專利名稱：一種高分子樹(shù)脂碼盤(pán)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型屬于光電測(cè)量技術(shù)領(lǐng)域中的一種基底為高分子樹(shù)脂的光學(xué)碼盤(pán)。
二、技術(shù)背景光學(xué)碼盤(pán)，是光電軸角編碼器中的角度測(cè)量元件，隨著光學(xué)編碼盤(pán)位數(shù)的增高，光電軸角編碼器測(cè)量角度的精度也隨著提高，光學(xué)碼盤(pán)的質(zhì)量直接影響著光電軸角編碼器的工作狀態(tài)。
本實(shí)用新型以前，光學(xué)碼盤(pán)的基底，通常都是采用光學(xué)玻璃制做，也有用金屬制做的，與本實(shí)用新型最為接近的已有技術(shù)是長(zhǎng)春第一光學(xué)儀器廠生產(chǎn)的光學(xué)碼盤(pán)(在國(guó)內(nèi)占據(jù)很大的市場(chǎng))，如圖1、圖2所示，是由光學(xué)玻璃基底1、金屬鉻碼道2組成的。
該光學(xué)碼盤(pán)，由于以光學(xué)玻璃為基底，在較強(qiáng)的振動(dòng)環(huán)境或在較強(qiáng)的化學(xué)腐蝕條件下，極易損壞，而影響光電軸角編碼器的使用壽命，并給工作帶來(lái)?yè)p失，造成浪費(fèi)。
三
發(fā)明內(nèi)容
為了克服已有技術(shù)的缺點(diǎn)，本實(shí)用新型的目的在于提高光學(xué)碼盤(pán)的耐用性，延長(zhǎng)使用壽命，改進(jìn)光學(xué)碼盤(pán)基底的使用材料。
本實(shí)用要解決的技術(shù)問(wèn)題是用高分子樹(shù)脂材料做光學(xué)碼盤(pán)的基底，制造光學(xué)碼盤(pán)。
解決技術(shù)問(wèn)題的技術(shù)方案，如圖3和圖4所示，光學(xué)碼盤(pán)是由高分子樹(shù)脂基底3、碼道4組成。在高分子樹(shù)脂基底3上真空鍍涂一層鉻膜經(jīng)腐蝕形成碼道4。
本實(shí)用新型的積極效果以高分子樹(shù)脂為基底的光學(xué)碼盤(pán)，抗振動(dòng)和沖擊，抗化學(xué)腐蝕，耐用，提高編碼器的使用壽命，帶來(lái)極佳的社會(huì)效益和經(jīng)濟(jì)效益。
四

圖1是已有技術(shù)的結(jié)構(gòu)正視示意圖，圖2是已有技術(shù)的剖面結(jié)構(gòu)示意圖，圖3是本實(shí)用新型的正視結(jié)構(gòu)示意圖，圖4是本實(shí)用新型的剖面結(jié)構(gòu)示意圖，摘要附圖亦用圖3。
五具體實(shí)施方式
本實(shí)用新型按圖3和圖4所示的結(jié)構(gòu)實(shí)施，高分子樹(shù)脂基底3采用OM-101高分子樹(shù)脂材料，碼道4采用鍍鉻涂層，經(jīng)腐蝕而成。
權(quán)利要求1.一種高分子樹(shù)脂碼盤(pán)，是由基底和碼道組成的，其特征在于本實(shí)用新型的碼盤(pán)基底采用高分子樹(shù)脂基底(3)，在高分子樹(shù)脂基底(3)上真空鍍涂一層鉻膜經(jīng)腐蝕形成碼道(4)。
專利摘要一種高分子樹(shù)脂碼盤(pán)，屬于光電測(cè)量技術(shù)領(lǐng)域中的一種以高分子樹(shù)脂為基底的光學(xué)碼盤(pán)。本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種以高分子樹(shù)脂為基底的光學(xué)碼盤(pán)，提高碼盤(pán)耐振動(dòng)、沖擊和抗化學(xué)腐蝕性能，延長(zhǎng)光學(xué)碼盤(pán)的使用壽命，本實(shí)用新型是由碼盤(pán)基底和碼道組成的，技術(shù)方案是在高分子樹(shù)脂的基底上，真空涂鍍一層鉻層，經(jīng)腐蝕后形成碼盤(pán)。
文檔編號(hào)G01B21/22GK2684147SQ03251670
公開(kāi)日2005年3月9日 申請(qǐng)日期2003年5月21日 優(yōu)先權(quán)日2003年5月21日
發(fā)明者王平, 徐邁, 劉文才, 孫維忠, 馬志彪 申請(qǐng)人:長(zhǎng)春市恩特爾新型材料有限責(zé)任公司