專利名稱：采樣和運(yùn)送設(shè)備及方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于測(cè)量領(lǐng)域，更具體地，屬于分析之前的采樣領(lǐng)域。具體地，本發(fā)明設(shè)計(jì)一種可以采集顆粒、分子和生物污染物、尤其是 將它們釆集到密閉環(huán)境里的設(shè)備，并且還可以用該設(shè)備封閉并運(yùn)送樣品， 以獲得代表在受控環(huán)境中最初出現(xiàn)的不同污染源的分析。本發(fā)明還涉及一種在密閉空間中對(duì)浮質(zhì)進(jìn)行表面釆集的方法。
技術(shù)背景顆粒污染物一一也,皮稱為浮質(zhì)一一是懸浮在氣體環(huán)境(空氣或其它氣 體)中的固體顆粒。可以通過(guò)它們的性質(zhì)、其尺寸分布(從幾分之幾納米 到幾百微米)及其每單位體積內(nèi)的濃度描述它們的特性。在密閉的工業(yè)環(huán)境中，污染物或灰塵量等級(jí)根據(jù)ISO 14644-1中提到 的清潔度等級(jí)來(lái)規(guī)定；ISO 14698標(biāo)準(zhǔn)用于生物污染物的情形。為了比較 和分類相關(guān)^h質(zhì)需要一些測(cè)量方法，然而，這些方法的標(biāo)準(zhǔn)化只是相對(duì)的。一般地，與凈化室和相關(guān)受控密閉環(huán)境的污染物和灰塵等級(jí)有關(guān)的信 息借助顆粒計(jì)數(shù)器或凝結(jié)核計(jì)數(shù)器獲得。然而，使用這種裝備只給出了與 外殼的污染量有關(guān)的信息，而不可以確定顆粒的起源和性狀；為了評(píng)估清 潔度，形態(tài)學(xué)和化學(xué)特性也被證實(shí)是必需的。例如，用顆粒光學(xué)計(jì)數(shù)器可以獲得在某個(gè)所采樣的氣體量中的顆粒的 數(shù)目這些顆粒發(fā)生光的漫射和/或吸收，這可能又與顆粒的尺寸相關(guān)。然 而，該途徑通常以將顆粒的形狀同化為球形為基礎(chǔ)，而未考慮由于其物理 化學(xué)特性引起的顆粒的光學(xué)特性，例如由于其成分而導(dǎo)致的光的吸收。此外，借助動(dòng)力抽吸系統(tǒng)，可對(duì)存在于環(huán)境中的污染物進(jìn)行測(cè)量。然 而，這些測(cè)量涉及通過(guò)筒單地提供抽吸和所產(chǎn)生的流量而從在清潔度以及 空氣動(dòng)力特性方面混亂的環(huán)境中通常以居中方式采才羊的體積?，F(xiàn)在，在許多方法中，實(shí)際上，在所制造產(chǎn)品表面的占主導(dǎo)的浮質(zhì)污
染物的性狀是旨在獲得尤其是表面成分盡可能清潔的材料。這樣，與產(chǎn) 品表面和浮質(zhì)顆粒之間相互作用相關(guān)的具體信息是所希望的。因此，需要優(yōu)化在密閉外殼中的污染物采樣，并允許在不改變它們的 情況下的分析。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的主要目的是克服現(xiàn)有釆樣設(shè)備的缺點(diǎn)。本發(fā)明的其中一個(gè)方面涉及采樣設(shè)備，其可以適于多種外殼，使得存 在于周圍大氣中的污染物和/或顆粒污染可以收回。通過(guò)在所限定的基底上 沉積，在表面處進(jìn)行采樣，以最佳地適合于顆粒的實(shí)際性狀。有利地，用于對(duì)污染物進(jìn)行采樣的設(shè)備與待測(cè)試的環(huán)境在清潔度方面 是相兼容的；具體地，當(dāng)發(fā)現(xiàn)環(huán)境的灰塵等級(jí)如ISO 14644-1標(biāo)準(zhǔn)中所限 定時(shí)，該設(shè)備不提供能夠破壞初始值或所需閾值的任何顆粒污染物。這樣， 可以通過(guò)在合適的基底上沉積而借助對(duì)不同污染物的(本地)采集來(lái)獲得 材料的表面污染狀況，在采樣時(shí)，污染物還未沉積在表面上。