低溫泵、低溫板結構以及真空排氣方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種用于非冷凝性氣體的高速排氣的低溫泵、低溫板結構及真空排氣方法。本發(fā)明的低溫泵（10）具備低溫板（102）的嵌套狀排列。進入到低溫板（102）的嵌套狀排列的間隙中的氫分子被低溫板（102）反射。被反射的氫分子在另一低溫板（102）上被吸附。多個低溫板（102）也可以各自具有倒錐臺形的形狀。
【專利說明】低溫泵、低溫板結構以及真空排氣方法
【技術領域】
[0001]本申請主張基于2012年11月13日申請的日本專利申請第2012-249001號的優(yōu)先權。其申請的全部內容通過參考援用于本說明書中。
[0002]本發(fā)明涉及一種低溫泵。
【背景技術】
[0003]低溫泵為通過冷凝或吸附將氣體分子捕捉到被冷卻成超低溫的低溫板上以進行排氣的真空泵。低溫泵一般用作實現(xiàn)半導體電路制造工藝等所要求的清潔的真空環(huán)境。低溫泵的應用之一，例如像離子注入工序中，例如氫等非冷凝性氣體有時占應排出氣體的一大半。非冷凝性氣體通過吸附在冷卻成超低溫的吸附區(qū)域才能夠被排出。
[0004]專利文獻1:日本特表2008-514849號公報
[0005]專利文獻2:日本特表昭63-501585號公報
[0006]專利文獻3:日本特開平1-92591號公報

【發(fā)明內容】

[0007]本發(fā)明的一方式的例示性目的之一在于提供一種用于非冷凝性氣體的高速排氣的低溫泵、低溫板結構及真空排氣方法。
[0008]根據(jù)本發(fā)明的一方式提供一種如下低溫泵，該低溫泵，具備:
[0009]放射屏蔽件，該放射屏蔽件具備劃定屏蔽件開口的屏蔽件前端、與所述屏蔽件開口對置的屏蔽件底部及從所述屏蔽件前端向所述屏蔽件底部延伸的屏蔽件側部；及
[0010]低溫板總成，該低溫板總成被冷卻成比所述放射屏蔽件更低溫，且具備自所述屏蔽件開口沿朝向所述屏蔽件底部的方向排列的多個低溫板，
[0011 ] 所述多個低溫板具備:
[0012]第I低溫板，該第I低溫板具備第I內側端部及朝向所述屏蔽件側部的第I外側端部；及
[0013]第2低溫板，該第2低溫板具備第2內側端部及朝向所述屏蔽件側部的第2外側端部，
[0014]自所述屏蔽件開口到所述第2內側端部的距離比自所述屏蔽件開口到所述第I內側端部的距離長，自所述屏蔽件開口到所述第2外側端部的距離比自所述屏蔽件開口到所述第I外側端部的距離長，
[0015]自所述屏蔽件開口到所述第2外側端部的距離比自所述屏蔽件開口到所述第I內側端部的距離短。
[0016]根據(jù)本發(fā)明的一方式提供一種如下低溫板結構，該低溫板結構具備多個低溫吸著板，其中，
[0017]所述多個低溫吸著板各自具備在放射方向外側靠近低溫泵入口且在放射方向內側遠離該入口的傾斜正面，該傾斜正面具備非吸附區(qū)域，[0018]所述多個低溫吸著板以如下方式排列成嵌套狀，即相鄰2個低溫吸著板中接近所述低溫泵入口的一個低溫吸著板越過遠離所述低溫泵入口的另一個低溫吸著板的非吸附區(qū)域而向所述低溫泵入口側突出。
[0019]根據(jù)本發(fā)明的一方式提供一種如下低溫板結構，該低溫板結構具備多個低溫吸著板，其中，
[0020]所述多個低溫吸著板各自具備在放射方向外側靠近低溫泵入口且在放射方向內側遠離該入口的傾斜正面，該傾斜正面具有朝向放射屏蔽件的傾斜角度，
[0021]所述多個低溫吸著板以如下方式排列成嵌套狀，即相鄰2個低溫吸著板中接近所述低溫泵入口的一個低溫吸著板越過遠離所述低溫泵入口的另一個低溫吸著板的上端而向所述低溫泵入口側突出。
[0022]根據(jù)本發(fā)明的一方式提供如下方法，即一種通過低溫泵來排出氫氣的真空排氣方法，其中，
[0023]所述低溫泵具備低溫板的嵌套狀排列，本方法具備:
[0024]通過低溫板反射進入到所述嵌套狀排列的間隙中的氫分子的工序；及
[0025]以其他低溫板吸附被反射的氫分子的工序。
[0026]另外，任意組合以上構成要件或在方法、裝置、系統(tǒng)等之間相互置換本發(fā)明的構成要件或表現(xiàn)形式，作為本發(fā)明的方式同樣有效。
[0027]發(fā)明效果
[0028]根據(jù)本發(fā)明，提供一種用于非冷凝性氣體的高速排氣的低溫泵、低溫板以及真空排氣方法。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0029]圖1是示意表示本發(fā)明的一實施方式所涉及的低溫泵的剖視圖。
[0030]圖2是示意表示本發(fā)明的一實施方式所涉及的低溫低溫板的側視圖。
[0031]圖3是示意表示本發(fā)明的一實施方式所涉及的低溫板的立體圖。
[0032]圖4是用于說明圖2所示的低溫板的排列的圖。
[0033]圖5是用于說明氫分子撞到低溫板時的行跡的圖。
[0034]圖6是示意表示本發(fā)明的一實施方式所涉及的低溫板的一部分的圖。
[0035]圖7是用于說明本發(fā)明的一實施方式所涉及的氫氣的真空排氣方法的圖。
[0036]圖8是本發(fā)明的一實施方式所涉及的低溫泵的概略側視圖。
[0037]圖9是本發(fā)明的一實施方式所涉及的低溫泵的概略俯視圖。
[0038]圖中:10_低溫泵，12-泵入口，26-屏蔽件開口，28-屏蔽件前端，30-放射屏蔽件，34-屏蔽件底部，36-屏蔽件側部，38-低溫泵容器，40-前端，100-低溫板總成，102-低溫板，108-傾斜區(qū)域，114-第I低溫板，116-第2低溫板，118-第3低溫板，124-吸附區(qū)域，132-背面，138-背面，140-第I內側端部，141-第I外側端部，143-第2內側端部，144-第2外側端部，146-第3內側端部，147-第3外側端部，152-氫分子，156-狹縫。
