凸緣,所述適配器凸緣在所述適配器凸緣的面對的邊緣處限定狹縫,并且所述適配器凸緣限定所述底切腔,所述齒的連結(jié)板延伸通過該狹縫且所述齒頭面對所述適配器凸緣。齒底座可包括在齒連結(jié)板的相對兩上延伸的齒底座凸緣,每個齒底座凸緣面向?qū)?yīng)的適配器凸緣。在實施例中,所述齒包括前蓋,所述前蓋相對于所述齒頭和所述齒底座橫向地延伸,并且所述前蓋在使用中面對所述適配器的所述前端。優(yōu)選地,齒的前蓋與適配器的前端毗連,以便避免齒相對于適配器被卡緊,該卡緊將阻礙齒的更換。齒頭和前蓋可以相互連接,例如以銳角方式相互連接。相互連接的齒頭和前蓋的組合影響為適配器的區(qū)域提供了有利的屏蔽,否則其便容易受挖掘(或疏浚)材料的磨損影響。此外,相互連接的齒頭和前蓋相對于對應(yīng)形狀的適配器提供了附加的穩(wěn)定作用,其前部由組合的齒頭和前蓋緊貼地圍繞。在本發(fā)明的實施例中,設(shè)置有鎖定結(jié)構(gòu),所述鎖定結(jié)構(gòu)包括位于所述適配器的所述底切腔的端部處的鎖定構(gòu)件、以及位于所述齒連結(jié)板處的面向所述鎖定構(gòu)件的鎖定部。鎖定構(gòu)件和前蓋可以設(shè)在適配器的相對端處。在實施例中,所述適配器的所述底切腔從相對寬的前端向相對窄的后端逐漸變細(xì),所述齒的所述底座構(gòu)件具有實質(zhì)上相似的逐漸變細(xì)的形狀。根據(jù)本發(fā)明的另一方面,提供一種根據(jù)權(quán)利要求1的前序部分的齒系統(tǒng),其中在適配器區(qū)與齒區(qū)之間設(shè)置有至少一個耐磨部件(例如防磨板)。耐磨部件可以松馳地設(shè)置在適配器的腔的底部與齒的下部之間,或者松馳地設(shè)置在齒的前蓋的后側(cè)與適配器的前端之間,或者松馳地設(shè)置在齒頭與適配器頭之間,這使得(當(dāng)需要時)很容易地用新的耐磨部件替換該部件。在其他實施例中,耐磨部件安裝到適配器,例如使用螺栓安裝。耐磨部件可以在各區(qū)域的整個長度和寬度上延伸,而非由適配器或齒的個別部分限制。耐磨部件的厚度可以對應(yīng)于齒和適配器的區(qū)域之間的最初間隙量,使得間隙被最小化。從以下對本發(fā)明的多個實施例的說明中,本發(fā)明的進一步細(xì)節(jié)、特征、效果和優(yōu)點將變得顯而易見。在本說明中,參考附圖。

      圖1以立體圖示出了根據(jù)本發(fā)明的齒系統(tǒng)的第一實施例的側(cè)部圖;圖2以立體圖示出了第一實施例的后部圖;圖3示出了第一實施例的另一側(cè)部圖;圖4示出了第一實施例的前視圖;圖5示出了根據(jù)本發(fā)明的齒的實施例的側(cè)-后部圖;圖6示出了根據(jù)圖5的齒的實施例的底-后部圖;圖7示出了根據(jù)圖5-6的齒的實施例的底-前部圖;圖8示出了根據(jù)圖5-7的齒的另一側(cè)-頂部圖;圖9示出了根據(jù)圖5-8的齒的后部圖;圖10示出了根據(jù)圖5-9的齒的側(cè)部圖;圖11示出了根據(jù)本發(fā)明的齒系統(tǒng)的適配器實施例的側(cè)-后部圖;圖12示出了圖11的實施例的側(cè)-前部圖;圖13示出了圖11-12的實施例的側(cè)-底部圖;圖14示出了圖11-13的實施例的后部圖;圖15示出了圖11-14的實施例的前部圖;圖16示意性地示出了在第一階段中所連接的適配器和齒;圖17示出了在第二階段中所連接的適配器和齒;圖18不出了從設(shè)置有根據(jù)本發(fā)明的齒系統(tǒng)的實施例的祀頭(draghead)下方的立體圖。如圖中所示,尤其是如圖5-10中所示,根據(jù)本發(fā)明的齒系統(tǒng)I的實施例包括能夠可拆卸地連接到適配器3的齒4。如圖5和圖9中所示,齒4包括齒底座10、齒頭12以及在齒底座10與齒頭12之間延伸的齒連結(jié)板11。