通過(guò)分析該 樣品(基底和/或所采集的污染物)，其可以描述該污染物的特性并識(shí)別出 其源頭及有害物質(zhì)；借助優(yōu)選實(shí)施方式的設(shè)備，還可以封閉該基底以及所 采集的樣品，直到分析地點(diǎn)，以保持才羊品的完整性。本發(fā)明還涉及一種方法，該方法可在三個(gè)方面得到應(yīng)用。具體地，優(yōu) 選的方法包括在外殼和采樣設(shè)備之間提供密封連接，使得外殼的大氣不發(fā) 生變化。根據(jù)本發(fā)明，該方法又包括通過(guò)滑動(dòng)而朝該外殼內(nèi)部引導(dǎo)位于該 設(shè)備中的采樣基底，該基底及該外殼的大氣持續(xù)或長(zhǎng)或短的一段暴露時(shí) 間，然后滑動(dòng)基底而使得它們密封地保持在該設(shè)備中，隨后斷開該f殳備和 外殼之間的連接。對(duì)表面已采集有污染物的基底的分析可以立即進(jìn)行，或 者優(yōu)選地通過(guò)將其在設(shè)備內(nèi)以封閉方式保持所需時(shí)間而進(jìn)行，從而它們未 發(fā)生變化。因而， 一種特別合適的設(shè)備包括支撐件，該支撐件設(shè)置有用于放置由 封套滑進(jìn)滑出的采樣基底的裝置。有利地，通過(guò)選擇材料而使得該滑動(dòng)不 產(chǎn)生任何污染碎屑，所述材料是例如由于其摩擦系數(shù)而使產(chǎn)生的顆粒少的 低顆粒生成材料；因而，它們二者都可以是Teflon .優(yōu)選地，通過(guò)將該 支撐件以可拆下或不可拆下方式連接到操作桿或握持手柄而協(xié)助滑動(dòng)。該支撐件/封套組件可以集成到本體部，例如金屬本體部，該本體部穩(wěn) 固地附連到該封套并允許該支撐件的相對(duì)運(yùn)動(dòng)。優(yōu)選地，該機(jī)殼或4L體部 制成為通過(guò)設(shè)置襯墊和/或蓋式部件而限定密封的或氣密地密封內(nèi)部。有利 地，該本體部在端部為該支撐件的通道設(shè)置有標(biāo)準(zhǔn)化的端部件，該端部件 提供與另 一端部件的密封連接。從而，該設(shè)備的設(shè)計(jì)相對(duì)于待控制的環(huán)境的外部大氣^1供非常好的隔 離，在斷開該設(shè)備后也具有良好的封閉性。該支撐件可具有矩形或方形區(qū)段，并包括作為放置裝置的殼體，該殼 體在側(cè)壁上開口。該支撐件可優(yōu)選地設(shè)置有水平和/或豎直、和/或相對(duì)于 腔體的底部?jī)A斜的凹口，使得標(biāo)準(zhǔn)化的基底可放置在其內(nèi)，例如尺寸為lxlcm ( ± 10% )。


通過(guò)閱讀隨后的說(shuō)明并參照示意性給出的不具有限制意義的附圖，將 會(huì)更好地理解本發(fā)明的特征和優(yōu)點(diǎn)。圖1示出處于采樣位置的根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施方式的設(shè)備。圖2示出圖1的i殳備的截面圖并且其處于封閉位置。
具體實(shí)施方式
根據(jù)本發(fā)明的采樣設(shè)備通過(guò)在密閉介質(zhì)中沉積而提供對(duì)顆粒污染物 的采集，允許通過(guò)所沉積的污染物的靜態(tài)測(cè)量進(jìn)行分析。污染物被采集在采樣基底上，其中采樣基底被插入到待分析的^h質(zhì)中 并l^被封閉在采樣設(shè)備中。因而，結(jié)果表示相關(guān)敏感表面上的沉積，但 是其并非源于從之前已經(jīng)沉積的表面通過(guò)轉(zhuǎn)移進(jìn)行的采樣。具體地，不使 用任何動(dòng)力抽吸避免了尤其是在清潔度和空氣動(dòng)力特性等級(jí)方面對(duì)測(cè)量 產(chǎn)生干擾。如圖1和2所示，根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施方式的采樣與封閉設(shè)備1包括 釆樣支撐件2,支撐件2可滑進(jìn)滑出封套4。支撐件2沿著滑動(dòng)軸線AA縱 向地延伸；有利地，支撐件2具有四邊形的、優(yōu)選地為矩形或方形的徑向 剖面。封套4具有的尺寸和形狀與支撐件2相適應(yīng)；支撐件2可處于封閉 位置，在該封閉位置，支撐件2位于封套4內(nèi)；支撐件2可朝向采樣位置