【具體實施方式】
[0039]圖1是示意表示本發(fā)明的一實施方式所涉及的低溫泵10的剖視圖。圖1中示出包括低溫泵10的內部空間14的中心軸A及制冷機16在內的截面。
[0040]低溫泵10例如安裝在離子注入裝置或濺射裝置等真空腔室中，用于將真空腔室內部的真空度提高至所需工藝所要求的等級為止。
[0041]低溫泵10具有用作接收氣體的吸氣口的低溫泵入口 12。以下，有時將低溫泵入口12簡單稱為入口 12或泵入口 12。應被排出的氣體從安裝有低溫泵10的真空腔室通過入口 12進入到低溫泵10的內部空間14內。
[0042]另外，以下為將低溫泵10的構成要件之間的位置關系表示得便于理解，有時使用“軸向”、“放射方向”之類的術語。軸向表示穿過泵入口 12的方向(圖1中為沿單點劃線A的方向)，放射方向表示沿入口 12的方向(與單點劃線A垂直的方向)。關于軸向，為方便起見有時將離泵入口 12相對較近的稱為“上”，相對較遠的稱為“下”。即，有時將離低溫泵10的底部相對較遠的稱為“上”，相對較近的稱為“下”。關于放射方向，將離泵入口 12的中心(圖1中為中心軸A)較近的稱為“內”，離入口 12的周緣較近的稱為“外”。放射方向還稱為徑向。另外，這種表現(xiàn)形式與低溫泵10安裝在真空腔室時的配置無關。例如，低溫泵10可以沿鉛垂方向以使泵入口 12朝下的方式安裝到真空腔室。
[0043]低溫栗10具備制冷機16。制冷機16例如為吉福德_麥克馬洪式制冷機(所謂的GM制冷機)等超低溫制冷機。制冷機16為具備第I冷卻臺22及第2冷卻臺24的二級式制冷機。制冷機16構成為將第I冷卻臺22冷卻至第I溫度等級，并將第2冷卻臺24冷卻至第2溫度等級。第2溫度等級的溫度低于第I溫度等級。例如，第I冷卻臺22被冷卻至65K?120K左右，優(yōu)選被冷卻至80K?100K，第2冷卻臺24被冷卻至IOK?20K左右。
[0044]圖1所示的低溫泵10為所謂的臥式低溫泵。臥式低溫泵通常是指制冷機16以與低溫泵10的內部空間14的中心軸A交叉(通常為正交)的方式配設的低溫泵。本發(fā)明同樣能夠應用于所謂的立式低溫泵。所謂立式低溫泵是指制冷機沿低溫泵的軸向配設的低溫栗。
[0045]低溫泵10具備高溫低溫板18及低溫低溫板20。高溫低溫板18主要是為保護低溫低溫板20免受來自低溫泵容器38的輻射熱而設的低溫板。高溫低溫板18具備放射屏蔽件30和入口低溫板32，并包圍低溫低溫板20。高溫低溫板18熱連接于第I冷卻臺22。因此高溫低溫板18被冷卻至第I溫度等級。
[0046]放射屏蔽件30位于低溫泵容器38與低溫低溫板20之間，并包圍低溫低溫板20。放射屏蔽件30具備劃定屏蔽件開口 26的屏蔽件前端28、與屏蔽件開口 26對置的屏蔽件底部34及自屏蔽件前端28向屏蔽件底部34延伸的屏蔽件側部36。
[0047]放射屏蔽件30的軸向上端被開放，在泵入口 12具備屏蔽件開口 26。通過低溫泵容器38的前端40劃定泵入口 12。放射屏蔽件30具有屏蔽件底部34被封閉的筒形(例如圓筒)形狀，并形成為杯狀。屏蔽件側部36具有用于安裝制冷機16的孔，第2冷卻臺24從這里插入到放射屏蔽件30之中。在該安裝孔的外周部，第I冷卻臺22固定于放射屏蔽件30的外表面。如此，放射屏蔽件30熱連接于第I冷卻臺22。
[0048]入口低溫板32配置成占據(jù)泵入口 12的開口面積的中心部分，并在與放射屏蔽件30之間形成環(huán)形的開放區(qū)域。入口低溫板32經(jīng)由板安裝結構158 (參考圖9)安裝在屏蔽件前端28上。如此，入口低溫板32固定于放射屏蔽件30，并熱連接于放射屏蔽件30。入口低溫板32例如可以是圓板形的擋板，也可以是形成為同心圓形的百葉窗形狀，還可以是鋸齒形狀。另外，入口低溫板32雖然靠近低溫低溫板20，但并不與其接觸。
[0049]在入口低溫板32的表面捕捉到以入口低溫板32的冷卻溫度冷凝的氣體(例如水分)。并且，入口低溫板32為保護低溫低溫板20免受來自低溫泵10的外部熱源(例如，安裝有低溫泵10的真空腔室內的熱源)的輻射熱而設。
[0050]低溫低溫板20設置于低溫泵10的內部空間14的中心部。例如低溫低溫板20以包圍放射屏蔽件30的中心軸A的布局配置。圖1中，以虛線表示設置有低溫低溫板20的大致區(qū)域。對于低溫低溫板20的詳細內容隨后進行敘述。低溫低溫板20經(jīng)由板安裝部件112 (參考圖2)安裝于第2冷卻臺24上。以此，低溫低溫板20熱連接于第2冷卻臺24。由此，低溫低溫板20被冷卻至第2溫度等級。
[0051]詳細內容在后面進行敘述，但在低溫低溫板20中，在至少一部分低溫板表面形成有吸附區(qū)域。吸附區(qū)域為通過吸附來捕捉非冷凝性氣體(例如氫)而設。例如通過在低溫板表面上粘結吸附劑(例如活性碳)來形成吸附區(qū)域。并且，在低溫低溫板20的至少一部分低溫板表面形成有用于通過冷凝來捕捉冷凝性氣體的冷凝區(qū)域。冷凝區(qū)域例如為在低溫板表面上缺少吸附劑的區(qū)域，使低溫板基材表面例如金屬表面露出。因此，也能夠將冷凝區(qū)域稱為非吸附區(qū)域。因此，可將低溫低溫板20稱為在其局部具有冷凝區(qū)域(或者還被稱為非吸附區(qū)域)的吸附板或低溫吸著板。并且，也可將低溫低溫板20稱為在其局部具有吸附區(qū)域的冷凝板或低溫冷凝板。
[0052]圖2為示意表示本發(fā)明的一實施方式所涉及的低溫低溫板20的側視圖。另外，為簡明扼要，在圖2中省略了制冷機16的圖示。低溫低溫板20作為具備多個低溫板102的低溫板總成100而構成。多個低溫板102沿著自屏蔽件開口 26朝向屏蔽件底部34的方向(即沿中心軸A)排列。
