本發(fā)明涉及一種真空操作設(shè)備，特別是涉及一種帶排液罐的真空操作設(shè)備。

背景技術(shù)：

真空的含義是指在給定的空間內(nèi)低于一個(gè)大氣壓力的氣體狀態(tài)，是一種物理現(xiàn)象。在“虛空”中，聲音因?yàn)闆]有介質(zhì)而無法傳遞，但電磁波的傳遞卻不受真空的影響。事實(shí)上，在真空技術(shù)里，真空系針對大氣而言，一特定空間內(nèi)部之部份物質(zhì)被排出，使其壓力小于一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)大氣壓，則我們通稱此空間為真空或真空狀態(tài)。真空常用帕斯卡(Pascal)或托爾(Torr)做為壓力的單位。在自然環(huán)境里，只有外太空堪稱最接近真空的空間。

在真空科學(xué)中，真空的含義是指在給定的空間內(nèi)低于一個(gè)大氣壓力的氣體狀態(tài)。人們通常把這種稀薄的氣體狀態(tài)稱為真空狀況。這種特定的真空狀態(tài)與人類賴以生存的大氣在狀態(tài)相比較，主要有如下幾個(gè)基本特點(diǎn)：真空狀態(tài)下的氣體壓力低于一個(gè)大氣壓，因此，處于地球表面上的各種真空容器中，必將受到大氣壓力的作用，其壓強(qiáng)差的大小由容器內(nèi)外的壓差值而定。由于作用在地球表面上的一個(gè)大氣壓約為101325N/m^2，因此當(dāng)容器內(nèi)壓力很小時(shí)，則容器所承受的大氣壓力可達(dá)到一個(gè)大氣壓。真空狀態(tài)下由于氣體稀薄，單位體積內(nèi)的氣體分子數(shù)，即氣體的分子密度小于大氣壓力的氣體分子密度。因此，分子之間、分子與其他質(zhì)點(diǎn)(如電子、離子等)之間以及分子與各種表面(如器壁)之間相互碰撞次數(shù)相對減少，使氣體的分子自由程增大。

真空技術(shù)包括真空的獲得、測量和應(yīng)用?；钊谩⑿玫韧ㄟ^活塞或旋片的不斷運(yùn)動，改變泵體的體積，把氣體排放出去，獲得真空。擴(kuò)散泵用高速運(yùn)動的氣流，把擴(kuò)散到泵體的氣體分子帶走。此外還有利用低溫表面來冷凝或凍結(jié)氣體的低溫泵，如液氦冷凝泵；利用吸氣材料如活性炭等吸氣作用的吸附泵，等等。測量真空度即測量稀薄氣體壓強(qiáng)的量具叫做真空規(guī)或真空計(jì)?？煞譃榻^對真空計(jì)和相對真空計(jì)兩類。前者通過本身測出的物理量直接求出氣壓的大小，如U形管、薄膜計(jì)、麥克勞真空計(jì)(利用玻意耳定律)，熱偶真空計(jì)等；后者必須經(jīng)過絕對真空計(jì)的校正才能測定氣壓，如電離真空計(jì)、皮拉尼真空計(jì)、阻尼真空計(jì)等。

利用真空與地面大氣的壓強(qiáng)差，可以輸運(yùn)流體、吸塵等。利用真空中氣體分子密度小的特征，可以制造各種電真空器件如電光源、電子管等。真空環(huán)境有利于某些金屬的焊接、熔煉，某些低熔點(diǎn)金屬如Mg、Li、Zn等的分餾、純化，以及某些活性金屬如Ca、Li、Cs等的氧化物還原，真空環(huán)境(1～10-1Pa)下的低溫脫水，真空干燥已成功地用于濃縮食品、奶粉， 制造血漿等。同位素分離，大規(guī)模集成電路的加工，鍍膜等也都需要在真空環(huán)境下進(jìn)行。在科學(xué)研究中，例如表面物理實(shí)驗(yàn)，各種加速器、聚變反應(yīng)和空間環(huán)境模擬等都離不開真空。

