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      真空泵的制作方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本發(fā)明涉及真空栗,尤其涉及能夠在中真空至超高真空的壓力范圍內(nèi)利用的真空栗Ο
      【背景技術(shù)】
      [0002]在制造存儲器或集成電路等半導(dǎo)體裝置時,為了避免空氣中的塵土等所造成的影響,有必要在尚真空狀態(tài)的室內(nèi)對尚純度的半導(dǎo)體基板(晶圓)進彳丁慘雜或蝕刻,在室內(nèi)的排氣中,例如,使用渦輪分子栗等真空栗。
      [0003]作為這樣的真空栗,已知如下的真空栗:具備螺紋槽栗機構(gòu),該機構(gòu)由具有外筒轉(zhuǎn)子和內(nèi)筒轉(zhuǎn)子的轉(zhuǎn)子、具有交替地定位在外筒轉(zhuǎn)子與內(nèi)筒轉(zhuǎn)子之間的外筒定子和內(nèi)筒定子的定子、以及在定子的與轉(zhuǎn)子對置的壁面雕刻設(shè)置的螺紋槽構(gòu)成,氣體在螺紋槽栗機構(gòu)內(nèi)沿上下方向以S字狀升降而排氣(例如,參照專利文獻1)。
      [0004]另外,作為另一真空栗,已知如下的真空栗:具備螺紋槽栗機構(gòu),該機構(gòu)由大致圓筒狀的殼體、配置在殼體的軸線部的大致圓筒狀的定子、以轉(zhuǎn)子軸能夠旋轉(zhuǎn)驅(qū)動的方式由定子的軸線部支撐且在殼體與定子之間具有大致圓筒狀的筒部的轉(zhuǎn)子、分別設(shè)置在殼體的與筒部對置的內(nèi)周面和定子的與筒部對置的外周面的突條部、以及螺紋槽構(gòu)成,氣體在螺紋槽栗機構(gòu)內(nèi)從上下方向的上方排氣至下方(例如,參照專利文獻2)。
      [0005]在先技術(shù)文獻專利文獻
      專利文獻1:日本專利第3961273號公報。
      [0006]專利文獻2:日本實開平5-38389號公報。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0007]發(fā)明要解決的課題
      然而,在如上所述的前一真空栗中,如圖7所示,內(nèi)筒定子90的螺紋槽91的排氣側(cè)出口 91a附近的氣體越過突條部92的排氣側(cè)端部92a而流入內(nèi)筒轉(zhuǎn)子93的旋轉(zhuǎn)方向R的前方的螺紋槽91 (由圖7中的箭頭A表示流入的氣流),在氣體流入的螺紋槽91的排氣側(cè)出口 91a附近,氣流紊亂而容易產(chǎn)生氣體的滯留。
      [0008]另外,在螺紋槽栗機構(gòu)的排氣部,例如內(nèi)筒定子90的上端面90a附近,如圖8中的箭頭B所示,氣體有時候不是輸送至內(nèi)筒定子90的內(nèi)周側(cè),而是沿著內(nèi)筒轉(zhuǎn)子93的旋轉(zhuǎn)方向R以環(huán)狀回旋并滯留。如圖8中的箭頭C所示,這樣的滯留于排氣部的氣體逆流至內(nèi)筒定子90的外周側(cè),在氣體逆流的螺紋槽91的排氣側(cè)出口 91a附近,氣流紊亂而容易產(chǎn)生氣體的滯留。
      [0009]另外,在如上所述的前一和后一真空栗中,在轉(zhuǎn)子的筒部的下端面,壓縮后的氣體有時候沿著轉(zhuǎn)子旋轉(zhuǎn)方向以環(huán)狀回旋并滯留?;匦舻臍怏w在螺紋槽栗機構(gòu)內(nèi)逆流至上方而使螺紋槽的排氣側(cè)出口處的氣流紊亂,氣體有時候滯留在螺紋槽的排氣側(cè)出口。