[0053]在圖2所示的實施方式中，每個低溫板102具有在中心軸A的外側包圍中心軸A的低溫板表面。因此，低溫板總成100具備低溫板102的正面的法線朝中心軸A而向放射方向內向斜上方延伸的多個傾斜低溫板。低溫板總成100具備14片低溫板102。
[0054]圖3為示意表示本發(fā)明的一實施方式所涉及的低溫板102的立體圖。低溫板102具有倒圓錐臺形形狀。低溫板102也可以具有缽形、深盆形或球形形狀。低溫板102在上端部104具有較大的尺寸(即為大徑)，在下端部106具有比其小的尺寸(即為小徑)。
[0055]低溫板102具備連結上端部104和下端部106的傾斜區(qū)域108。傾斜區(qū)域108相當于倒圓錐臺的側面。因此，低溫板102以低溫板102的正面的法線與中心軸A交叉的方式傾斜。傾斜區(qū)域108基本上占據(jù)著放射方向上的該低溫板的整個寬度D。
[0056]其中，如圖3所示，低溫板102也可在下端部106具備安裝部110。安裝部110為平坦區(qū)域。安裝部Iio為用于將低溫板102安裝到板安裝部件112 (參考圖2及圖4)上的凸緣。板安裝部件112為機械地將低溫板102固定并熱連接于制冷機16的第2冷卻臺24(參考圖1)上而設。通過設置這種平坦的安裝凸緣，使得對板安裝部件112安裝低溫板102的作業(yè)變得輕松。
[0057]另外，低溫板102的形狀不限于倒圓錐臺形，可以是其他任意形狀，例如倒錐臺形狀。傾斜區(qū)域108也可以占據(jù)自低溫板102的中心軸的放射方向上的該低溫板的寬度D的至少一半。傾斜區(qū)域108也可以設置于低溫板102的外周部。此時，除傾斜區(qū)域108以外的低溫板102的部分(例如內周部)，也可沿放射方向水平延伸。并且，用于將低溫板102安裝到板安裝部件112上的安裝部110 (參考圖3)并不限于在與低溫板102的中心軸垂直的面上水平延伸的平坦部分。安裝部110例如也可以是包含沿著低溫板102的中心軸在鉛垂方向上延伸的平坦部分的任意非傾斜區(qū)域。
[0058]低溫板102上也可以形成有用于插穿制冷機16的缺口或開口(未圖示)。
[0059]如圖2所示，多個低溫板102以同軸方式配設在放射屏蔽件30的中心軸A上。因此，多個低溫板102各自的傾斜區(qū)域108以如下方式傾斜，即在靠近中心軸A的下端部106(參考圖3)遠離屏蔽件開口 26，并且在遠離中心軸A的上端部104靠近屏蔽件開口 26。傾斜區(qū)域108基本上占據(jù)著自中心軸A的放射方向上的低溫板102的整個寬度?？拷萌肟?2的低溫板102小于遠離泵入口 12的低溫板102。相鄰2個低溫板102中上側低溫板具有小于下側低溫板102的直徑。以此，在上側低溫板與下側低溫板之間形成用于接收氫氣的間隙。
[0060]圖4為用于說明圖2所示的低溫板的排列的圖。圖4中，以虛線表示圖2所示的低溫板總成100的內部結構。
[0061]低溫板總成100中，多個低溫板102排列成嵌套狀。以下，例如以相鄰的3個低溫板114、116、118為例，對該低溫板排列進行說明。將離泵入口 12較近的上側低溫板114稱為第I低溫板114，將3個低溫板中的中間低溫板116稱為第2低溫板116，將離泵入口 12較遠的下側低溫板118稱為第3低溫板118。圖2中，第I低溫板114為下數(shù)第4個低溫板，第2低溫板116為下數(shù)第3個低溫板，第3低溫板118為下數(shù)第2個低溫板。
[0062]以下，利用這3個低溫板114、116、118對低溫板的位置關系進行說明，而如圖所示，希望理解成其他低溫板也具有相同的位置關系。
[0063]為了說明來自屏蔽件前端28的第I視線120和第2視線122，在圖4中以虛線箭頭例示。第I視線120為從屏蔽件前端28向第I低溫板114的外側末端的視線。第2視線122為從屏蔽件前端28向第2低溫板116的外側末端的視線。
[0064]第2低溫板116的正面的第I視線120的軌跡規(guī)定第2低溫板116的正面的吸附區(qū)域124與冷凝區(qū)域126的邊界。并且，第3低溫板118的正面的第2視線122的軌跡規(guī)定第3低溫板118的正面的吸附區(qū)域124與冷凝區(qū)域126的邊界。能夠以相同的方式對剩余低溫板102設定吸附區(qū)域124與冷凝區(qū)域126之間的分界。
[0065]因此，離泵入口 12較遠的低溫板102在相應低溫板的正面的吸附區(qū)域124的面積比率較大。另一方面，離泵入口 12較近的低溫板102在相應低溫板的正面的吸附區(qū)域124的面積比率較小，或者不存在吸附區(qū)域124而整個正面就是冷凝區(qū)域126。尤其，離泵入口12最近的最上部的低溫板137，其整個正面就是冷凝區(qū)域126。離泵入口 12最近的多片低溫板的整個正面也可以是冷凝區(qū)域126。
[0066]回到圖2。低溫板總成100被劃分為上部結構128和下部結構130。上部結構128至少具備I個低溫板102，該至少I個低溫板102具備傾斜區(qū)域108 (參考圖3)，該傾斜區(qū)域具有朝向屏蔽件前端28的傾斜角度。以下，將具有這種傾斜角度的低溫板102稱為上部低溫板。另外，低溫板的傾斜角度是指垂直于中心軸A的平面與低溫板102表面的角度。