而現(xiàn)有技術(shù)中，真空條件的獲得一般通過冷凝器和真空泵來實(shí)現(xiàn)，但是在實(shí)際工業(yè)制造中，往往會發(fā)現(xiàn)長期使用后，真空泵容易出現(xiàn)卡死現(xiàn)象，這是由于真空泵中存在一定量的液體而導(dǎo)致的，通常情況下，我們對真空泵的排液是通過真空泵中自帶的緩沖罐來進(jìn)行，當(dāng)需要排液時(shí)，需在整個(gè)設(shè)備停止運(yùn)行的情況下進(jìn)行真空泵的排液，這樣降低了整個(gè)真空操作設(shè)備的工作效率，不利于工業(yè)上大規(guī)模生產(chǎn)使用。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

發(fā)明目的：本發(fā)明的目的是為了解決現(xiàn)有技術(shù)中的不足，提供一種能保護(hù)真空泵，防止真空泵被卡死，且能保證整個(gè)真空系統(tǒng)能連續(xù)穩(wěn)定運(yùn)行的帶排液罐的真空操作設(shè)備。

技術(shù)方案：本發(fā)明所述的一種帶排液罐的真空操作設(shè)備，包括依次通過管道連通的真空塔、冷凝器組、真空泵；

所述真空泵下方通過排液管連接有排液罐，所述排液管上安裝有常開閥；

所述排液罐包括罐體、放水管、放空管，所述放水管位于罐體下端側(cè)壁位置且與罐體內(nèi)部連通，所述放空管位于罐體上端表面位置且與罐體內(nèi)部連通，所述放水管上安裝有放水閥，所述放空管上安裝有放空閥。

進(jìn)一步的，所述冷凝器組包括相通的主冷凝器和尾冷凝器，所述主冷凝器下端位置比尾冷凝器下端位置低，所述主冷凝器和尾冷凝器通過兩端分別位于主冷凝器下端側(cè)壁和尾冷凝器下端側(cè)壁的未冷卻氣體管路來連通。

進(jìn)一步優(yōu)選的，所述主冷凝器和尾冷凝器的上端均設(shè)置有冷水進(jìn)口，下端底部均設(shè)置有冷凝水出口。

進(jìn)一步的，所述排液罐罐體內(nèi)部安裝有液位計(jì)，所述液位計(jì)為音叉振動式或磁浮式或壓力式或超聲波式中的任意一種。

有益效果：本發(fā)明通過在原有的真空操作系統(tǒng)的真空泵下方安裝一個(gè)排液罐來將真空操作系統(tǒng)中流入真空泵的液體排出；在整個(gè)設(shè)備正常運(yùn)行時(shí)，排液管上的常開閥處于常開狀態(tài)，放水管和放空管上的放水閥和放空閥處于關(guān)閉狀態(tài)，排液罐的罐體通過排液管來存儲真空泵中的液體，當(dāng)排液罐罐體內(nèi)的液位計(jì)檢測到罐體內(nèi)部的液體到達(dá)一定液位時(shí)，排液管上的常開閥關(guān)閉，放水管和放空管上的放水閥和放空閥打開，對排液罐內(nèi)的液體進(jìn)行排放，而在這個(gè)排液過程中整個(gè)真空操作設(shè)備還在正常運(yùn)行，不影響設(shè)備的工作效率；同時(shí)通過主冷凝器和尾冷凝器來對氣體進(jìn)行冷凝，經(jīng)過主冷凝器的氣體一部分變成冷凝水從冷凝水出口排出，剩余未冷卻的氣體通過未冷卻氣體管路在尾冷凝器中進(jìn)一步冷凝，本設(shè)計(jì)使冷凝效果更好， 流入真空泵的液體盡可能最少，還能保護(hù)真空泵不會因?yàn)槎诜e過多的液體而導(dǎo)致卡死，延長了設(shè)備的使用壽命。