齒4還包括從齒頭12延伸的挖掘元件13。挖掘元件13可設(shè)置有一個或多個切削刃9。挖掘元件13可進一步包括從挖掘元件13延伸到齒頭12的多個加強肋20,以加強挖掘元件13。如圖中所示,齒頭12以預(yù)定距離設(shè)在齒底座10的對面。參考圖10,齒4還包括前蓋7,其設(shè)在該齒的前端處并沿橫向方向(通常橫向于齒連結(jié)板11所限定的縱向方向)在齒頭12與齒底座10之間延伸。在使用中,前蓋7包括面向適配器3的前端40的兩個內(nèi)壁18、19。在圖中所示的實施例中,齒頭12和前蓋7相互連接,例如以銳角方式相互連接。齒4的底座10包括基本上橫向延伸至齒連結(jié)板11的多個凸緣。在該齒的前端處設(shè)置有相對寬的凸緣14和15,其從齒連結(jié)板11向側(cè)面延伸,而在該齒的后端處,齒底座10包括凸緣25和26。齒頭12也包括從齒連結(jié)板11向側(cè)面延伸的一對凸緣16、17。在如圖中所示的實施例中,凸緣14-17基本上與齒連結(jié)板11垂直地延伸。在其他實施例中,凸緣14-17中的一個或多個凸緣可以相對于齒連結(jié)板11成一角度地延伸。適配器3包括適配器底座30、適配器頭31和在適配器底座30與適配器頭31之間的兩個相對的直立壁34、35。參考圖11至圖15。適配器頭31包括面對的適配器凸緣36、37。適配器底座30、直立壁34、35和具有壁34、35的適配器凸緣36、37的適配器頭31確定了以基本上縱向的方向延伸的細(xì)長底切腔33。腔33通過在適配器凸緣36、37的位置處的狹縫38而開口。如圖1-15中所示,齒4的齒底座10可以滑入和滑出適配器3的底切腔33。同時,齒4的齒連結(jié)板11可以滑入和滑出狹縫38,從而齒連結(jié)板可以被容納在狹縫中。此外,底切腔33在適配器3的前部分處加寬成一對下凹槽或狹槽45、46,相應(yīng)的底部凸緣14、15可以被容納在所述一對下凹槽或狹槽中。類似地,一對上凹槽或狹槽47、48可設(shè)置在適配器3的適配器頭31中。齒4的齒頭12的相應(yīng)上凸緣16、17可部分或全部地容納在凹槽或狹槽47、48中。在其他實施例中(在圖中未具體示出),上部槽47、48是不存在的。在這些實施例中,齒頭的上凸緣16、17可抵靠在適配器頭31的上(平坦)表面上。由于齒4包括與適配器3的前端40相對的前蓋7,所以適配器3的前端40和齒4的前蓋7 —經(jīng)接觸,則齒4相對于適配器3的滑動運動就受到限制。為了進一步改進齒4相對于適配器3的鎖定,適配器3的前端40包括上述凹槽或狹槽45、46,并且前蓋7和齒底座10的面對的表面(內(nèi)壁18、19)包括被容納于凹槽或狹槽內(nèi)的凸起或凸緣14、15。同樣地,齒頭12的上凸緣16、17可被容納于適配器頭31中的狹槽或凹槽47、48中。齒頭12和前蓋7的另一項功能是,齒頭和前蓋可以相對于由齒系統(tǒng)正在切開的材料的磨蝕作用而保護適配器3。參考圖1和圖2,適配器3的與前端40相對的后端41設(shè)置有用于相對于適配器3鎖定齒4的鎖定結(jié)構(gòu)50。該鎖定結(jié)構(gòu)50包括連接到適配器3的鎖定元件51以及形成齒4一部分的鉤22 (例如,參見圖5)。鎖定元件可以包括銷52,銷能夠可移除地設(shè)置在鉤22的后面,以便相對于適配器鎖定該齒。如前所述,齒4設(shè)置有齒頭12。該齒頭12連接到前蓋7并連接到齒連結(jié)板11。該齒頭12包括兩個齒頭凸緣16、17,所述兩個齒頭凸緣相對于齒連結(jié)板11以相反的橫向方向延伸。在使用中,每一齒頭凸緣16、17作用于對應(yīng)的適配器側(cè)壁34、35,更具體地,作用于設(shè)置于對應(yīng)的適配器側(cè)壁中的凹槽47、48。