[0067]上部低溫板102具有調整為無法從低溫泵10的外部辨識其背面132的傾斜角度。即，背面132(即傾斜區(qū)域108)的傾斜角度被定為，來自屏蔽件前端28的視線不與背面132交叉。因此，如同圖2中以虛線箭頭134表示，上部低溫板102的外側末端朝向屏蔽件前端28的稍下方。因此，每個上部低溫板102的傾斜角度均不相同，越靠上方的低溫板其傾斜角度越小。另外，為了設為無法從低溫泵10的外部辨識上部低溫板102的背面132，代替屏蔽件前端28，有時必須考慮來自低溫泵容器38的前端40的視線。
[0068]低溫板總成100的下部結構130具備至少I個低溫板102。該至少I個低溫板102如同在圖2中以虛線箭頭136表示，具備朝向屏蔽件側部36傾斜的傾斜區(qū)域108 (參考圖3)。以下，將具有這種傾斜角度的低溫板102稱為下部低溫板。即，下部低溫板102具有朝向屏蔽件側部36的傾斜角度，因此無法從低溫泵10的外部辨識其背面138。每個下部低溫板102都具有相同的傾斜角度。
[0069]上部低溫板102的整個背面132上均設有吸附劑。并且，在下部低溫板102的整個背面138上設有吸附劑。如此一來，多個低溫板102各自在無法從低溫泵10的外部辨識的部位具備吸附區(qū)域124。因此，低溫板總成100構成為從低溫泵10的外部完全無法看到吸附區(qū)域124。
[0070]但是，積累在低溫泵中的氣體通常通過再生處理基本上完全被排出，再生結束時，低溫泵恢復到標準規(guī)格的排氣性能。然而，即使經(jīng)過再生處理，所積累的氣體中的一部分成分殘留在吸附劑中的比例仍舊比較高。
[0071]例如，以離子注入裝置的真空排氣用而設置的低溫泵中，觀察到在作為吸附劑的活性碳上附著有粘著性物質的現(xiàn)象。即使經(jīng)再生處理也很難完全去除該粘著性物質。可以認為該粘著性物質由從覆蓋在處理對象基板的光致抗蝕劑中排出的有機類的漏氣所致?；蛘咭灿锌赡苡稍陔x子注入處理中用作摻雜劑氣體即原料氣體的有毒氣體所致。認為也有可能是由離子注入處理中的其他副產(chǎn)氣體所致。也有可能因這些氣體的綜合關系而生成粘著性物質。
[0072]離子注入處理中，低溫泵所排出的氣體大部分有可能是氫氣。氫氣通過再生而基本上被完全排出到外部。只要難再生氣體為微量，則難再生氣體在I次低溫泵處理中對低溫泵的排氣性能影響輕微。然而，在重復低溫泵處理和再生處理期間，難再生氣體有可能漸漸積累到吸附劑中，并逐漸降低排氣性能。排氣性能低于允許范圍時，就需要進行包括例如更換吸附劑或與此同時更換低溫板、或者對吸附劑進行化學性的難再生氣體去除處理在內的維護工作。
[0073]難再生氣體幾乎無一例外的是冷凝性氣體。從外部朝向低溫泵10飛來的冷凝氣體的分子通過入口低溫板32周圍的開放區(qū)域，以直線路徑到達放射屏蔽件30或低溫板總成100的外周的冷凝區(qū)域126，并被捕捉在它們的表面上。通過避免吸附區(qū)域向泵入口 12露出，來保護吸附區(qū)域免受來自包含在進入到低溫泵10的氣體中的難再生氣體的影響。難再生氣體積累在冷凝區(qū)域。因此，能夠兼顧非冷凝性氣體的高速排氣和吸附區(qū)域免受難再生氣體的影響。避免吸附區(qū)域露出也有助于保護吸附區(qū)域免受水分的影響。
[0074]如上所述，多個低溫板102排列成嵌套狀。各低溫板102的正面中，在傾斜區(qū)域108的外側端部具備冷凝區(qū)域126。第I低溫板114的上端部104越過第2低溫板116的冷凝區(qū)域126 (即上端部104)向泵入口 12側(更準確而言為斜上方)突出。離泵入口 12較遠的第2低溫板116包圍離泵入口 12較近的第I低溫板114的傾斜區(qū)域108的一大半及下端部106。如此一來，多個低溫板102沿軸向重合，并緊湊地排列。
[0075]其中，如圖2及圖4所示，多個低溫板102中離入口低溫板32最近的上部低溫板137在軸向上與離入口低溫板32第二近的上部低溫板139不重合。如此，低溫板總成100的上部結構128也可以具備在軸向上分離排列的至少I個低溫板。
[0076]一實施方式中，上部結構128的至少一部分或所有低溫板102可以如同下部結構130的低溫板102 —般平行排列。均平行則方便制作。此時，頂板137的末端朝向低溫泵前端(的稍下方)，比其更靠下方的低溫板可以朝向屏蔽件側部36。
[0077]如圖4所示，第I低溫板114具備第I內側端部140、第I外側端部141、及連結第I內側端部140和第I外側端部141的第I傾斜部142。第2低溫板116具備第2內側端部143、第2外側端部144及連結第2內側端部143和第2外側端部144的第2傾斜部145。第3低溫板118具備第3內側端部146、第3外側端部147及連結第3內側端部146和第3外側端部147的第3傾斜部148。
[0078]這些低溫板114、116、118如上所述沿軸向排列成嵌套狀。內側端部140、143、146為下端部106(參考圖3)，外側端部141、144、147為上端部104(參考圖3)。內側端部140、143、146安裝于板安裝部件112上，低溫板114、116、118的底部被關閉。外側端部141、144、147劃定朝泵入口 12開放的各低溫板114、116、118的入口開口。外側端部141、144、147朝向屏蔽件側部36。
[0079]傾斜部142、145、148為傾斜區(qū)域108 (參考圖3)，且從內側端部140、143、146向外側端部141、144、147直線延伸。傾斜部142、145、148以從屏蔽件底部34朝向屏蔽件開口 26的方式從中心軸A沿放射方向向外延伸。因此，第I低溫板114和第2低溫板116之間存在從中心軸A的附近沿放射方向向外并向斜上直線延伸的第I間隙149。第2低溫板116和第3低溫板118之間存在從中心軸A的附近沿放射方向向外并向斜上直線延伸的第2間隙150。如此一來，低溫板114、116、118被配置成使進入到低溫板114、116、118之間的間隙149、150中的氣體分子通過傾斜部142、145、148上側的傾斜面朝中心軸A反射。