滑動(dòng)，在該采樣位置，支撐件2部分地位于其封套4之外。有利地，在支 撐件2和封套4之間沒(méi)有任何產(chǎn)生顆粒的摩擦的情形下進(jìn)行滑動(dòng)其材料 適當(dāng)?shù)剡x擇為具有低摩擦系數(shù)；優(yōu)選地，支撐件2和封套4之間的接觸表 面具有同樣的組成。因而，優(yōu)選地，通過(guò)滑動(dòng)產(chǎn)生的碎屑數(shù)量最少，特別 是它們的性質(zhì)盡可能不對(duì)所采樣的樣品造成損害，使得能夠在分析期間快 速地分辨并去除它們。具體地，希望當(dāng)它們的清潔度符合閾值時(shí)，例如諸 如ISO 14644-1標(biāo)準(zhǔn)的標(biāo)準(zhǔn)中所規(guī)定的灰塵等級(jí)標(biāo)準(zhǔn)，進(jìn)行采樣的環(huán)境應(yīng) 該不會(huì)被可能造成環(huán)境超過(guò)該閾值的顆粒所污染。優(yōu)選地，封套4和支撐 件2為Teflon ,特別用于對(duì)金屬型污染物的采樣。采樣支撐件2使得采樣基底6可被定位。有利地，可取下這樣的基底 6以便進(jìn)行分析；方便地，它們是方形板，側(cè)邊的量級(jí)為lcm( 0.9到l.lcm )， 厚度量級(jí)為毫米，具有無(wú)機(jī)、有機(jī)或細(xì)胞的性質(zhì)(例如根據(jù)ISO 14698標(biāo) 準(zhǔn)的生物膜采集)。根據(jù)待采樣的成分并根據(jù)相關(guān)的表面處理以及根據(jù)所 希望的特性的類型而選擇采樣基底6。為了確定污染物的尺寸和性質(zhì)，采 樣基底6例如可以是碳質(zhì)粘附劑；對(duì)于所確定的諸如>^面的敏感材料與 污染物之間的界面在粘附方面的特性，基底6可由這種確定的材料以及可 能的相關(guān)表面處理構(gòu)成。有利地，采樣支撐件2設(shè)置有用于將具有相同或不同性質(zhì)的多個(gè)基底 6放置在同一支撐件2上的裝置8，從而允許同時(shí)進(jìn)行多個(gè)測(cè)量。在優(yōu)選實(shí) 施方式中，用于定位基底的裝置包括位于支撐件2中的、例如在支撐件2 的壁上的至少一個(gè)機(jī)加工殼體8，其具有矩形、方形或圓形截面，沿著滑 動(dòng)軸線AA延伸基底6例如可以豎直或者水平地定位在殼體8中。有利 地，殼體8為此目的設(shè)置有凹口優(yōu)選地成對(duì)設(shè)置，位于殼體8的側(cè)壁上、 由在支撐件2的主要部分上進(jìn)行機(jī)加工而形成的凹口確保了基底6被保持 在位，例如保持在殼體8內(nèi)相對(duì)于AA軸線傾斜或垂直的位置，特別是當(dāng) 將采樣位置設(shè)定在待控制的外殼中時(shí)。在同 一支撐件2上可結(jié)合多種定位 裝置和/或基底6的位置的不同構(gòu)造。封套4可以為管狀形式，即具有腔體，處于縮回位置的支撐件2完全 定位在該腔體內(nèi)。封套4還可以包括朝用于定位基底6的殼體8橫向敞開 的腔體。支撐件2的遠(yuǎn)端是實(shí)心的，并與封套4的遠(yuǎn)端孔相配合，從而， 當(dāng)支撐件2縮回在其封套4內(nèi)時(shí)，封套4的孔被堵住例如，封套4設(shè)置 有具有與支撐件2的截面配合的方形截面的孔，并在孔的遠(yuǎn)端具有擴(kuò)大部分，支撐件2的互補(bǔ)遠(yuǎn)端將容納在該擴(kuò)大部分中。支撐件2的另一端可以穩(wěn)固地——優(yōu)選地以可拆下方式(例如通過(guò)螺 接類型的連接) 一一附連到操作桿IO，操作桿10連接到握持手柄12，從 而方便對(duì)支撐件2相對(duì)于其封套4的滑動(dòng)進(jìn)行操作。在此情形下，封套4 的近端設(shè)置有直徑大于桿10的直徑的孔，以便于滑動(dòng)。