同樣地,齒底座10連接到前蓋7和齒連結(jié)板11,并包括以相反的橫向方向延伸的兩個齒底座凸緣14、15。在圖中所示的實施例中,上凸緣16、17和下凸緣14、15基本上是平行的。適配器3的內(nèi)部腔33可以具有基本上逐漸變細(xì)的形狀,從前端40處的相對寬的橫截面朝后端41處的相對小的橫截面延伸。同樣地,齒底座10可以具有逐漸變細(xì)的形狀,以便緊貼地裝配在適配器3的內(nèi)部腔33內(nèi)。根據(jù)本發(fā)明的齒系統(tǒng)可以安裝在掘土裝置59處。圖18示出了一個示例,其中齒系統(tǒng)被連接到耙頭。一般地,耙頭包括具有抽吸開口 61的并連接到抽吸嘴62的抽吸室殼體60,其中抽吸嘴被連接到通向疏浚容器(未示出)的箱的抽吸管。此外,壓力管道63被設(shè)置成用于供應(yīng)具有在切割過程中使用的加壓水的多個噴嘴64。根據(jù)本發(fā)明的齒系統(tǒng)I的適配器3安裝在靠近抽吸室殼體60中的抽吸開口 61的齒桿上,其中齒4以這樣的方式設(shè)置,即,在耙頭在水體底部上被拖動(至圖中的右側(cè))的同時,齒4可以在水體底部上施加切割作用。一旦齒系統(tǒng)I的齒4滑入適配器3中并通過鎖定結(jié)構(gòu)50鎖定,齒系統(tǒng)就可以使用了。在使用中,例如在疏浚操作過程中,齒4被牢固地保持在適配器內(nèi)。由于齒4相對于適配器3的連續(xù)運動,齒4和/或適配器3將受到磨損,尤其是在齒4與適配器3接觸的那些部分處受到磨損。適配器和齒最初(在第一使用期中)在多個第一區(qū)接觸,同時適配器和齒在多個第二區(qū)保持自由(即它們未接觸)。參考附圖,尤其是圖6、圖12、圖16和圖17,接觸的區(qū)域(本文中也稱為接觸表面或接觸區(qū)域)位于齒4和適配器3的上部分和下部分處。圖6示出了由齒4的(A)表示的第一區(qū)與適配器接觸。第一區(qū)(A)出現(xiàn)在齒頭12的左凸緣16和右凸緣17的下表面處(圖12中僅示出了在右凸緣17處的區(qū)域)。齒的第一區(qū)(A)與適配器的相應(yīng)第一區(qū)接觸。參考圖12,與齒的第一區(qū)(A)接觸的第一(適配器)區(qū)是區(qū)(D),該區(qū)(D)位于適配器頭31中的凹槽47、48的上表面處。另見圖16,參照A、D。參考圖6,齒4的第一區(qū)(B)(即,齒底座10的底表面)也可與適配器3的對應(yīng)第一區(qū)接觸。參考圖17,在本發(fā)明的一些實施例中,齒4的第一區(qū)(B)與第一區(qū)(E)(參照圖12)(即,適配器3的腔33的底表面)直接接觸。在其他實施例中,例如圖16中所示,齒4的第一區(qū)(B)僅與適配器3的第一區(qū)(E)間接地接觸,因為所謂的耐磨板70設(shè)置在齒底座10的下表面與適配器底座30的上表面(即腔33的底表面)之間、或至少在齒4的一些第一區(qū)(A,B)的與適配器3的第一區(qū)(D,E)之間。耐磨板可通過螺栓或類似附接裝置安裝。該耐磨板主要保護適配器底座免受磨損,并且在該板已磨損的情況下可以方便更換。在上述第一使用期中,適配器3和齒4在第一區(qū)中接觸,并因此局部地受到磨損。在第二區(qū)中,例如齒4的位于齒底座10的凸緣14、15上的第二區(qū)(C,圖6)以及適配器3的位于適配器底座30的前端處的第二區(qū)(F,圖12)最初基本上并未接觸?;旧衔催M行接觸的第二區(qū)在本文中也被稱為間隙區(qū)的間隙表面。在實踐中,位于齒底座10上的上述第二區(qū)