[0080]從離泵入口 12較近的一側開始依次排列第I低溫板114、第2低溫板116、第3低溫板118。因此，從屏蔽件開口 26到第2內側端部143、第2傾斜部145及第2外側端部144的距離比從屏蔽件開口 26到第I內側端部140、第I傾斜部142及第I外側端部141的距離長。同樣，從屏蔽件開口 26到第3內側端部146、第3傾斜部148及第3外側端部147的距離比從屏蔽件開口 26到第2內側端部143、第2傾斜部145及第2外側端部144的距離長。
[0081]并且，自屏蔽件開口 26到第2外側端部144的距離F比自屏蔽件開口 26到第I內偵_部140的距離E短。另外，自屏蔽件開口 26到第3外側端部147的距離G也比自屏蔽件開口 26到第I內側端部140的距離E短。如此，與某一上側的低溫板的內側端部相比，比其更靠下側的幾個低溫板的外側端部更接近泵入口 12。換言之，某一下側的低溫板的傾斜部越過比其更靠上側的幾個低溫板的內側端部而斜上延伸。如此一來，多個低溫板102排列成嵌套狀。
[0082]這種低溫板之間的位置關系不僅適用于下部結構130也適用于上部結構128的幾個低溫板。其中，該位置關系在下部結構130中更顯著。例如，最下方的低溫板151的外側端部比與其相差6片的上方低溫板的內側端部更靠近泵入口 12。
[0083]如此一來，在低溫板114、116、118之間形成有細長的間隙149、150。這些間隙149、150從外側端部141、144、147的間隙入口深入延伸到內側端部140、143、146。間隙的深度大于間隙入口的寬度。其中，間隙的深度是指從外側端部到內側端部的距離，或者，從放射方向外側到內側的傾斜部的長度。低溫板總成100具有如此深的間隙結構，由此能夠提高氫氣的捕捉率。即只要氫分子進入到間隙149、150中就盡量不使其逃到外部，便能夠進行捕捉。
[0084]圖5及圖6是用于說明氫分子撞到低溫板時的行跡的圖。在圖5所示的低溫板排列中，平板的第I低溫板114及第2低溫板116平行排列。第I低溫板114及第2低溫板116沿著與低溫泵中心軸垂直的面延伸。在第2外側端部144的正上方配置有第I外側端部 141。
[0085]能夠認為氫分子152 (或其它氣體分子)碰到低溫板表面時的行跡與光的反射基本相同。但是，氫分子152在低溫板表面并不僅僅進行鏡面反射。氫分子152—旦在低溫板表面被瞬間捕捉，就馬上從低溫板表面再次排出。因此，氫分子152被排出的方向是概率性的而不是特定的。能夠認為氫分子152在所有方向上幾乎以相等的概率被排出。因此，氫分子152的反射與光的不規(guī)則反射相似。圖5及圖6中，以實線箭頭例示所入射的氫分子152的軌跡，并以虛線箭頭例示被反射的氫分子152的軌跡。
[0086]在圖5所示的低溫板排列中，從第2外側端部144觀察第I低溫板114時，被第I低溫板114覆蓋的角度范圍正好等于90度。因此，在第2外側端部144，被反射的氫分子152大致以1/2的概率朝向第I低溫板114的背面，大致以1/2的概率朝向遠離第I低溫板114的方向。
[0087]相對于此，在圖6所示的低溫板排列中，第I低溫板114及第2低溫板116相對于低溫泵中心軸以使各自的外側端部141、144朝向斜上方的方式傾斜。在第2外側端部144的正上方配置有第I外側端部141。另外，如圖2及圖4所示，第2外側端部144也可以位于第I外側端部141的放射方向外側。
[0088]在圖6所示的低溫板排列中，從第2外側端部144觀察第I低溫板114時，被第I低溫板114覆蓋的角度范圍α超過90度。因此，在第2外側端部144，被反射的氫分子152以大于1/2的概率朝向第I低溫板114的背面。氫分子152從第2外側端部144朝向第I低溫板114的概率由角度α確定。盡可能由角度α在氫分子152的整個反射范圍(例如180度)中所占的比例來決定該概率。如此一來，能夠使更多的氫分子152向相鄰的低溫板反射。
[0089]再次參考圖4。與第I低溫板114的第I內側端部140和第2低溫板116的第2內側端部143之間的間隔K相比，第I低溫板114的第I外側端部141與第2低溫板116的第2外側端部144之間的間隔L更窄。即與低溫板的安裝間隔K相比低溫板之間的間隙入口 L更窄。如此一來，能夠使低溫板之間的間隙入口 L靠近泵入口 12。
[0090]低溫板總成100被設置成靠近入口低溫板32。因此，能夠在軸向排列更多的低溫板。另外，在重視減少入射到低溫板總成100的熱量時，可以擴大低溫板總成100與低溫板32之間的間隔。
[0091]圖7是用于說明本發(fā)明的一實施方式所涉及的氫氣的真空排氣方法的圖。如上所述，低溫泵10具備低溫板102的嵌套狀排列。該真空排氣方法具備藉由低溫板102對進入到嵌套狀排列的間隙中的氫分子進行反射的工序及利用另一低溫板102吸附所反射的氫分子的工序。[0092]例如，如圖7中以箭頭P所示，能夠將進入到低溫泵10的氫分子收入低溫板102之間的細長間隙中。入射到間隙中的氫分子通過低溫板表面的反射被導入間隙內部。如箭頭Q所示，碰到上方低溫板的正面的氫分子朝向其緊上方低溫板的背面而被反射。并且，如箭頭R所示，通過放射屏蔽件反射的氫分子也能夠收入到低溫板102之間的細長間隙中。
[0093]如此，低溫板總成100構成為朝向低溫板結構的中心部導入進入到低溫泵10中的氫分子。低溫板結構的中心部形成有吸附區(qū)域。因此，能夠有效吸附氫分子，并能夠實現(xiàn)氫氣的高速排氣。