為了優(yōu)化該分析，希望對(duì)相關(guān)環(huán)境盡可能少地產(chǎn)生影響而進(jìn)行采樣。 對(duì)于手套箱型的或者制造裝置內(nèi)部的密閉空間，傳統(tǒng)上設(shè)置有用于與外部 連通的裝置，在采樣設(shè)備l上設(shè)置裝置，以便以密封方式與其連接。從而，設(shè)備l包括縱向機(jī)殼或本體部14，其容納封套4，有利的是， 封套4穩(wěn)固地附連到本體部14。中空的、優(yōu)選為圓筒形的本體部14還用 于以更堅(jiān)固的結(jié)構(gòu)運(yùn)送封套和支撐件有利地，機(jī)殼14為金屬的，例如為 不銹鋼的。本體部14適于使得采樣支撐件2可向外滑動(dòng)。因此，本體部14的近 端部分可設(shè)置有用于使操作桿10通過(guò)的孔。有利地，該孔"^殳置有襯墊16, 該襯墊例如可以是O型圈和/或由"壓縮密封裝置，，系統(tǒng)擠壓。在此情形 下，封套4的近端孔可以比桿10的尺寸大得多，并且其上不設(shè)置連接點(diǎn) 基底6的密封封閉可由中空本體部14提供。由此實(shí)施方式，可減少桿IO 和封套4之間的摩擦以及可能產(chǎn)生的碎屑。在本體部的遠(yuǎn)端，具有用于^f吏支撐件2穿過(guò)的孔，本體部14優(yōu)選地 與可拆下的蓋一一例如塞子18相關(guān)聯(lián) 一旦樣品已經(jīng)采集，并且支撐件2 位于其封閉位置，則可以通過(guò)^或者^(guò)JV塞子18而堵住機(jī)殼14的端部， 從而運(yùn)送設(shè)備l。如果手柄12和操縱桿10可取下并收回，這種蓋還可以 設(shè)置在本體部的近端，以便于運(yùn)送樣品，從而節(jié)省空間，并且例如在另一 設(shè)備上重復(fù)使用手柄IO、 12。為了在待分析的封閉環(huán)境和采樣設(shè)備1之間提供密封連接，本體部14 的遠(yuǎn)端有利地設(shè)置有端部件20，通過(guò)端部件20，其附連到待測(cè)試的外殼的 連通裝置上。優(yōu)選地，端部件20形成了本體部14的遠(yuǎn)端，并且為標(biāo)準(zhǔn)化 接口形式；例如，本體部14的端部是源于真空技術(shù)的DN40類型的端部件 20:這種端部件與受壓的襯墊類似，可以以標(biāo)準(zhǔn)化且真空兼容的方式連接 到合適的連通裝置上。從而可以按照標(biāo)準(zhǔn)化程序?qū)⒏鶕?jù)本發(fā)明的設(shè)備連接到設(shè)置有相應(yīng)的
端部件的應(yīng)在其中進(jìn)行釆樣的密閉空間而后，在沒(méi)有任何內(nèi)部大氣擾動(dòng) 的情況下提供由設(shè)備1和密閉外殼構(gòu)成的系統(tǒng)的密封。支撐件2然后通過(guò) 滑動(dòng)被導(dǎo)入到外殼中并被導(dǎo)出本體部14/封套4的組件，以在基底6上進(jìn) 行采樣并釆集浮質(zhì)，其中通過(guò)選擇在彼此相對(duì)滑動(dòng)時(shí)僅僅產(chǎn)生4艮少^f屑的 材料而沒(méi)有改變環(huán)境。在采樣結(jié)束時(shí)，設(shè)置有其上沉積有顆粒樣品的基底 6的支撐件2通過(guò)滑入封套4而恢復(fù)結(jié)合，在斷開端部件20與連通裝置的 連接時(shí)，借助支撐件2的遠(yuǎn)端與封套的遠(yuǎn)端之間的配合，至少獲得部分密 封。如果需要的話，可再通過(guò)設(shè)置塞子18而優(yōu)化密封 一旦樣品已經(jīng)采集， 從而可以直到分析一直保持它們遠(yuǎn)離外界污染，所述分析可以遠(yuǎn)離采樣地 點(diǎn)、時(shí)間進(jìn)行而不會(huì)改變結(jié)果。有利地，根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備l可完全被拆卸具體地，采樣支撐件2 可完全與其封套4脫離，封套4自身可以相對(duì)于外部本體部14取下。