      [0010]由于如果如上所述地氣體滯留于螺紋槽的排氣側(cè)出口,則所滯留的氣體在高壓下固化而氣體生成物堆積,螺紋槽的排氣側(cè)出口的流路變窄,因而有可能壓縮比下降,栗性能下降。
      [0011]于是,產(chǎn)生為了抑制螺紋槽的排氣側(cè)出口處的氣體生成物的產(chǎn)生并在長期內(nèi)維持栗性能而應(yīng)該解決的技術(shù)課題,本發(fā)明的目的在于解決該課題。
      [0012]用于解決課題的方案
      本發(fā)明是為了達成上述目的而提出的,權(quán)利要求1記載的發(fā)明提供一種真空栗,該真空栗具備螺紋槽栗機構(gòu),該螺紋槽栗機構(gòu)具有:轉(zhuǎn)子圓筒部,設(shè)置在能夠沿既定的旋轉(zhuǎn)方向旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)子;大致圓筒狀的定子,在該轉(zhuǎn)子圓筒部經(jīng)由間隙而配置在與前述轉(zhuǎn)子圓筒部相同的軸上;多個突條部,在該定子的與前述轉(zhuǎn)子圓筒部對置的對置面或前述轉(zhuǎn)子圓筒部的與前述定子對置的對置面沿著氣體排氣方向延伸設(shè)置;以及螺紋槽,雕刻設(shè)置在該多個突條部之間,該真空栗將前述螺紋槽內(nèi)的氣體從前述氣體排氣方向的吸氣側(cè)向排氣側(cè)傳送,具備抑制前述螺紋槽的排氣側(cè)出口處的氣體的滯留的氣體滯留抑制裝置。
      [0013]依據(jù)該構(gòu)成,由于氣體滯留抑制裝置抑制螺紋槽的排氣側(cè)出口處的氣體的滯留,因而能夠抑制起因于氣體滯留于螺紋槽的排氣側(cè)出口而導(dǎo)致的氣體生成物的堆積。
      [0014]權(quán)利要求2記載的發(fā)明提供如下的真空栗:除了權(quán)利要求1記載的發(fā)明的構(gòu)成之夕卜,前述氣體滯留抑制裝置是將前述突條部的前述氣體排氣方向的排氣側(cè)的排氣側(cè)端部比前述氣體排氣方向的吸氣側(cè)的吸氣側(cè)端部加寬而形成的流入抑制壁。
      [0015]依據(jù)該構(gòu)成,由于通過以在突條部的排氣側(cè)端部設(shè)置流入抑制壁的程度使突條部的密封長度變長,從而抑制螺紋槽的排氣側(cè)出口的氣體越過排氣側(cè)端部而流入轉(zhuǎn)子的旋轉(zhuǎn)方向前方的螺紋槽,因而抑制螺紋槽的排氣側(cè)出口處的氣體的滯留,能夠抑制起因于氣體滯留于螺紋槽的排氣側(cè)出口而導(dǎo)致的氣體生成物的堆積。
      [0016]權(quán)利要求3記載的發(fā)明提供如下的真空栗:除了權(quán)利要求2記載的發(fā)明的構(gòu)成之外,前述流入抑制壁以沿著前述氣體排氣方向從吸氣側(cè)朝向排氣側(cè)逐漸加寬的錐狀形成。
      [0017]依據(jù)該構(gòu)成,流入抑制壁以錐狀形成,突條部的密封長度變長,由此,抑制螺紋槽的排氣側(cè)出口的氣體越過突條部的排氣側(cè)端部而流入轉(zhuǎn)子的旋轉(zhuǎn)方向前方的螺紋槽,另夕卜,流入抑制壁沿著氣體排氣方向以平滑的錐狀形成,由此,螺紋槽內(nèi)的氣體順利地排氣,因而抑制螺紋槽的出口壓力的增加,同時,能夠進一步抑制起因于氣體滯留于螺紋槽的排氣側(cè)出口而導(dǎo)致的氣體生成物的堆積。