[0094]本 申請人:先前提出的低溫泵也具備同時滿足氫氣的高速排氣和保護吸附劑的獨立低溫板結構。在該低溫板結構中，每個低溫板沿著與低溫泵的中心軸垂直的平面朝向放射屏蔽件延伸。在圖5中例示出這種低溫板結構。這種低溫泵例如公開于日本專利申請2011-107669號、日本專利申請2011-107670、美國專利申請第13/458699號、及美國專利第13/458751號中。通過參考，均被援用到本申請說明書中。
[0095]此外還通過基于蒙特卡羅法的模擬試驗確認到，具有基于本實施方式的傾斜低溫板的低溫泵的氫氣的排出速度與具有這種臥式低溫板的低溫泵相比大致優(yōu)異20%?30%。
[0096]并且，一真空系統(tǒng)中設置有多個低溫泵。通過使用基于本實施方式的低溫泵，能夠減少低溫泵的設置臺數(shù)。即能夠以較少數(shù)量的低溫泵實現(xiàn)同等的排氣速度。例如以3臺低溫泵代替4臺低溫泵時，低溫泵系統(tǒng)所需的成本大致減至3/4。因此，能夠大幅減少用于構成真空系統(tǒng)的總成本。
[0097]以上，基于實施例對本發(fā)明進行了說明。本發(fā)明并不限于上述實施方式，能夠進行各種設計變更，也有各種變形例，并且這種變形例也屬于本發(fā)明范圍內的事實，行業(yè)人員所普遍知曉的。
[0098]圖8是本發(fā)明的一實施方式所涉及的低溫泵10的概略側視圖。低溫泵10具備低溫板總成100。低溫板總成100具備上部結構128和下部結構130。下部結構130以與參考圖2進行說明的上述實施方式相同的方式構成。圖8中，為了示出整個上部結構128，省略了下部結構130中上側中央部分的圖示。
[0099]上部結構128具備與具有倒錐臺形狀的低溫板102為反向形狀的低溫板103。即上部結構128的低溫板103具有錐臺形狀(例如圓錐臺形狀)。低溫板103也可以是平板。越靠近泵入口 12的低溫板103越大(直徑越大)。但是，即使是離泵入口 12最近的低溫板103也小于入口低溫板32，且還小于下部結構130的低溫板102。上部結構128的低溫板103在其背面具有吸附區(qū)域。上部結構128的低溫板103能夠吸附通過下部結構130的低溫板102被反射的氫分子。
[0100]因此，低溫板總成100具備設置于屏蔽件開口 26和多個低溫板102之間的至少I個吸附板103。至少I個吸附板103向屏蔽件側部36延伸。至少I個吸附板103在背面具備用于吸附通過多個低溫板102被反射的氣體分子的吸附區(qū)域。如此一來，低溫板總成100的上部結構128也可以構成為專門用于吸附的低溫板。
[0101]圖9是本發(fā)明的一實施方式所涉及的低溫泵10的概略頂視圖。為簡明扼要，圖9中僅圖示出多個低溫板102中的I個低溫板102。
[0102]如圖9所示，低溫板102被分割成多個(例如3個以上)板片154。圖9中，低溫板102被分割成6個板片154，每個板片154都具有三角形形狀。因此,低溫板102具有倒六棱錐形狀。另外，板片154的形狀是任意的，例如可以是四邊形。板片154的表面可以是平的，也可是彎曲的。
[0103]板片154之間形成有狹縫156。氣體分子通過狹縫156能夠到達其內部低溫板。這種狹縫156可以設置于圖2所示的低溫板102上，也可以設置于圖8所示的低溫板102上。
[0104]通常，大多氫分子會在低溫板總成100的吸附區(qū)域的外周部分被吸附。通過在低溫板102上設置狹縫156能夠將氫分子導入到低溫板總成100的更靠中心部或更深部。因此，能夠緩解被吸附的氫分子的不均勻分布。由于能夠有效利用中心部或深部的吸附區(qū)域，因此能夠增加氫的存儲量。
[0105]狹縫156也可被配置成多在低溫板總成100的上方，下方較少。即低溫板總成100可在上方稀疏地配置板片154，而在下方則密集地配置。狹縫156也可以不設置于最下方的低溫板102上。并且，狹縫156也可以設置成在相鄰的低溫板102之間彼此錯開。例如，狹縫156也可以被設置成沿軸向自上而下錯開成螺旋狀。
[0106]形成某一低溫板102的多個板片154與未分割的單一的低溫板102同樣，在某一特定的安裝位置上安裝在板安裝部件112上。因此，能夠考慮包含每個板片的安裝位置在內的安裝面，該安裝面是與中心軸A垂直相交的平面。多個板片154也可以以相對于安裝面具有扭轉角的方式安裝。如此一來，也可以以在某一板片154的正面反射的氫分子朝向相鄰的板片154的背面的方式構成低溫板102。
[0107]在某一優(yōu)選實施方式中，低溫板總成100也可以具備上部結構128 (參考圖8)和下部結構130，其中，上部結構128具備多個吸附板103，下部結構130具備各自具有多個狹縫156的多個低溫板102 (參考圖9)。狹縫156也可以不設置于最下方低溫板102上。說起這種低溫板結構，能夠稱其為菠蘿型。對于菠蘿型的低溫板結構，也通過基于蒙特卡羅法的模擬試驗確認到，能夠實現(xiàn)與上述缽形低溫板結構相同的排氫速度。
[0108]另外，圖9中以虛線示出入口低溫板32。與此同時，在圖9中以虛線示出用于將入口低溫板32安裝到放射屏蔽件30上的十字形板安裝結構158。
[0109]能夠以如下形式表示本發(fā)明的實施方式。
[0110]1.一種低溫泵,其中，具備:
[0111]放射屏蔽件，該放射屏蔽件具備劃定屏蔽件開口的屏蔽件前端、與所述屏蔽件開口對置的屏蔽件底部及從所述屏蔽件前端向所述屏蔽件底部延伸的屏蔽件側部；及
[0112]低溫板總成，該低溫板總成被冷卻成比所述放射屏蔽件更低溫，且具備沿著自所述屏蔽件開口朝向所述屏蔽件底部的方向排列的多個低溫板，
[0113]所述多個低溫板具備:
[0114]第I低溫板，該第I低溫板具備第I內側端部及朝向所述屏蔽件側部的第I外側端部；及
[0115]第2低溫板，該第2低溫板具備第2內側端部及朝向所述屏蔽件側部的第2外側端部，