附圖說明

圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。

附圖標(biāo)號：1、真空塔，21、主冷凝器，22、尾冷凝器，23、未冷卻氣體管路，24、冷水進(jìn)口，25、冷凝水出口，3、真空泵，4、排液管，5、排液罐，51、罐體，52、放水管，53、放空管，6、常開閥，7、放水閥，8、放空閥。

具體實(shí)施方式

以下由特定的具體實(shí)施例說明本發(fā)明的實(shí)施方式，熟悉此技術(shù)的人士可由本說明書所揭露的內(nèi)容輕易地了解本發(fā)明的其他優(yōu)點(diǎn)及功效。

如圖1所示，一種帶排液罐的真空操作設(shè)備，包括依次通過管道連通的真空塔1、冷凝器組、真空泵3。

真空泵3下方通過排液管4連接有排液罐5，排液管4上安裝有常開閥6。排液罐5包括罐體51、放水管52、放空管53，放水管52位于罐體51下端側(cè)壁位置且與罐體51內(nèi)部連通，放空管53位于罐體51上端表面位置且與罐體51內(nèi)部連通，放水管52上安裝有放水閥7，放空管53上安裝有放空閥8。

作為對本發(fā)明的進(jìn)一步優(yōu)化，冷凝器組包括相通的主冷凝器21和尾冷凝器22，主冷凝器21下端位置比尾冷凝器22下端位置低，主冷凝器21和尾冷凝器22通過兩端分別位于主冷凝器21下端側(cè)壁和尾冷凝器22下端側(cè)壁的未冷卻氣體管路23來連通。主冷凝器21和尾冷凝器22的上端均設(shè)置有冷水進(jìn)口24，下端底部均設(shè)置有冷凝水出口25。排液罐5罐體51內(nèi)部安裝有液位計(jì)，液位計(jì)為音叉振動式或磁浮式或壓力式或超聲波式中的任意一種。

在整個(gè)設(shè)備正常運(yùn)行時(shí)，首先通過真空泵3的作用，真空塔1內(nèi)的氣體經(jīng)冷凝器組進(jìn)行冷凝，經(jīng)過主冷凝器21的氣體一部分變成冷凝水從冷凝水出口25排出，剩余未冷卻的氣體通過未冷卻氣體管路23在尾冷凝器22中進(jìn)一步冷凝。此時(shí)排液管4上的常開閥6處于常開狀態(tài)，放水管52和放空管53上的放水閥7和放空閥8處于關(guān)閉狀態(tài)，排液罐5的罐體51通過排液管4來存儲真空泵3中的液體，當(dāng)排液罐5罐體51內(nèi)的液位計(jì)檢測到罐體51內(nèi)部的液體到達(dá)一定液位時(shí)，排液管4上的常開閥6關(guān)閉，放水管52和放空管53上的放水閥7和放空閥8打開，對排液罐5內(nèi)的液體進(jìn)行排放，排液完成后，關(guān)閉放水閥7和放空閥8，打開常開閥6，繼續(xù)進(jìn)行排液罐5的儲液。

本發(fā)明的設(shè)計(jì)原理是通過在原有的真空操作系統(tǒng)的真空泵3下方安裝一個(gè)排液罐5來將真空操作系統(tǒng)中流入真空泵3的液體排出；同時(shí)通過主冷凝器21和尾冷凝器22來對氣體進(jìn) 行冷凝，本設(shè)計(jì)使冷凝效果更好，流入真空泵3的液體盡可能最少，還能及時(shí)排放真空泵3中的液體，保護(hù)真空泵3不會因?yàn)槎诜e過多的液體而導(dǎo)致卡死，延長了設(shè)備的使用壽命，而且在這個(gè)排液過程中整個(gè)真空操作設(shè)備還在正常運(yùn)行，不影響設(shè)備的工作效率。