由此 實(shí)施方式，如果需要的話，可以清潔設(shè)備l的組件，并且這廣泛地適于各 種形成不同部件的材料。從而使設(shè)備1與大多數(shù)所要求的清潔度等級(jí)(IS04 類中的)相兼容。此外，該拆卸還允許同一手柄10、 12、同一機(jī)殼14甚或同一封套4用于多個(gè)可互換的采樣支撐件2,并根據(jù)所需的使用以;M目關(guān)的基底6進(jìn)行選擇。根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備l的不同部件可由合適的不同材料制成；有利地，所述材料相對(duì)于設(shè)備l所處環(huán)境可以是中性的，進(jìn)而不會(huì)改變灰塵等級(jí)，尤其是當(dāng)其符合相關(guān)環(huán)境的標(biāo)準(zhǔn)時(shí)。優(yōu)選地，設(shè)備l的、特別是殼體8的 內(nèi)表面具有最小的物理化學(xué)吸收性，以在采樣基底6而不是在實(shí)際的支撐 件2上提供污染物的選擇性連接。因此，根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備l將三個(gè)工具組合到一起成為一個(gè)工具，即 其既是用于對(duì)污染物采樣的工具、還是用于封閉的工具、也是用于運(yùn)送樣 品的工具 一旦采集后，樣品可儲(chǔ)存在基底6上進(jìn)而位于封套4中以供運(yùn) 輸，設(shè)備l不需^f壬何輔助性的操作和調(diào)節(jié)設(shè)備。在其表面上包括所獲取 的樣品的采樣基底6可立即或者經(jīng)過(guò)一段或長(zhǎng)或短的運(yùn)送時(shí)間后由不同的 測(cè)量裝置分析。穩(wěn)固地附連到支撐件2并封閉在i殳備1的本體部14內(nèi)的基底6可以 通過(guò)朝封套4外部滑動(dòng)而在分析地點(diǎn)取出，其過(guò)程與釆樣過(guò)程類似。具體
地，由此，樣品可由合適的物理化學(xué)方法(掃描電子顯微鏡，可能與MEB-EDS X射線探測(cè)裝置相關(guān)聯(lián)；紅外分光鏡，可能借助傅立葉變換 (FTIR);…)描述特性，以確定所感興趣的不同特性(性質(zhì)，污染物的 量，…)，而對(duì)于采樣地點(diǎn)沒(méi)有任何限制?？紤]到為了獲得可靠的結(jié)果，表面量級(jí)為1 112或者甚至更大的基底6 需要合理的曝露時(shí)間。為了獲得足夠數(shù)量的同步采樣樣品，具體而言為12 個(gè)樣品，優(yōu)選實(shí)施方式包括軸對(duì)稱的圓柱形不銹鋼本體部，其直徑介于40 —50mm之間，例如45mm，總長(zhǎng)300 — 350mm (即考慮端部部分在內(nèi))， 例如320mm。由此實(shí)施方式，可以具有小于550mm的最大主要部分(設(shè) 備l的遠(yuǎn)端直到手柄12)，使得采樣能夠在所有的密閉外殼內(nèi)進(jìn)行，通常 在其周圍有l(wèi)m的空間。而且，由于其重量較輕(小于35kg)、其處理能 力以及其結(jié)實(shí)度(現(xiàn)復(fù)、沖擊強(qiáng)度)，設(shè)備l可容易地使用并運(yùn)送，而不存 在使樣品劣化的危險(xiǎn)。而且，由于其不需要任何能量或流體(氣體或液體) 來(lái)操作，其可在非常隔離的地點(diǎn)使用。根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備能夠用于浮質(zhì)可能具有影響的所有科學(xué)和工業(yè)領(lǐng) 域。具體地，可以將根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備應(yīng)用到具有受控灰塵等級(jí)的空間或 環(huán)境，例如才艮據(jù)ISO 14644-7標(biāo)準(zhǔn)，諸如潔凈室和相關(guān)的隔離間(清潔空 氣站、手套箱、隔離室以及"超微環(huán)境，，)。