[0116]自所述屏蔽件開口到所述第2內側端部的距離比自所述屏蔽件開口到所述第I內側端部的距離長，自所述屏蔽件開口到所述第2外側端部的距離比自所述屏蔽件開口到所述第I外側端部的距離長，[0117]自所述屏蔽件開口到所述第2外側端部的距離比自所述屏蔽件開口到所述第I內側端部的距離短。
[0118]根據(jù)該方式，第2低溫板在第I低溫板的內部，但是2個低溫板以第2低溫板的外側比第I低溫板的內側更接近屏蔽件開口的方式配置。因此，2個低溫板的間隙從低溫板的內側端部向外側端部斜上延伸。如此，在細長的間隙里收入氫氣，能夠將氫氣導入間隙的內部。因此，能夠有效地捕捉氫氣。
[0119]2.根據(jù)實施方式I所述的低溫泵，其中，
[0120]所述多個低溫板還具備第3低溫板，該第3低溫板具備第3內側端部及朝向所述屏蔽件側部的第3外側端部，
[0121]自所述屏蔽件開口到所述第3內側端部的距離比自所述屏蔽件開口到所述第2內側端部的距離長，自所述屏蔽件開口到所述第3外側端部的距離比自所述屏蔽件開口到所述第2外側端部的距離長，
[0122]自所述屏蔽件開口到所述第3外側端部的距離比自所述屏蔽件開口到所述第I內側端部的距離短。
[0123]3.根據(jù)實施方式I或2所述的低溫泵，其中，
[0124]以從所述第2外側端部觀察所述第I低溫板時被所述第I低溫板覆蓋的角度范圍超過90度的方式而相對于所述第2外側端部配置所述第I低溫板。
[0125]4.根據(jù)實施方式I至3中任一項所述的低溫泵，其中，
[0126]所述多個低溫板各自具備傾斜區(qū)域，該傾斜區(qū)域以在離所述放射屏蔽件的中心軸較近的部位遠離所述屏蔽件開口且在離所述中心軸較遠的部位靠近所述屏蔽件開口的方式傾斜，且自所述中心軸的放射方向上的相應低溫板的寬度的至少一半為所述傾斜區(qū)域。
[0127]5.根據(jù)實施方式4所述的低溫泵，其中，
[0128]基本上整個所述寬度就是所述傾斜區(qū)域。
[0129]6.根據(jù)實施方式4或5所述的低溫泵，其中，
[0130]所述低溫板總成，具備用于支承所述多個低溫板的支承部件，
[0131]所述多個低溫板各自具備用于將相應低溫板安裝到所述支承部件上的非傾斜區(qū)域。
[0132]7.根據(jù)實施方式I至6中任一項所述的低溫泵，其中，
[0133]所述多個低溫板各自具有倒錐臺形的形狀。
[0134]8.根據(jù)實施方式I至7中任一項所述的低溫泵，其中，
[0135]所述多個低溫板在無法從低溫泵外部辨識的部位具備吸附區(qū)域。
[0136]9.根據(jù)實施方式I至8中任一項所述的低溫泵，其中，
[0137]所述低溫板總成還具備設置于所述屏蔽件開口與所述多個低溫板之間的至少I低溫板，
[0138]所述至少I個低溫板向所述屏蔽件前端或低溫泵容器前端傾斜。
[0139]10.根據(jù)實施方式9所述的低溫泵，其中，
[0140]所述至少I個低溫板具有傾斜角度，且該傾斜角度被調整為無法從低溫泵外部辨識所述至少I個低溫板的背面。
[0141]11.根據(jù)實施方式I至10中任一項所述的低溫泵，其中，[0142]所述低溫板總成還具備設置于所述屏蔽件開口與所述多個低溫板之間的至少I個吸附板，
[0143]所述至少I個吸附板向所述屏蔽件側部延伸，
[0144]所述至少I個吸附板在背面具備用于吸附被所述多個低溫板反射的氣體分子的吸附區(qū)域。
[0145]12.根據(jù)實施方式I至11中任一項所述的低溫泵，其中，
[0146]所述多個低溫板中的至少I個低溫板上形成有能夠使氣體分子通過的狹縫。
[0147]13.根據(jù)實施方式I至12中任一項所述的低溫泵，其中，
[0148]在所述第I低溫板與所述第2低溫板之間形成的間隙的深度大于該間隙的入口的覽度。
[0149]14.一種低溫板結構，其具備多個低溫吸著板，其中，
[0150]所述多個低溫吸著板各自具備在放射方向外側靠近低溫泵入口且在放射方向內側遠離該入口的傾斜正面，該傾斜正面具備非吸附區(qū)域，
[0151]所述多個低溫吸著板以如下方式排列成嵌套狀，即相鄰2個低溫吸著板中接近所述低溫泵入口的一個低溫吸著板越過遠離所述低溫泵入口的另一個低溫吸著板的非吸附區(qū)域而向所述低溫泵入口側突出。
[0152]根據(jù)該實施方式相鄰的2個低溫吸著板排列成嵌套狀。在這種成嵌套狀排列間隙中收入氫氣，并能夠將氫氣導入到間隙的內部。因此，能夠有效地捕捉氫氣。
[0153]15.根據(jù)實施方式14所述的低溫板結構，其中，
[0154]所述多個低溫吸著板各自具有在靠近所述低溫泵入口的一側具有較大尺寸且在遠離所述低溫泵入口的一側具有較小尺寸的倒錐臺形的形狀，
[0155]所述多個低溫吸著板以所述另一個低溫吸著板包圍所述一個低溫吸著板的方式排列。
[0156]16.根據(jù)實施方式14或15所述的低溫泵，其中，
[0157]所述非吸附區(qū)域形成于通過所述低溫泵入口可辨識的所述多個低溫吸著板的外周部。
[0158]17.一種低溫板結構，其具備多個低溫吸著板，其中，
[0159]所述多個低溫吸著板各自具備在放射方向外側靠近低溫泵入口且在放射方向內側遠離該入口的傾斜正面，該傾斜正面具有朝向放射屏蔽件的傾斜角度，
[0160]所述多個低溫吸著板以如下方式排列成嵌套狀，即相鄰2個低溫吸著板中接近所述低溫泵入口的一個低溫吸著板越過遠離所述低溫泵入口的另一個低溫吸著板的上端而向所述低溫泵入口側突出。
[0161]18.一種真空排氣方法，其通過低溫泵來排出氫氣，其中，
[0162]所述低溫泵具備低溫板的嵌套狀排列，本方法具備:
[0163]通過低溫板反射進入到所述嵌套狀排列的間隙中的氫分子的工序；及