      (C)與適配器底座處的第二區(qū)(F)之間的間隙90最初的范圍是在0.1到2mm之間。由于磨損,間隙將會在第一使用期縮小,直到這些區(qū)域相互接觸(即,零間隙)。最后,第一區(qū)將示出不斷增加的磨損。由于齒4和適配器3的特定設(shè)計,在第一區(qū)中的位置處的磨損將會導(dǎo)致齒和適配器的第二區(qū)之間的間隙縮小。最后,齒4的第二區(qū)(C)也將與適配器3的第二區(qū)(F)接觸。從那時刻起,即在上述第一使用期之后的第二使用期中,適配器3和齒4不僅在第一區(qū)中接觸,而且在齒3和適配器4的第二區(qū)中接觸。因此,第二區(qū)可以部分地接替第一區(qū)的支撐功能,從而減少在第一區(qū)的位置處的磨損。在實踐中,這意味著保養(yǎng)周期(即,在后續(xù)的維修或更換操作之間的周期)可以變得更長。此外,齒和/或適配器的壽命可以延長。由于制造過程的公差,這樣的一種情況可能會發(fā)生,即,在齒4安裝在適配器3中之后,齒4的下凸緣14、15的第二表面C直接抵靠于適配器3的凹槽45、46的第二表面F上;并且齒頭凸緣16、17與對應(yīng)的適配器側(cè)壁34、35 (更具體地,設(shè)置在對應(yīng)的適配器側(cè)壁中的凹槽47、48)之間存在間隙。在這種情況下,本發(fā)明的目的和優(yōu)點仍然存在,其在齒4的齒底座10的底側(cè)處以及在適配器的凹槽45、46的底部和/或底切腔33處具有第一組接觸區(qū),并且在齒頭12與適配器頭31之間具有第二組接觸區(qū)。如在圖6和圖12中可以看出,由第二區(qū)形成的第二接觸表面面積大于由第一區(qū)形成的第一接觸表面面積。第二接觸表面面積可至少是第一接觸表面面積的兩倍,或者甚至可以是第一接觸表面面積的至少三倍。參考附圖可以看出在第二使用期中,在第一接觸區(qū)A、D磨損之后,第二區(qū)B和C將連同E和F、可能連同第一接觸區(qū)A和D而形成接觸區(qū)。因此,在第二使用期中,總接觸表面面積相對于第一使用期顯著增加。這提供了如下優(yōu)點,即齒系統(tǒng)的壽命顯著增加。此外,適配器和齒的第一區(qū)和第二區(qū)至少部分地設(shè)置成一個在另一個上方。如圖(例如圖6和圖12)中可以看出,第一區(qū)和第二區(qū)相對于彼此至少部分地設(shè)置在不同的相對高度,所述高度是在基本上垂直于第一區(qū)和第二區(qū)的方向上。第一區(qū)設(shè)置在第二區(qū)上面,以便第一區(qū)至少部分地與第二區(qū)重疊。這提供了如下優(yōu)點,即,可以在相對小的體積中形成相對大的接觸表面面積。雖然已參考其具體實施例說明了本發(fā)明,但是應(yīng)該理解本發(fā)明不限于這些實施例;并且在不脫離本發(fā)明范圍的情況下,可以對本文中所描述的裝置進行變更和修改。
      權(quán)利要求
      1.一種用于在掘土裝置中使用的齒系統(tǒng),所述掘土裝置諸如疏浚裝置或挖掘裝置,所述齒系統(tǒng)包括齒和適配器,所述齒以能拆卸的方式安裝到所述適配器上, -所述齒包括縱向延伸的齒連結(jié)板、縱向延伸的齒底座以及位于距齒底座一距離處的縱向延伸的齒頭,所述齒底座和齒頭還相對于所述齒連結(jié)板基本上橫向地延伸, -所述適配器包括適配器底座和適配器頭,所述適配器底座待固定到所述掘土裝置上,諸如待固定到耙頭的齒桿上,所述適配器底座與所述適配器頭之間限定有縱向延伸的底切腔,其中所述齒底座能夠滑動地裝配在底切腔內(nèi),并且其中,所述適配器頭能夠滑動地裝配在所述齒底座與所述齒頭之間以用于所述齒相對于所述適配器的前端的安裝和拆卸,所述適配器包括至少一個第一區(qū),所述至少一個第一區(qū)面向所述齒的至少一個對應(yīng)形狀的第一區(qū),并且所述適配器包括至少一個第二區(qū),所述至少一個第二區(qū)面向所述齒的至少一個對應(yīng)形狀的第二區(qū),其中,所述齒和所適配器構(gòu)造和布置成使得,在第一使用期中,所述適配器的所述第一區(qū)和所述齒的所述第一區(qū)是接觸區(qū),并且所述適配器的所述第二區(qū)和所述齒的所述第二區(qū)是間隙區(qū),并且在第二使用期中,在所述第一接觸區(qū)磨損之后,所述適配器的所述第二區(qū)和所述齒的所述第二區(qū)是接觸區(qū)。