      [0018]權(quán)利要求4記載的發(fā)明提供如下的真空栗:除了權(quán)利要求2記載的發(fā)明的構(gòu)成之夕卜,前述突條部具備與前述吸氣側(cè)端部同寬地形成的等寬區(qū)域、和與該等寬區(qū)域連續(xù)而加寬至前述排氣側(cè)端部并形成前述流入抑制壁的加寬區(qū)域。
      [0019]依據(jù)該構(gòu)成,通過以遍及突條部的加寬區(qū)域內(nèi)而形成流入抑制壁的程度使突條部的密封長度變長,從而抑制螺紋槽的排氣側(cè)出口的氣體越過突條部的排氣側(cè)端部而流入轉(zhuǎn)子的旋轉(zhuǎn)方向前方的螺紋槽,因而能夠進一步抑制起因于氣體滯留于螺紋槽的排氣側(cè)出口而導(dǎo)致的氣體生成物的堆積。
      [0020]權(quán)利要求5記載的發(fā)明提供如下的真空栗:除了權(quán)利要求1記載的發(fā)明的構(gòu)成之夕卜,前述氣體滯留抑制裝置是從前述突條部的前述氣體排氣方向的排氣側(cè)的前述排氣側(cè)端部朝向前述轉(zhuǎn)子的前述旋轉(zhuǎn)方向的前方延伸設(shè)置而形成的流入抑制葉片。
      [0021]依據(jù)該構(gòu)成,流入抑制葉片從排氣側(cè)端部延伸設(shè)置至轉(zhuǎn)子的旋轉(zhuǎn)方向前方,突條部的密封長度變長,由此,抑制螺紋槽的排氣側(cè)出口的氣體越過突條部的排氣側(cè)端部而流入轉(zhuǎn)子的旋轉(zhuǎn)方向前方的螺紋槽,另外,流入抑制葉片僅局部地設(shè)置在螺紋槽的出口,由此,避免伴隨著流入抑制葉片的設(shè)置而發(fā)生的流動于螺紋槽內(nèi)的氣體流量的過度下降,因而保持氣體的流量,同時,能夠進一步抑制起因于氣體滯留于螺紋槽的排氣側(cè)出口而導(dǎo)致的氣體生成物的堆積。
      [0022]權(quán)利要求6記載的發(fā)明提供如下的真空栗:除了權(quán)利要求1記載的發(fā)明的構(gòu)成之夕卜,前述氣體滯留抑制裝置是豎立設(shè)置在前述轉(zhuǎn)子圓筒部或前述定子的排氣側(cè)端面的回旋滯留抑制壁。
      [0023]依據(jù)該構(gòu)成,由于在轉(zhuǎn)子圓筒部或定子的排氣側(cè)端面附近沿著轉(zhuǎn)子的旋轉(zhuǎn)方向回旋并滯留的氣體與回旋滯留抑制壁碰撞,氣體的滯留衰減,因而抑制氣體從轉(zhuǎn)子圓筒部或定子的排氣側(cè)端面附近逆流至螺紋槽內(nèi),因此,抑制螺紋槽的排氣側(cè)出口處的氣體的滯留,能夠抑制起因于氣體滯留于螺紋槽的排氣側(cè)出口而導(dǎo)致的氣體生成物的堆積。
      [0024]權(quán)利要求7記載的發(fā)明提供如下的真空栗:除了權(quán)利要求6記載的發(fā)明的構(gòu)成之夕卜,前述回旋滯留抑制壁具備相對于朝向前述轉(zhuǎn)子圓筒部或前述定子的軸心的法線方向而沿著前述轉(zhuǎn)子的前述旋轉(zhuǎn)方向傾斜的氣體誘導(dǎo)面。
      [0025]依據(jù)該構(gòu)成,回旋滯留抑制壁的氣體誘導(dǎo)面將容易滯留在轉(zhuǎn)子圓筒部或定子的排氣側(cè)端面的氣體朝向轉(zhuǎn)子圓筒部或定子的軸心誘導(dǎo),由此,進一步抑制滯留在轉(zhuǎn)子圓筒部或定子的排氣側(cè)端面
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