[0164]以其他低溫板吸附被反射的氫分子的工序。
【權利要求】
1.一種低溫泵，其特征在于，具備: 放射屏蔽件，該放射屏蔽件具備劃定屏蔽件開口的屏蔽件前端、與所述屏蔽件開口對置的屏蔽件底部及從所述屏蔽件前端向所述屏蔽件底部延伸的屏蔽件側部；及 低溫板總成，該低溫板總成被冷卻成比所述放射屏蔽件更低溫，且具備沿著自所述屏蔽件開口朝向所述屏蔽件底部的方向排列的多個低溫板， 所述多個低溫板具備: 第I低溫板，該第I低溫板具備第I內側端部及朝向所述屏蔽件側部的第I外側端部；及 第2低溫板，該第2低溫板具備第2內側端部及朝向所述屏蔽件側部的第2外側端部，自所述屏蔽件開口到所述第2內側端部的距離比自所述屏蔽件開口到所述第I內側端部的距離長，自所述屏蔽件開口到所述第2外側端部的距離比自所述屏蔽件開口到所述第I外側端部的距離長， 自所述屏蔽件開口到所述第2外側端部的距離比自所述屏蔽件開口到所述第I內側端部的距離短。
2.根據(jù)權利要求1所述的低溫泵，其特征在于， 所述多個低溫板還具備第3低溫板，該第3低溫板具備第3內側端部及朝向所述屏蔽件側部的第3外側端部， 自所述屏蔽件開口到所述第3內側端部的距離比自所述屏蔽件開口到所述第2內側端部的距離長，自所述屏蔽件開口到所述第3外側端部的距離比自所述屏蔽件開口到所述第2外側端部的距離長， 自所述屏蔽件開口到所述第3外側端部的距離比自所述屏蔽件開口到所述第I內側端部的距離短。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的低溫泵，其特征在于， 以從所述第2外側端部觀察所述第I低溫板時被所述第1低溫板覆蓋的角度范圍超過90度的方式而相對于所述第2外側端部配置所述第1低溫板。
4.根據(jù)權利要求1至3中任一項所述的低溫泵，其特征在于， 所述多個低溫板各自具備傾斜區(qū)域，該傾斜區(qū)域以在離所述放射屏蔽件的中心軸近的部位遠離所述屏蔽件開口且在離所述中心軸遠的部位靠近所述屏蔽件開口的方式傾斜，且自所述中心軸的放射方向上的相應低溫板的寬度的至少一半為所述傾斜區(qū)域。
5.根據(jù)權利要求4所述的低溫泵，其特征在于， 基本上整個所述寬度就是所述傾斜區(qū)域。
6.根據(jù)權利要求4或5所述的低溫泵，其特征在于， 所述低溫板總成具備用于支承所述多個低溫板的支承部件， 所述多個低溫板各自具備用于將相應低溫板安裝到所述支承部件上的非傾斜區(qū)域。
7.根據(jù)權利要求1至6中任一項所述的低溫泵，其特征在于， 所述多個低溫板各自具有倒錐臺形的形狀。
8.根據(jù)權利要求1至7中任一項所述的低溫泵，其特征在于， 所述多個低溫板在無法從低溫泵外部辨識的部位具備吸附區(qū)域。
9.根據(jù)權利要求1至8中任一項所述的低溫泵，其特征在于，所述低溫板總成還具備設置于所述屏蔽件開口與所述多個低溫板之間的至少I個低溫板， 所述至少1個低溫板向所述屏蔽件前端或低溫泵容器前端傾斜。
10.根據(jù)權利要求9所述的低溫泵，其特征在于， 所述至少I個低溫板具有傾斜角度，且該傾斜角度被調整為無法從低溫泵外部辨識所述至少I個低溫板的背面。
11.根據(jù)權利要求1至10中任一項所述的低溫泵，其特征在于， 所述低溫板總成還具備設置于所述屏蔽件開口與所述多個低溫板之間的至少I個吸附板， 所述至少I個吸附板向所述屏蔽件側部延伸， 所述至少I個吸附板在背面具備用于吸附被所述多個低溫板反射的氣體分子的吸附區(qū)域。
12.根據(jù)權利要求1至11中任一項所述的低溫泵，其特征在于， 所述多個低溫板中的至少1個低溫板上形成有能夠使氣體分子通過的狹縫。
13.根據(jù)權利要求1至12中任一項所述的低溫泵，其特征在于， 在所述第I低溫板與所述第2低溫板之間形成的間隙的深度大于該間隙的入口的寬度。
14.一種低溫板結構，其具備多個低溫吸著板，該低溫板結構的特征在于， 所述多個低溫吸著板各自具備在放射方向外側靠近低溫泵入口且在放射方向內側遠離該入口的傾斜正面，該傾斜正面具備非吸附區(qū)域， 所述多個低溫吸著板以如下方式排列成嵌套狀，即相鄰2個低溫吸著板中接近所述低溫泵入口的一個低溫吸著板越過遠離所述低溫泵入口的另一個低溫吸著板的非吸附區(qū)域而向所述低溫泵入口側突出。
15.根據(jù)權利要求14所述的低溫板結構，其特征在于， 所述多個低溫吸著板各自具有在靠近所述低溫泵入口的一側具有較大尺寸且在遠離所述低溫泵入口的一側具有較小尺寸的倒錐臺形的形狀， 所述多個低溫吸著板以所述另一個低溫吸著板包圍所述一個低溫吸著板的方式排列。
16.根據(jù)權利要求14或15所述的低溫泵，其特征在于， 所述非吸附區(qū)域形成于通過所述低溫泵入口可辨識的所述多個低溫吸著板的外周部。
17.—種低溫板結構，其具備多個低溫吸著板，該低溫板結構的特征在于， 所述多個低溫吸著板各自具備在放射方向外側靠近低溫泵入口且在放射方向內側遠離該入口的傾斜正面，該傾斜正面具有朝向放射屏蔽件的傾斜角度， 所述多個低溫吸著板以如下方式排列成嵌套狀，即相鄰2個低溫吸著板中接近所述低溫泵入口的一個低溫吸著板越過遠離所述低溫泵入口的另一個低溫吸著板的上端而向所述低溫泵入口側突出。
18.—種真空排氣方法,其通過低溫泵排出氫氣，其特征在于， 所述低溫泵具備低溫板的嵌套狀排列，本方法包括: 通過低溫板來反射進入到所述嵌套狀排列的間隙中的氫分子；及 以其他低溫板吸附被反射的氫分子。
【文檔編號】F04B39/00GK103807140SQ201310567475
【公開日】2014年5月21日 申請日期:2013年11月13日 優(yōu)先權日:2012年11月13日
【發(fā)明者】高橋走 申請人:住友重機械工業(yè)株式會社