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的齒系統(tǒng),其中,所述第一區(qū)具有第一接觸表面面積,并且所述第二區(qū)具有第二接觸表面面積,其中所述第二接觸表面面積大于所述第一接觸表面面積。
      3.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的齒系統(tǒng),其中,所述適配器和所述齒的所述第一區(qū)和所述第二區(qū)至少部分地設(shè)置成一個在另一個上方。
      4.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的齒系統(tǒng),其中,所述適配器和所述齒構(gòu)造和布置成,在所述第二使用期中,所述適配器的第一區(qū)和所述齒的第一區(qū)由于磨損而變?yōu)殚g隙區(qū)。
      5.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的齒系統(tǒng),其中,所述適配器和齒構(gòu)造和設(shè)置成使得,在所述第二使用期中,所述適配器和所述齒的第一區(qū)仍然為接觸區(qū)。
      6.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的齒系統(tǒng),其中,所述第一區(qū)布置在所述齒和所述適配器的上部中,并且所述第二區(qū)布置在所述齒和所述適配器的下部中。
      7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的齒系統(tǒng),其中,所述第一區(qū)包括所述齒頭的面向下的至少一個表面以及所述適配器頭的面向上的至少一個表面。
      8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的齒系統(tǒng),其中,所述第二區(qū)包括所述適配器底座的面向上的至少一個表面和所述齒底座的面向下的至少一個表面。
      9.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的齒系統(tǒng),其中,所述齒的第一區(qū)與第二區(qū)之間的第一距離基本上不同于所述適配器的第一區(qū)與第二區(qū)之間的第二距離。
      10.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的齒系統(tǒng),其中,所述適配器頭包括相對的橫向適配器凸緣,所述適配器凸緣在所述適配器凸緣的面對的邊緣處限定狹縫,并且所述適配器凸緣界定所述底切腔,所述齒的連結(jié)板延伸通過所述狹縫且所述齒頭面對所述適配器凸緣。
      11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的齒系統(tǒng),其中,所述齒底座包括在所述齒連結(jié)板的相對側(cè)上延伸的齒底座凸緣,每個齒底座凸緣均面向?qū)?yīng)的適配器凸緣。
      12.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的齒系統(tǒng),其中,所述齒包括前蓋,所述前蓋相對于所述齒頭和所述齒底座橫向地延伸,并且所述前蓋在使用中面對所述適配器的所述前端。