相關(guān)領(lǐng)域具體地包括光學(xué)、激 光、航空航天、電子、集成電路、農(nóng)產(chǎn)食品、制藥、特別是粉末的納米技 術(shù)、醫(yī)藥以及醫(yī)院環(huán)境，等等。使得污染物可與待測(cè)試外殼兼容，根據(jù)本發(fā)明的采樣設(shè)備本身不會(huì)對(duì) 密封環(huán)境內(nèi)的清潔鏈形成任何破壞，也不會(huì)在實(shí)際設(shè)備內(nèi)部對(duì)清潔鏈形成 任何破壞。通過(guò)在設(shè)計(jì)和組裝整體時(shí)選擇材料，設(shè)備內(nèi)部對(duì)于環(huán)境和樣品 的污染危險(xiǎn)幾乎為零(潛在的背景噪音最小)產(chǎn)生的顆粒和分子污染物 質(zhì)(例如通過(guò)吸附)最少。
權(quán)利要求
1.一種用于對(duì)顆粒進(jìn)行采樣的設(shè)備(1)，包括采樣支撐件(2)，其設(shè)置有用于定位至少一個(gè)采樣基底(6)的定位裝置(8)；和縱向封套(4)，所述采樣支撐件(2)能夠在縱向封套(4)中沿著所述設(shè)備(1)的軸線(AA)在第一采樣位置和第二封閉位置之間滑動(dòng)，在所述第一采樣位置，所述定位裝置(8)位于所述封套(4)外部，在所述第二密封位置，所述支撐件(2)位于所述封套(4)內(nèi)并且所述設(shè)備(1)繞所述用于定位基底(6)的裝置(8)密封，其中，所述支撐件(2)和所述封套(4)由在它們相對(duì)于彼此滑動(dòng)時(shí)產(chǎn)生極少碎屑的材料構(gòu)成，使得進(jìn)行采樣的外部環(huán)境中的ISO 14644-1標(biāo)準(zhǔn)中所規(guī)定的灰塵等級(jí)不會(huì)由滑動(dòng)產(chǎn)生的顆粒污染改變。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中，所述支撐件(2 )和所述封套 (4)為Teflon 材料的。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1到2中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，其中，所述支撐件(2 ) 具有矩形的徑向截面。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1到3中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，其中，所述定位裝置包 括位于所述支撐件(2)中的至少一個(gè)機(jī)加工的殼體(8)，其沿著所述軸線CAA)延伸-
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的設(shè)備，其中，所述定位裝置包括在所述機(jī)加 工的殼體(8)的內(nèi)壁上的至少一個(gè)凹口。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的設(shè)備，其中，每個(gè)凹口在所述支撐件(2) 的主要部分中成對(duì)地機(jī)加工設(shè)置，從而允許所述基底(6)插入到所述成對(duì) 的凹口中，且所iiS底(6)相對(duì)于所述設(shè)備(1)的軸線(AA)形成一角 度，具體是等于卯?；?80。的角度。
7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的設(shè)備，其中，所述殼體(8)具有方形的徑 向截面，其側(cè)邊介于0.9到l.lcm之間，且所述成對(duì)的凹口垂直于所述軸 線(AA)。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1到7中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，包括本體部(14 )，所 述本體部穩(wěn)固地繞所述封套(4 )附連，所述本體部(14 )的遠(yuǎn)端i更置有用 于所述支撐件(2 )通過(guò)的孔。
9. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的設(shè)備，其中，所述本體部(14)的遠(yuǎn)端孔包 括密封的連接裝置(20)。
10. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的設(shè)備，其中，所述連接裝置(20 )是DN40 型的端部件。
11. 根據(jù)權(quán)利要求8到10中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，還包括塞子(18)， 其能夠以可密封的方式堵住所述本體部(14)的遠(yuǎn)端孔。
12. 根據(jù)權(quán)利要求8到11中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，其中，所述本體部(14 ) 的近端包括^f吏得所述本體部(14 )繞所述定位裝置(8 )形成密封外殼的裝 置(16)。
13. 根據(jù)權(quán)利要求12所述的設(shè)備，在所述本體部(14 )的近端包括O 形圏襯墊(16),其能夠讓桿(10)以可密封的方式滑動(dòng)穿過(guò)。
14. 根據(jù)權(quán)利要求8到13中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，其中，所述本體部(14 ) 是金屬的，例如為不銹鋼的。
15. 根據(jù)權(quán)利要求1到14中任一項(xiàng)所述的設(shè)備，其中，所述支撐件(2 ) 的近端包括螺故部分，所述封套(4)的近端包括面對(duì)所述螺玟部分的孔。
16. 根據(jù)權(quán)利要求15所述的設(shè)備，還包括能夠螺接到所述支撐件(2 ) 的螺紋部分以輔助其滑動(dòng)的裝置(10、 12)。
17. —種用于在設(shè)置有連通裝置的密閉環(huán)境中采集浮質(zhì)污染物的方法， 包括-將采樣設(shè)備(1)連接在所述連通裝置上，所述采樣設(shè)備(1)包括 外殼U、 14)，其設(shè)置有與所述連通裝置配合的端部件(20);和支撐件(2)， 其設(shè)置有至少一個(gè)采樣基底(6)，并且其在所述外殼(4、 14)內(nèi)滑動(dòng)；-將所述設(shè)備(1)的支撐件(2)導(dǎo)入所述密封環(huán)境內(nèi)；-將污染物采集到所述釆樣基底(6)上；-滑動(dòng)所述支撐件(2)，使得所述采樣基底(6)和所采集的污染物 以可密封的方式置于所述i殳備(1)的外殼內(nèi)；-斷開所述設(shè)備(1)與環(huán)境的連接。
18. 根據(jù)權(quán)利要求17所述的方法，還包括將所述基底(6)封閉在所 述設(shè)備(1)內(nèi)。
19. 根據(jù)權(quán)利要求17或18所述的方法，其中，所述設(shè)備(1)是如權(quán) 利要求1到16中任一項(xiàng)所限定的設(shè)備。
全文摘要
本發(fā)明公開一種用于對(duì)顆粒污染物進(jìn)行采樣的設(shè)備(1)，其可以適用于多種密閉外殼并允許對(duì)存在于所述外殼的大氣中的污染物和/或污染物質(zhì)進(jìn)行表面采集。利用該采樣方法，能夠獲得與其性狀相關(guān)的具體信息。具體地，所述采樣設(shè)備(1)包括支撐件(2)，基底(6)可定位在其上用于采集樣品。設(shè)備(1)實(shí)現(xiàn)為隔離所獲取的樣品，直到到達(dá)分析地點(diǎn)，以便提高測(cè)量特性。
文檔編號(hào)G01N1/22GK101163953SQ200680013792
公開日2008年4月16日 申請(qǐng)日期2006年4月28日 優(yōu)先權(quán)日2005年5月3日
發(fā)明者伊莎貝爾·托韋納-佩科, 帕特里克·馬納克, 斯特凡妮·帕爾米耶 申請(qǐng)人:原子能委員會(huì)