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      一種測(cè)量高速裂紋擴(kuò)展的速率儀的制作方法

      文檔序號(hào):6106664閱讀:302來(lái)源:國(guó)知局
      專利名稱:一種測(cè)量高速裂紋擴(kuò)展的速率儀的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本實(shí)用新型屬于測(cè)量材料快速斷裂擴(kuò)展速率用的機(jī)械領(lǐng)域,具體為一種測(cè)量高速裂紋擴(kuò)展的速率儀。
      背景技術(shù)
      目前,由于單晶硅做成的晶片在技術(shù)領(lǐng)域有非常廣泛的應(yīng)用,例如應(yīng)用于集成電路等,但隨著科技技術(shù)的飛速發(fā)展,人們對(duì)工作和生活的要求越來(lái)越高,有些電器的形狀、體積、重量越來(lái)越追求美觀、小巧、輕便。因此電器的元器件做得也越來(lái)越小、越輕。但對(duì)于又薄又小的單晶片,使用過(guò)程中會(huì)受到各種各樣的應(yīng)力作用,容易引起疲勞和斷裂,導(dǎo)致器件破損。因此,表征和測(cè)試單晶片的力學(xué)性能特性成為提高單晶片及成品的壽命和可靠性的關(guān)鍵因素。目前,人們一般通過(guò)測(cè)試單晶片的疲勞壽命及裂紋擴(kuò)展速率來(lái)標(biāo)定單晶片的性能指標(biāo)。
      實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供一種測(cè)量高速裂紋擴(kuò)展的速率儀,通過(guò)該儀器測(cè)出裂紋的擴(kuò)展速率來(lái)研究單晶片的力學(xué)性能。
      本實(shí)用新型的技術(shù)方案是一種測(cè)量高速裂紋擴(kuò)展的速率儀,包括橋式電路、與試驗(yàn)機(jī)相連的單晶片、安裝于橋式電路輸出端的示波器,橋式電路由標(biāo)準(zhǔn)電阻和可變電阻構(gòu)成,單晶片串聯(lián)在可變電阻所在的電橋上。
      本實(shí)用新型的有益效果是由于微小單晶片脆性大,單晶片整個(gè)斷裂時(shí)間一般在10-6s~10-5s,因此不能用一般的方法測(cè)量其裂紋擴(kuò)展速率,當(dāng)單晶片在電路中出現(xiàn)裂紋并擴(kuò)展時(shí),單晶片的電阻將發(fā)生變化,因此回路中電壓值將發(fā)生變化。本實(shí)用新型通過(guò)示波器記錄串聯(lián)于橋式電路中的單晶片電壓計(jì)算出電阻,通過(guò)計(jì)算得到裂紋長(zhǎng)度和裂紋擴(kuò)展速率,從而更好地表征和測(cè)試單晶片的力學(xué)性能特性,以便研究提高單晶片及成品的壽命和可靠性的方法。


      圖1為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖。
      圖2為示波器測(cè)得電壓與時(shí)間變化的曲線。
      具體實(shí)施方式
      如圖1-2所示,把待測(cè)單晶片在裝入試驗(yàn)前串聯(lián)在可變電阻R1所在的電橋(R1路電橋)上,根據(jù)所測(cè)單晶片的電阻值,選擇適當(dāng)電阻R2=R3=R4為標(biāo)準(zhǔn)電阻,在電橋輸入端(圖中“+-”極之間)輸入電壓U,調(diào)節(jié)可變電阻R1使電橋輸出端電壓為零,電橋平衡。電橋輸出端連接高速記憶示波器,即使示波器電壓顯示為零,但一般來(lái)說(shuō)很難使電壓剛好為零,只能近似為零。此時(shí)把單晶片裝入試驗(yàn)機(jī)上,開(kāi)始試驗(yàn),當(dāng)單晶片出現(xiàn)裂紋斷裂,單晶片的電阻將發(fā)生變化,即變大,電橋失去平衡,使輸出端電壓不為零,單晶片斷裂瞬間,R1路電橋斷路,輸出端電壓僅為R3兩端電壓,此時(shí)輸出電壓最大,通過(guò)示波器觸發(fā)式測(cè)得電壓最大值以及電壓升高的時(shí)間t,發(fā)生斷裂后的輸出端最大電壓值為 采用本實(shí)用新型具體操作過(guò)程是(1)先根據(jù)電壓變化公式U=RI(I已知),計(jì)算出單晶片瞬時(shí)電阻R;(2)再通過(guò)裂紋長(zhǎng)度W與瞬時(shí)電阻R的函數(shù)關(guān)系W=f(R),求出裂紋長(zhǎng)度W,公式為W=W0-k&CenterDot;lR&CenterDot;B]]>W為沿單晶片寬度方向的裂紋長(zhǎng)度(m);W0為樣品寬度(m);K為單晶片導(dǎo)電系數(shù)(電阻率Ω·m);1為樣品長(zhǎng)度(m);R為單晶片瞬時(shí)電阻(Ω);B為單晶片厚度(m);U為瞬時(shí)電壓(V)。
      (3)最后根據(jù)公式V=W/t,計(jì)算出裂紋擴(kuò)展速率,其中V為擴(kuò)展速率,W為裂紋長(zhǎng)度(m),t為時(shí)間(s)。
      權(quán)利要求1.一種測(cè)量高速裂紋擴(kuò)展的速率儀,其特征在于包括橋式電路、與試驗(yàn)機(jī)相連的單晶片、安裝于橋式電路輸出端的示波器,橋式電路由標(biāo)準(zhǔn)電阻(R2、R3、R4)和可變電阻(R1)構(gòu)成,單晶片串聯(lián)在可變電阻(R1)所在的電橋上。
      專利摘要本實(shí)用新型屬于測(cè)量材料快速斷裂擴(kuò)展速率用的機(jī)械領(lǐng)域,具體為一種測(cè)量高速裂紋擴(kuò)展的速率儀,包括橋式電路、與試驗(yàn)機(jī)相連的單晶片、安裝于橋式電路輸出端的示波器,橋式電路由標(biāo)準(zhǔn)電阻(R2、R3、R4)和可變電阻(R1)構(gòu)成,單晶片串聯(lián)在可變電阻(R1)所在的電橋上。本實(shí)用新型通過(guò)示波器記錄串聯(lián)于橋式電路中的單晶片電壓變化、電阻變化,通過(guò)計(jì)算得到裂紋長(zhǎng)度和裂紋擴(kuò)展速率,從而更好地表征和測(cè)試單晶片的力學(xué)性能特性,以便研究提高單晶片及成品的壽命和可靠性的方法。
      文檔編號(hào)G01N33/00GK2856998SQ20052009428
      公開(kāi)日2007年1月10日 申請(qǐng)日期2005年12月9日 優(yōu)先權(quán)日2005年12月9日
      發(fā)明者溫井龍, 譚軍, 姚戈 申請(qǐng)人:中國(guó)科學(xué)院金屬研究所
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