      13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的齒系統(tǒng),其中,所述齒頭和所述前蓋相互連接,例如以銳角的方式相互連接。
      14.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的齒系統(tǒng),其中,設(shè)置有鎖定結(jié)構(gòu),所述鎖定結(jié)構(gòu)包括位于所述適配器的所述底切腔的端部處的鎖定構(gòu)件、以及位于所述齒連結(jié)板處的面向所述鎖定構(gòu)件的鎖定部。
      15.根據(jù)當(dāng)從屬于權(quán)利要求12時的權(quán)利要求14所述的齒系統(tǒng),其中,所述鎖定構(gòu)件和所述前蓋位于所述適配器的相對端處。
      16.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的齒系統(tǒng),其中,所述適配器的所述底切腔從相對寬的前端向相對窄的后端逐漸變細(xì),所述齒的所述底座構(gòu)件具有實質(zhì)上相似的逐漸變細(xì)的形狀。
      17.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的齒系統(tǒng),其中,所述齒包括從所述齒頭延伸的挖掘元件。
      18.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的齒系統(tǒng),其中,適配器區(qū)與齒區(qū)之間設(shè)置有至少一個耐磨部件。
      19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的齒系統(tǒng),其中,所述耐磨部件是板狀元件。
      20.一種掘土裝置,所述掘土裝置例如疏浚裝置或挖掘裝置,所述掘土裝置包括一個或多個根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的齒系統(tǒng)。
      21.一種用于從大量水的底部移除泥土的潛水式疏浚裝置,其中,所述疏浚裝置包括多個根據(jù)權(quán)利要求1-19中任一項所述的系統(tǒng)。
      22.—個或多個根據(jù)前述權(quán)利要求1-19中任一項所述的系統(tǒng)在掘土裝置中的使用。
      全文摘要
      本發(fā)明涉及一種用于在掘土裝置中使用的齒系統(tǒng)(1),該齒系統(tǒng)包括齒(4)和適配器(3),齒可安裝到適配器上。齒(4)包括齒連結(jié)板(11)、齒底座(10)和位于距齒底座(10)一距離處的齒頭(12)。適配器(3)包括適配器底座(30),適配器底座待固定到掘土裝置上,適配器底座與適配器頭之間限定有底切腔,其中齒底座能夠滑動地裝配到底切腔內(nèi)。適配器包括第一區(qū)和第二區(qū),所述適配器的第一區(qū)和第二區(qū)分別面向齒的第一區(qū)以及第二區(qū)。齒和適配器構(gòu)造和設(shè)置成使得,在第一使用期中,適配器的第一區(qū)和齒的第一區(qū)是接觸區(qū),并且適配器的第二區(qū)和齒的第二區(qū)是間隙區(qū),并且在第二使用期中,在第一接觸區(qū)磨損之后,第二區(qū)是接觸區(qū)。
      文檔編號E02F9/28GK103025969SQ201180035935
      公開日2013年4月3日 申請日期2011年5月25日 優(yōu)先權(quán)日2010年5月26日
      發(fā)明者魯洛夫·布雷肯 申請人:Ihc荷蘭Ie有限公司
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